JPS6210010A - 脱毛剤 - Google Patents
脱毛剤Info
- Publication number
- JPS6210010A JPS6210010A JP14896385A JP14896385A JPS6210010A JP S6210010 A JPS6210010 A JP S6210010A JP 14896385 A JP14896385 A JP 14896385A JP 14896385 A JP14896385 A JP 14896385A JP S6210010 A JPS6210010 A JP S6210010A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polymer compound
- depilatory
- hair
- polymeric compound
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Cosmetics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は人体面から体毛を激痛、不快臭を伴うことなく
美麗に除毛することができる脱毛剤に間するものである
。
美麗に除毛することができる脱毛剤に間するものである
。
従来、脱毛剤としては、ワックスの態様のもの、脱毛薬
物含有クリーム態様のものが実用化されている。脱毛ク
リームにおいては、クリームを脱毛部位に塗布後、所定
時間放夏し、その後拭き取ることによって脱毛を行って
いる。
物含有クリーム態様のものが実用化されている。脱毛ク
リームにおいては、クリームを脱毛部位に塗布後、所定
時間放夏し、その後拭き取ることによって脱毛を行って
いる。
しかし、このような方法においては、脱毛クリームを拭
き取る際に、薬剤による体毛の分解により不快臭が発生
したり、強(擦ることによって皮膚刺激が起生したりす
るという問題がある。
き取る際に、薬剤による体毛の分解により不快臭が発生
したり、強(擦ることによって皮膚刺激が起生したりす
るという問題がある。
また、ワックスを用いる場合は、物理的脱毛であり、激
痛を伴うという問題がある。
痛を伴うという問題がある。
従って、本発明は激痛、不快臭の発生なく脱毛処理を可
能にする脱毛剤を提供することである。
能にする脱毛剤を提供することである。
本発明は、高分子化合物溶解物よりなる系(A系)及び
、該A系を相分離し高分子化合物の被膜を生ぜしめる成
分を含有する系(B系)の二成分系からなる脱毛剤に関
する。
、該A系を相分離し高分子化合物の被膜を生ぜしめる成
分を含有する系(B系)の二成分系からなる脱毛剤に関
する。
本発明にて使用されるA系は、少なくとも被膜形成能を
有する高分子化合物(以下、単に高分子化合物ともいう
)、これを溶解しうる溶媒よりなるものである。
有する高分子化合物(以下、単に高分子化合物ともいう
)、これを溶解しうる溶媒よりなるものである。
被膜形成能を有する高分子化合物としては、被膜形成能
を有し、本発明の目的を達成しうるものであれば特に限
定されるものではなく、それは水溶性、非水溶性のいず
れでもよい。水溶性高分子化合物としては、ポリビニル
アルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸お
よびその塩、ポリアクリルアミド、カルボキシメチルセ
ルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロ
ース、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリエチレング
リコール、アラビアゴム、ゼラチン、カゼイン等が挙げ
られ、非水溶性高分子化合物としては、アクリル、ブチ
ラール樹脂、ウレタン、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル
酸エステル、エチレン酢酸ビニル共重合体けん化物等が
挙げられる。これらは単一または複数の混合物としても
よい。
を有し、本発明の目的を達成しうるものであれば特に限
定されるものではなく、それは水溶性、非水溶性のいず
れでもよい。水溶性高分子化合物としては、ポリビニル
アルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸お
よびその塩、ポリアクリルアミド、カルボキシメチルセ
ルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロ
ース、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリエチレング
リコール、アラビアゴム、ゼラチン、カゼイン等が挙げ
られ、非水溶性高分子化合物としては、アクリル、ブチ
