JPS62100531A - ポリエステルイミドおよびその製造方法 - Google Patents
ポリエステルイミドおよびその製造方法Info
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- JPS62100531A JPS62100531A JP23864985A JP23864985A JPS62100531A JP S62100531 A JPS62100531 A JP S62100531A JP 23864985 A JP23864985 A JP 23864985A JP 23864985 A JP23864985 A JP 23864985A JP S62100531 A JPS62100531 A JP S62100531A
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- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の腐プる技術分野〕
本発明は、イミド基を有する新規な重合体およびその製
造方法に関するものであり、特に新規ポリエステルイミ
ドおよびその製造方法に関するものである。
造方法に関するものであり、特に新規ポリエステルイミ
ドおよびその製造方法に関するものである。
（従来技術とその問題点）
ポリイミドは耐熱性に極めて優れているため、宇宙・航
空機分野からプリント板１Ｍ線被１ワニスなどの一般産
業用まで幅広く用いられている。
空機分野からプリント板１Ｍ線被１ワニスなどの一般産
業用まで幅広く用いられている。
しかし。カプトン（商標；デュポン社製）に代表される
これまでのポリイミドは可視光に対する透過率が悪く透
明性に欠けるという欠点があった。
これまでのポリイミドは可視光に対する透過率が悪く透
明性に欠けるという欠点があった。
一方、透明性に優れているポリカーボネート、飽和ポリ
エステルなどはその特徴をいかして、液晶表示板、太陽
ＡＩ池川用バー材料などの用途に用いられているが、ポ
リイミドに比較して耐熱性に劣るという欠点がある。
エステルなどはその特徴をいかして、液晶表示板、太陽
ＡＩ池川用バー材料などの用途に用いられているが、ポ
リイミドに比較して耐熱性に劣るという欠点がある。
（発明の目的）
本発明は、従来のポリイミドの欠点を解決した透明性に
優れ、しかも耐熱性も優れるポリエステルイミドを提供
することを目的とするものである。
優れ、しかも耐熱性も優れるポリエステルイミドを提供
することを目的とするものである。
本発明の第１の発明は、
炭素原子を有する芳香族炭化水素基またはこれらのハロ
ゲン化誘導体、（ｂ）アルキレン基、炭素原子が２〜８
個のアルキレン基で連鎖停止されたポリオルガノシロキ
サンまたは２〜２０個の炭素原子を有するシクロアルキ
レン基、（Ｃ）次式ｍはＯまたは１の整数、ｒｌは１〜
５の整数である。
ゲン化誘導体、（ｂ）アルキレン基、炭素原子が２〜８
個のアルキレン基で連鎖停止されたポリオルガノシロキ
サンまたは２〜２０個の炭素原子を有するシクロアルキ
レン基、（Ｃ）次式ｍはＯまたは１の整数、ｒｌは１〜
５の整数である。
）で表わされる２価の基からなる群から選ばれた２価の
有機基である。〕で表される繰返し単位を含有すること
を特徴としたポリエステルイミドである。
有機基である。〕で表される繰返し単位を含有すること
を特徴としたポリエステルイミドである。
本発明の第二の発明は、一般式（Ｉ）で表わされる繰返
し単位を含有するポリエステルイミドをで表わされるビ
ス（ヒドロキシフタルイミド）と一般式 （式中Ｒ２は上記で定義した基と同一であり、Ｙおよび
２はＦ、（Ｊ、Ｂｒ、［のいずれかである。）で表わさ
れるジカルボン酸ジハライドとを重縮合させることを特
徴とするポリエステルイミドの製造方法である。
し単位を含有するポリエステルイミドをで表わされるビ
ス（ヒドロキシフタルイミド）と一般式 （式中Ｒ２は上記で定義した基と同一であり、Ｙおよび
２はＦ、（Ｊ、Ｂｒ、［のいずれかである。）で表わさ
れるジカルボン酸ジハライドとを重縮合させることを特
徴とするポリエステルイミドの製造方法である。
で表わされるビス（エステル無水フタル酸）と−、般式
％式％（）
（式中、Ｒ１は上記で定義した基と同一である）で表わ
される有機ジアミンとを重縮合させることを特徴とする
ポリエステルイミドの製造方法である。
される有機ジアミンとを重縮合させることを特徴とする
ポリエステルイミドの製造方法である。
本発明のポリエステルイミドは、良好な耐熱性と優れた
透明性を有しており、その工業的価値はきわめて高いも
のであり、新規な化学構造を有するものである。
透明性を有しており、その工業的価値はきわめて高いも
のであり、新規な化学構造を有するものである。
本発明のポリエステルイミドは、上記の２種類の製造方
法によって製造されるが、一般式（、Ｕ）で表わされる
ビス（ヒドロキシフタルイミド）と一般式（Ｉ［Ｉ）で
表わされるジカルボン酸ジハライドの重縮合で得る方法
において、ビス（ヒドロキシフタルイミド）としては、
特願昭６０−５５１５１号に記載のビス（ヒドロキシフ
タルイミド）が用いられる。このビス（ヒドロキシフタ
ルイミド）は、４−ヒドロキシ無水フタル酸と一般式％
式％ （Ｒ＋は上記で定義した基と同一である。）で示される
有機ジアミンとをフェノール性溶媒また氷酢酸を反応溶
媒として縮合させることにより得られるものである。上
記有機ジアミンとしては、例えばｍ−フェニレンジアミ
ン、ｐ−フェニレンジアミン、４．４′−ジアミノジフ
ニエルブロバン、４．４′−ジアミノジフェニルメタン
、ベンジジン、４．４’ −ジアミノジフェニルスルフ
ィド、４．４′−ジアミノジフェニルスルホン、４゜４
′−ジアミノジフェニルエーテル、１．５−ジアミノナ
フタリン、３．３′−ジメチルベンジジン、３．３′−
ジメトキシベンジジン、２．４−ビス（β−アミノ−ｔ
−ブヂル）１−ルエン、ビス（ｐ−β−アミノ−１−ブ
ヂルフェニル）エーテルなどが挙げられる。
法によって製造されるが、一般式（、Ｕ）で表わされる
ビス（ヒドロキシフタルイミド）と一般式（Ｉ［Ｉ）で
表わされるジカルボン酸ジハライドの重縮合で得る方法
において、ビス（ヒドロキシフタルイミド）としては、
特願昭６０−５５１５１号に記載のビス（ヒドロキシフ
タルイミド）が用いられる。このビス（ヒドロキシフタ
ルイミド）は、４−ヒドロキシ無水フタル酸と一般式％
式％ （Ｒ＋は上記で定義した基と同一である。）で示される
有機ジアミンとをフェノール性溶媒また氷酢酸を反応溶
媒として縮合させることにより得られるものである。上
記有機ジアミンとしては、例えばｍ−フェニレンジアミ
ン、ｐ−フェニレンジアミン、４．４′−ジアミノジフ
ニエルブロバン、４．４′−ジアミノジフェニルメタン
、ベンジジン、４．４’ −ジアミノジフェニルスルフ
ィド、４．４′−ジアミノジフェニルスルホン、４゜４