ラール樹脂、ウレタン、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル
酸エステル、エチレン酢酸ビニル共重合体けん化物等が
挙げられる。これらは単一または複数の混合物としても
よい。
水溶性高分子化合物の場合は水溶液として、また、非水
溶性高分子化合物の場合は当該高分子化合物を溶解しう
る溶媒に溶解して本発明に供される。
溶性高分子化合物の場合は当該高分子化合物を溶解しう
る溶媒に溶解して本発明に供される。
非水溶性高分子化合物を溶解しうる溶媒は、皮膚に対し
て刺激の少ないものが望ましく、エチルアルコール、プ
ロピルアルコール、ヘンシルアルコールなどのアルコー
ル類、これらの混合物、これらと水との混合物(例、水
−エチルアルコールなど)が挙げられる。水溶性高分子
化合物は、勿論水、水性溶媒に溶解して用いられる。
て刺激の少ないものが望ましく、エチルアルコール、プ
ロピルアルコール、ヘンシルアルコールなどのアルコー
ル類、これらの混合物、これらと水との混合物(例、水
−エチルアルコールなど)が挙げられる。水溶性高分子
化合物は、勿論水、水性溶媒に溶解して用いられる。
A系は、好ましくは溶液状であるが、ゾル状、ペースト
状であってもよい。
状であってもよい。
高分子化合物のA系中への添加量は、被膜を形成せしめ
た際に、脱毛部分の皮膚から容易に剥離しうる強度が得
られるに十分量配合される。その量は選ばれた高分子化
合物によって適宜増減されるが、通常1〜70重量%、
好ましくは2〜50重量%である。
た際に、脱毛部分の皮膚から容易に剥離しうる強度が得
られるに十分量配合される。その量は選ばれた高分子化
合物によって適宜増減されるが、通常1〜70重量%、
好ましくは2〜50重量%である。
A系中には、さらに脱毛薬物を配合することが好ましい
。
。
脱毛薬物としては、特に制限はなく、従来既知のものを
用いればよい。具体的にはチオグリコール酸およびその
塩、硫酸ストロンチウム、硫化ナトリウム、硫化バリウ
ム、硫化カルシウム等が挙げられ、これらのうち一種ま
たは複数の混合物としてもよい。脱毛薬物はA系中に1
〜15重量%、好ましくは3〜12重量%重量%台され
る。
用いればよい。具体的にはチオグリコール酸およびその
塩、硫酸ストロンチウム、硫化ナトリウム、硫化バリウ
ム、硫化カルシウム等が挙げられ、これらのうち一種ま
たは複数の混合物としてもよい。脱毛薬物はA系中に1
〜15重量%、好ましくは3〜12重量%重量%台され
る。
A系中には他に香料、体毛膨潤促進剤などを所望により
添加しうる。
添加しうる。
B系は上記A系を相分離して高分子化合物の膜を生ぜし
める成分よりなるものであり、かかる機能を有するもの
であれば特に制限されない。かかる成分としては、たと
えば当該高分子に対する貧溶媒(態様■)、当41 A
系のpHを変化させて、高分子化合物を不溶化させるも
の(態様■)などが、好ましいものとして挙げられる。
める成分よりなるものであり、かかる機能を有するもの
であれば特に制限されない。かかる成分としては、たと
えば当該高分子に対する貧溶媒(態様■)、当41 A
系のpHを変化させて、高分子化合物を不溶化させるも
の(態様■)などが、好ましいものとして挙げられる。
B様■は、B系中に含有される成分が、A系中の高分子
化合物を不溶化ないし難溶化することによってA系を相
分離させて高分子化合物の被膜を形成せしめ、脱毛部位
からこれを容易に剥離させることを特徴とするものであ
る。
化合物を不溶化ないし難溶化することによってA系を相
分離させて高分子化合物の被膜を形成せしめ、脱毛部位
からこれを容易に剥離させることを特徴とするものであ
る。
本態様においては、A系は、少なくとも高分子化合物、
及び溶媒からなる。これに対してB系は、A系中の高分
子化合物に対する貧溶媒からなる。
及び溶媒からなる。これに対してB系は、A系中の高分
子化合物に対する貧溶媒からなる。
本態様におけるB系に関して、高分子化合物に対する貧
溶媒としては、高分子化合物が水溶性である場合には、
エチルアルコール、プロピルアルコール、ベンジルアル
コールなどのアルコール類、これらの混合物、これらと
水との混合物(例、水−エチルアルコールなど)が挙げ
られ、特に皮膚に対して刺激の少ないもの、具体的には
エチルアルコール、プロピルアルコール、ヘンシルアル
コ−ルなどが好ましい。また、高分子化合物が非水溶性
である場合には、水、水性溶媒が使用される。
溶媒としては、高分子化合物が水溶性である場合には、
エチルアルコール、プロピルアルコール、ベンジルアル
コールなどのアルコール類、これらの混合物、これらと
水との混合物(例、水−エチルアルコールなど)が挙げ
られ、特に皮膚に対して刺激の少ないもの、具体的には
エチルアルコール、プロピルアルコール、ヘンシルアル
コ−ルなどが好ましい。また、高分子化合物が非水溶性