′−ジアミノジフェニルエーテル、１．５−ジアミノナ
フタリン、３．３′−ジメチルベンジジン、３．３′−
ジメトキシベンジジン、２．４−ビス（β−アミノ−ｔ
−ブヂル）１−ルエン、ビス（ｐ−β−アミノ−１−ブ
ヂルフェニル）エーテルなどが挙げられる。
この反応は、実質的に４−ヒドロキシ無水フタル酸２モ
ルに対して、有機ジアミン１モルが使用されるが、有機
ジアミンの帛は、０．８〜１，２モルでも良好な結果が
得られる。反応溶媒、とじては、フェノール性溶媒また
は氷酢酸を溶媒として用いることができる。フェノール
性溶媒としては、ｏ−、ｐ−、ｍ−クレゾールおよびそ
れらの混合物などが用いられ、使用Ｇは、全反応体１重
量部当り１〜２重Ｍ部または、それ以上用いることがで
きる。反応温度は１００〜１４０℃程度が好ましい。ま
た、ビス（ヒドロキシフタルイミド）の生成時における
反応水の除去を容易にするため、低釧点の無極性溶媒た
とえばベンゼン、クロルベンゼン、トルエンなどを共沸
混合物生成剤として使用することもできる。
ルに対して、有機ジアミン１モルが使用されるが、有機
ジアミンの帛は、０．８〜１，２モルでも良好な結果が
得られる。反応溶媒、とじては、フェノール性溶媒また
は氷酢酸を溶媒として用いることができる。フェノール
性溶媒としては、ｏ−、ｐ−、ｍ−クレゾールおよびそ
れらの混合物などが用いられ、使用Ｇは、全反応体１重
量部当り１〜２重Ｍ部または、それ以上用いることがで
きる。反応温度は１００〜１４０℃程度が好ましい。ま
た、ビス（ヒドロキシフタルイミド）の生成時における
反応水の除去を容易にするため、低釧点の無極性溶媒た
とえばベンゼン、クロルベンゼン、トルエンなどを共沸
混合物生成剤として使用することもできる。
反応時間は、有機ジアミンの種類、撹拌の程度、温度な
どのごとぎ因子に応じて２０分から２時間程度の範囲と
なる。氷酢酸を溶媒しで用いる場合は、全反応体１重量
部当り１０重量部程度の氷酢酸の還流下に１時間から１
５時間程度反応させればよい−。このような縮合反応に
Ｊ：り得られるビス（ヒト［１４−シフタルイミド）の
具体的なものとしては、例えば１．３−どス〈４−ヒド
ロキシフタルイミド）ベンゼン、１．４−ビス（４−ヒ
ドロキシフタルイミド）ベンゼンなどである。
どのごとぎ因子に応じて２０分から２時間程度の範囲と
なる。氷酢酸を溶媒しで用いる場合は、全反応体１重量
部当り１０重量部程度の氷酢酸の還流下に１時間から１
５時間程度反応させればよい−。このような縮合反応に
Ｊ：り得られるビス（ヒト［１４−シフタルイミド）の
具体的なものとしては、例えば１．３−どス〈４−ヒド
ロキシフタルイミド）ベンゼン、１．４−ビス（４−ヒ
ドロキシフタルイミド）ベンゼンなどである。
また、ジカルボン酸ジハライドとしては基本的に考えら
れるすべてのジカルボン酸ジハライドが使用でき、上記
（ｎｌ）式で定義したジカルボン酸ジハライドがすべて
使用可能である。具体的には、テレフタル酸、イソフタ
ル酸、フタル酸、フェニルマロニック酸、フェニルザク
シニック酸、ベンジルサクシニック酸、オキ（ノリツク
酸、マロニック酸、サクシニック酸、グルタリック酸、
メチルサクシニック酸、アジピン酸などのジカルボン酸
のハロゲン化物が挙げられる。
れるすべてのジカルボン酸ジハライドが使用でき、上記
（ｎｌ）式で定義したジカルボン酸ジハライドがすべて
使用可能である。具体的には、テレフタル酸、イソフタ
ル酸、フタル酸、フェニルマロニック酸、フェニルザク
シニック酸、ベンジルサクシニック酸、オキ（ノリツク
酸、マロニック酸、サクシニック酸、グルタリック酸、
メチルサクシニック酸、アジピン酸などのジカルボン酸
のハロゲン化物が挙げられる。
一般式（ＩＩ）で表されるビス（【ニトロキシフタルイ
ミド）と、一般式（ＩＩＩ ） Ｆ表されるジカルボン
酸ジハライドとの縮合反応は有機溶媒中実質上無水の条
件１・で行われる。この有機溶媒としては、Ｎ−メチル
−２−ピロリドン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ
、Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒を挙げる
ことができ、これら溶媒を十分乾燥して使用する。また
、反応の進行とともに生成するハロゲン化水素を除去す
るため、ピリジン、トリエチルアミンなどの三級アミン
を反応系に共存させることができる。本反応は、実質的
にビス（ヒドロキシフタルイミド）１モルに対してジカ
ルボン酸ジハライド１モルが使用される。
ミド）と、一般式（ＩＩＩ ） Ｆ表されるジカルボン
酸ジハライドとの縮合反応は有機溶媒中実質上無水の条
件１・で行われる。この有機溶媒としては、Ｎ−メチル
−２−ピロリドン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ
、Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒を挙げる
ことができ、これら溶媒を十分乾燥して使用する。また
、反応の進行とともに生成するハロゲン化水素を除去す
るため、ピリジン、トリエチルアミンなどの三級アミン
を反応系に共存させることができる。本反応は、実質的
にビス（ヒドロキシフタルイミド）１モルに対してジカ
ルボン酸ジハライド１モルが使用される。
反応温度は２０〜５０℃で十分であり、反応時間は、反
応物の種類、温度撹拌の度合などによって異なるが、３
０分から３０時間程度の範囲となる。
応物の種類、温度撹拌の度合などによって異なるが、３
０分から３０時間程度の範囲となる。
反応終了後、反応混合物にメタノールなどの沈澱溶媒を
加え、生成した沈澱を炉別する方法等によってポリエス
テルイミドを単離することができる。
加え、生成した沈澱を炉別する方法等によってポリエス
テルイミドを単離することができる。
また、この右は溶媒を用いる方法の伯に、ジャーナル・
オブ・ポリマー・サイエンス（ＪＯ■「０ａ１ｏｆ Ｐ
ｏｌｙｍｅｒ ５ｃｉｅｎｃｅ）のＸ ［−巻、３９９
頁（１９５９）に示される界面重合法を用いてもよい。
オブ・ポリマー・サイエンス（ＪＯ■「０ａ１ｏｆ Ｐ
ｏｌｙｍｅｒ ５ｃｉｅｎｃｅ）のＸ ［−巻、３９９
頁（１９５９）に示される界面重合法を用いてもよい。
ずなわち一般式（ＩＩ）で表わされるビス（ヒドロキシ
フタルイミド）をアルカリ水溶液にとかし、これに有機
溶媒にとかした一般式（Ｉｌｒ）で表わされるジカルボ
ン酸ジハライドを加えて重合させる方法である。
フタルイミド）をアルカリ水溶液にとかし、これに有機
溶媒にとかした一般式（Ｉｌｒ）で表わされるジカルボ
ン酸ジハライドを加えて重合させる方法である。
次に、第二の製造方法において、一般式＜ ＩＶ ）で
表わされるビス（エステル無水フタル酸）としては、例
えば４゛−とドロキシ無水フタル酸と一般式（ＩＩ［）