である場合には、水、水性溶媒が使用される。
態様■においてA系として使用される高分子化合物とし
ては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、
ポリアクリル酸およびその塩、ポリアクリルアミド、カ
ルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロ
キシエチルセルロース、ヒドロキンプロピルセルロース
、ポリエチレングリコール、アラビアゴム等の水溶性高
分子化合物、アクリル、ブチラール樹脂、ウレタン、ポ
リ酢酸ビニル、ポリアクリル酸エステル、エチレン酢酸
ビニル共重合体けん化物、ポリビニルメチルエーテル等
の非水溶性高分子化合物が好ましいものとして例示され
る。
ては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、
ポリアクリル酸およびその塩、ポリアクリルアミド、カ
ルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロ
キシエチルセルロース、ヒドロキンプロピルセルロース
、ポリエチレングリコール、アラビアゴム等の水溶性高
分子化合物、アクリル、ブチラール樹脂、ウレタン、ポ
リ酢酸ビニル、ポリアクリル酸エステル、エチレン酢酸
ビニル共重合体けん化物、ポリビニルメチルエーテル等
の非水溶性高分子化合物が好ましいものとして例示され
る。
態様■は、B系中に含有される成分がA系中のpHを変
化させることによってA系を相分離させて高分子化合物
の被膜を形成せしめ、脱毛部位からこれを容易に剥離さ
せることを特徴とするものである。
化させることによってA系を相分離させて高分子化合物
の被膜を形成せしめ、脱毛部位からこれを容易に剥離さ
せることを特徴とするものである。
A系は、少なくともpl変化によって容易に被膜を形成
しうる高分子化合物からなり、さらに要すればpH調節
剤、溶媒等からなる。これに対してB系は、A系のpH
を変化させる成分からなる。
しうる高分子化合物からなり、さらに要すればpH調節
剤、溶媒等からなる。これに対してB系は、A系のpH
を変化させる成分からなる。
即ち、たとえば酸性水溶液中で安定な高分子化合物水溶
液であるA系にアルカリ性の成分よりなるB系を配設し
て咳高分子化合物を析出させて当該高分子化合物の被膜
を形成せしめる。また、アルカリ性水溶液中で安定な高
分子化合物は酸性の成分よりなるB系を配設することに
よって同様の結果が得られる。
液であるA系にアルカリ性の成分よりなるB系を配設し
て咳高分子化合物を析出させて当該高分子化合物の被膜
を形成せしめる。また、アルカリ性水溶液中で安定な高
分子化合物は酸性の成分よりなるB系を配設することに
よって同様の結果が得られる。
本態様における、高分子化合物としてはゼラチン、カゼ
イン、ニカワ、アルブミン、大豆タンパク等が好ましい
ものとして挙げられる。これらはアルカリ水溶液として
おくことが好ましい。
イン、ニカワ、アルブミン、大豆タンパク等が好ましい
ものとして挙げられる。これらはアルカリ水溶液として
おくことが好ましい。
A系をアルカリ性に保つためには、たとえば水酸化物、
炭酸塩、アンモニア、アミンなどアルカリ性物質が使用
され、また、B系に使用される酸性物質としては有機酸
(例、クエン酸、リンゴ酸、酢酸)が使用される。
炭酸塩、アンモニア、アミンなどアルカリ性物質が使用
され、また、B系に使用される酸性物質としては有機酸
(例、クエン酸、リンゴ酸、酢酸)が使用される。
なお、態様■、Li様■のいずれにおいてもB系は、溶
媒のみでは液状であるから、使用に際して便宜的でない
、従って、本発明においては当該溶媒含有シート状に成
形したものとすることが好ましい。かかるシート状成形
物としては、当該溶媒を、たとえばポリアクリル酸ソー
ダ、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルメチルエーテル、ブチラール系樹脂等に
よるゾル状シート状物、吸液性材(ガーゼ、不織布、紙
等)への含浸物などが例示される。
媒のみでは液状であるから、使用に際して便宜的でない
、従って、本発明においては当該溶媒含有シート状に成
形したものとすることが好ましい。かかるシート状成形
物としては、当該溶媒を、たとえばポリアクリル酸ソー
ダ、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルメチルエーテル、ブチラール系樹脂等に
よるゾル状シート状物、吸液性材(ガーゼ、不織布、紙
等)への含浸物などが例示される。
本発明の脱毛剤は、まずA系を脱毛局所に塗布した後、
B系を配設することによって使用に供される。
B系を配設することによって使用に供される。
かくして、A系は相分離され、A系中の高分子化合物が
難溶性となって当該高分子化合物の被膜が形成される。