で表わされるジカルボン酸ジハライドとを縮合さゼて製
造されるものが使用される。ここでのジカルボン酸ジハ
ライドとしては、先に例示したものと同一のものが使用
できる。このビス（エステル無水フタル酸）を得るため
の縮合反応は、実質的に４−ヒドロキシ無水フタル酸２
モルに対してジカルボン酸ジハライド１モルが使用され
るが、ジカルボン酸ジハライドの量が０．８〜１．２セ
ルでも良好な結果を得ることができる。
表わされるビス（エステル無水フタル酸）としては、例
えば４゛−とドロキシ無水フタル酸と一般式（ＩＩ［）
で表わされるジカルボン酸ジハライドとを縮合さゼて製
造されるものが使用される。ここでのジカルボン酸ジハ
ライドとしては、先に例示したものと同一のものが使用
できる。このビス（エステル無水フタル酸）を得るため
の縮合反応は、実質的に４−ヒドロキシ無水フタル酸２
モルに対してジカルボン酸ジハライド１モルが使用され
るが、ジカルボン酸ジハライドの量が０．８〜１．２セ
ルでも良好な結果を得ることができる。
反応溶媒としては種々の溶媒が適用可能であり、例えば
、ベンゼン、アセ１〜二ｌ・リル、Ｎ−メチル＝２−ピ
ロリドンなどが用いられる。また反応が進行するに従っ
て生成するハロゲン化水素を除去するために三級アミン
を加えると、反応の進行が促進される。三級アミンとし
ては、ピリジン、トリエチルアミンなどが好適である。
、ベンゼン、アセ１〜二ｌ・リル、Ｎ−メチル＝２−ピ
ロリドンなどが用いられる。また反応が進行するに従っ
て生成するハロゲン化水素を除去するために三級アミン
を加えると、反応の進行が促進される。三級アミンとし
ては、ピリジン、トリエチルアミンなどが好適である。
反応温度は２０〜５０℃で十分であり、反応時間は、反
応物の種類、反応温度等によって異なるが、５〜２０時
間程時間上い。反応終了後、反応混合物に水、メタノー
ル等の沈澱溶媒を加え、析出した沈澱を７戸別すること
によって、一般式（ＩＶ）で表わされるビス〈エステル
無水フタル酸）が得られる。
応物の種類、反応温度等によって異なるが、５〜２０時
間程時間上い。反応終了後、反応混合物に水、メタノー
ル等の沈澱溶媒を加え、析出した沈澱を７戸別すること
によって、一般式（ＩＶ）で表わされるビス〈エステル
無水フタル酸）が得られる。
また、第二の製造方法で使用される一般式（Ｖ）で表わ
される有機ジアミンとしては、基本的に考えられるすべ
ての有機ジアミンが使用でき、一般式（Ｖ）で定義した
有機ジアミンがすべて使用可能である。例えば、ｍ−フ
ェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、４，４′
−ジアミノジフェニルプロパン、４．４′−ジアミノジ
フェニルメタン、ベンジンなどが挙げられる。
される有機ジアミンとしては、基本的に考えられるすべ
ての有機ジアミンが使用でき、一般式（Ｖ）で定義した
有機ジアミンがすべて使用可能である。例えば、ｍ−フ
ェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、４，４′
−ジアミノジフェニルプロパン、４．４′−ジアミノジ
フェニルメタン、ベンジンなどが挙げられる。
一般式（ＩＶ）のじス（エステル無水フタル酸）と一般
式（Ｖ）の有機ジアミンとの重合反応は、通常のポリイ
ミドの重合法と同様に行うことができる。例えば、ジメ
チルアセ１−アミドなどの有機溶媒中で実質上無水の条
件下で、２０〜５０℃で０．５〜３０時間反応させ、一
般式 で示される繰返し単位を有する中間体のポリアミック酸
を得、ついで通常の脱水環化法によって、２００〜３０
０℃で１〜５時間加熱し、目的とするポリエステルイミ
ドを得ることができる。
式（Ｖ）の有機ジアミンとの重合反応は、通常のポリイ
ミドの重合法と同様に行うことができる。例えば、ジメ
チルアセ１−アミドなどの有機溶媒中で実質上無水の条
件下で、２０〜５０℃で０．５〜３０時間反応させ、一
般式 で示される繰返し単位を有する中間体のポリアミック酸
を得、ついで通常の脱水環化法によって、２００〜３０
０℃で１〜５時間加熱し、目的とするポリエステルイミ
ドを得ることができる。
以下実施例により本発明のポリエステルイミドおよびそ
の製造方法について詳細に説明する。ただし、これらの
実施例は本発明の実施を例証づ−るだめのものであって
、本発明の範囲を限定するものではない。
の製造方法について詳細に説明する。ただし、これらの
実施例は本発明の実施を例証づ−るだめのものであって
、本発明の範囲を限定するものではない。
（実施例１）
４．４′−ビス（４−ヒドロキシフタルイミド）ジフェ
ニルスルホン５４０Ｉｎｇ（１＋ ｎｏｔ ） 、テレ
フタル酸二塩化物２０２Ｉｒ！ｇ（１１１１ｍｏｌ ）
を脱水したＮ−メチル−２−ピロリドン１０ｄに溶解・
させた。この溶液にピリジン１５８１ｆｔｇ（２ｍ ｍ
ｏｌ ）を加え、窒素雰囲気下、室温で１５時間撹拌し
た。
ニルスルホン５４０Ｉｎｇ（１＋ ｎｏｔ ） 、テレ
フタル酸二塩化物２０２Ｉｒ！ｇ（１１１１ｍｏｌ ）
を脱水したＮ−メチル−２−ピロリドン１０ｄに溶解・
させた。この溶液にピリジン１５８１ｆｔｇ（２ｍ ｍ
ｏｌ ）を加え、窒素雰囲気下、室温で１５時間撹拌し
た。
反応終了後、反応混和物をメタノール１００ｄにあけた
ところ白色固体が得られた。この固体を１戸別し、水、
メタノール、アセトンで十分に洗浄し、減圧下１００℃
で５時間乾燥させ、相当するポリエステルイミド４８０
ｍｇ（収率７２％）を得た。
ところ白色固体が得られた。この固体を１戸別し、水、
メタノール、アセトンで十分に洗浄し、減圧下１００℃
で５時間乾燥させ、相当するポリエステルイミド４８０
ｍｇ（収率７２％）を得た。
このものは、赤外吸収スペクトルにおいて１７７５ ｅ
ｘ−’と１７２引１１にイミド基特有のＣＯ基吸収があ
ること、また３３００ｃａ＋−’付近のＯＨ基の吸収が
見られないことおよび第１表に示すように元素分析にお
いて測定値と計惇値がほぼ一致していることから目的化
合物であることを確認した。
ｘ−’と１７２引１１にイミド基特有のＣＯ基吸収があ
ること、また３３００ｃａ＋−’付近のＯＨ基の吸収が
見られないことおよび第１表に示すように元素分析にお
いて測定値と計惇値がほぼ一致していることから目的化
合物であることを確認した。
（実施例２）
水酸化ナトリ１クム０．４０Ｑ （１０ｍ ｍｏｌ ）
の水溶液１５０ｄに４，４′−ビス（４−ヒドロキシフ
タルイミド）ジフェニルスルホン２．７０■（５ｍｎ＋
Ｏ＋）を加え、溶解させた。これにラウリル硫酸ナトリ
ウム０．２９０ （ｉｓ ［１１０１＞の水溶液１０耐
、ざらにテレフタル酸二塩化物１．０１１１ｇ（５ｍ
ｍｏｌ ）のベンゼン溶液７５ｍを加え、室温で激しく
１時間撹拌した。白色固体を含む反応混合物を５００ｄ
のアセトンにあけたところ白色固体が析出した。この固
体を）戸別し、水、アセトンで十分に洗浄し、減圧下１