難溶性となって当該高分子化合物の被膜が形成される。
しかして、体毛は被膜中にトラップされた状態となり、
被膜を剥離することによって、脱毛薬剤によって毛根部
分が弱められた体毛は美麗に除毛される。
被膜を剥離することによって、脱毛薬剤によって毛根部
分が弱められた体毛は美麗に除毛される。
本発明の脱毛剤は、高分子化合物溶解物よりなるA系が
相分離によって容易に被膜を形成するとともに、本脱毛
剤中配合されている脱毛薬物によって毛が少なくとも軟
化されている。従って、ワックスによる物理的脱毛と異
なり、体毛を軟弱化できるため、脱毛時の激痛を回避で
きる。また、体毛を被膜内にトラップした状態にして被
膜を剥離するのでクリーム剤に見られるような不快臭の
発生、後処理の問題は解消される。
相分離によって容易に被膜を形成するとともに、本脱毛
剤中配合されている脱毛薬物によって毛が少なくとも軟
化されている。従って、ワックスによる物理的脱毛と異
なり、体毛を軟弱化できるため、脱毛時の激痛を回避で
きる。また、体毛を被膜内にトラップした状態にして被
膜を剥離するのでクリーム剤に見られるような不快臭の
発生、後処理の問題は解消される。
次に実施例にて本発明をさらに詳しく説明するが、これ
らは本発明を限定するものではない。
らは本発明を限定するものではない。
なお、文中%とあるのは重量%を意味する。
実施例1
以下の組成から成るA系とB系:
A系
ブチラール樹脂 20%チオグリコー
ル酸カルシウム 7%エチルアルコール
73%B系 カルボキシメチルセルロース 5%水
95%を作成した。A
系を脱毛部位に塗布後、B系を平たくシート状にしたも
のをA系の塗布面に重ね合わせた。10分後、体毛をト
ラッ、ブした固化被膜が形成され、容易に剥離された。
ル酸カルシウム 7%エチルアルコール
73%B系 カルボキシメチルセルロース 5%水
95%を作成した。A
系を脱毛部位に塗布後、B系を平たくシート状にしたも
のをA系の塗布面に重ね合わせた。10分後、体毛をト
ラッ、ブした固化被膜が形成され、容易に剥離された。
実施例2
次の成分から成るA系とB系:
A系
カゼイン 10 %アンモニア
水(28%)0.5% 水 89.5%
B系 クエン酸 6%ポリビニル
アルコール 20%水
74%を作成した。A系を脱毛部位
に塗布し、乾燥してシート状にした組成物を、A系の塗
布面上に重ね合わせた。1o分後、薬物で処理された体
毛を含有した固化被膜は容易に剥がれ、きれいに除毛さ
れた。
水(28%)0.5% 水 89.5%
B系 クエン酸 6%ポリビニル
アルコール 20%水
74%を作成した。A系を脱毛部位
に塗布し、乾燥してシート状にした組成物を、A系の塗
布面上に重ね合わせた。1o分後、薬物で処理された体
毛を含有した固化被膜は容易に剥がれ、きれいに除毛さ
れた。
Claims (3)
- (1)高分子化合物溶解物よりなる系(A系)及び、該
A系を相分離し高分子化合物の被膜を生ぜしめる成分を
含有する系(B系)の二成分系からなり、A系およびB
系の少なくとも一方の系に脱毛薬物を含有させてなる脱
毛剤。 - (2)B系中の成分がA系中の高分子化合物に対して貧
溶媒よりなるものである特許請求の範囲第(1)項記載
の脱毛剤。 - (3)B系中の成分がA系中の高分子化合物に対してp
H変更作用を持つ成分よりなるものである特許請求の範
囲第(1)項記載の脱毛剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14896385A JPS6210010A (ja) | 1985-07-05 | 1985-07-05 | 脱毛剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14896385A JPS6210010A (ja) | 1985-07-05 | 1985-07-05 | 脱毛剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6210010A true JPS6210010A (ja) | 1987-01-19 |
Family
ID=15464574
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14896385A Pending JPS6210010A (ja) | 1985-07-05 | 1985-07-05 | 脱毛剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6210010A (ja) |
-
1985
- 1985-07-05 JP JP14896385A patent/JPS6210010A/ja active Pending
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