００℃で５時間乾燥させ、相当するポリエステルイミド
２．２４ｇ（収率６７％）を得た。このものの赤外吸収
スペクトルは、実施例１の化合物と全て同様の吸収スペ
クトルを示し、同じポリエステルイミドであることを確
認した。
の水溶液１５０ｄに４，４′−ビス（４−ヒドロキシフ
タルイミド）ジフェニルスルホン２．７０■（５ｍｎ＋
Ｏ＋）を加え、溶解させた。これにラウリル硫酸ナトリ
ウム０．２９０ （ｉｓ ［１１０１＞の水溶液１０耐
、ざらにテレフタル酸二塩化物１．０１１１ｇ（５ｍ
ｍｏｌ ）のベンゼン溶液７５ｍを加え、室温で激しく
１時間撹拌した。白色固体を含む反応混合物を５００ｄ
のアセトンにあけたところ白色固体が析出した。この固
体を）戸別し、水、アセトンで十分に洗浄し、減圧下１
００℃で５時間乾燥させ、相当するポリエステルイミド
２．２４ｇ（収率６７％）を得た。このものの赤外吸収
スペクトルは、実施例１の化合物と全て同様の吸収スペ
クトルを示し、同じポリエステルイミドであることを確
認した。
（実施例３）
水酸化ナトリウム０．４０ｇ（１０ｍ ｍｏｌ ）の水
溶液１５０ｍｅに４，４′−ビス（４−ヒドロキシフタ
ルイミド）ジフェニルスルホン２．７０ｑ（５ｍｍｏｌ
）を加え、溶解させた。これにラウリル硫酸ナトリウム
０．２９ｇ（１ａ ｍｏｌ ）の水溶液１０ｄ、さらに
イソフタル酸二塩化物１．０１ｇ（５ｎ＋１ｏｌ）のベ
ンゼン溶液７！Ｍを加え、室温で激しく１時間撹拌した
。白色固体を含む反応混合物を５００ｍのアセトンにあ
けたところ白色固体が析出した。この固体を７戸別し、
水、アセトンで十分に洗浄し、減圧下１００℃で５時間
乾燥させ、相当するポリエステルイミドを２．０１ｇ（
収率６０％）を得た。
溶液１５０ｍｅに４，４′−ビス（４−ヒドロキシフタ
ルイミド）ジフェニルスルホン２．７０ｑ（５ｍｍｏｌ
）を加え、溶解させた。これにラウリル硫酸ナトリウム
０．２９ｇ（１ａ ｍｏｌ ）の水溶液１０ｄ、さらに
イソフタル酸二塩化物１．０１ｇ（５ｎ＋１ｏｌ）のベ
ンゼン溶液７！Ｍを加え、室温で激しく１時間撹拌した
。白色固体を含む反応混合物を５００ｍのアセトンにあ
けたところ白色固体が析出した。この固体を７戸別し、
水、アセトンで十分に洗浄し、減圧下１００℃で５時間
乾燥させ、相当するポリエステルイミドを２．０１ｇ（
収率６０％）を得た。
このものは、赤外吸収スペクトルにおいて１７７５ Ｃ
！Ｒ−’と１７２０ａ＋−’にイミド基特有のＣＯ基吸
収があること、また３３００α−１付近のＯＨ基の吸収
が見られないことおよび第１表に示すように元素分析に
おいて測定値と計算値がほぼ一致していることから目的
化合物であることを確認した。
！Ｒ−’と１７２０ａ＋−’にイミド基特有のＣＯ基吸
収があること、また３３００α−１付近のＯＨ基の吸収
が見られないことおよび第１表に示すように元素分析に
おいて測定値と計算値がほぼ一致していることから目的
化合物であることを確認した。
（実施例４）
次の式で示される
ｍ０１）と４，４′−ジアミノジフェニルスルホン２４
８Ｒｇ（Ｉｎ ｍｏｌ ）と蒸溜したジメチルアセトア
ミド５ｇの混合物を窒素雰囲気下室温で２４時間反応さ
せた。反応混合物をメタノール１００ｄにあけたところ
、白色固体が析出した。この固体をｆ戸別し、水、アセ
トンで十分に洗浄し、減圧下１００℃で５時間乾燥し、
次に２５０℃で２時間加熱し、相当するポリエステルイ
ミドを５５０Ｉｎｇ（収率８２％）得た。
８Ｒｇ（Ｉｎ ｍｏｌ ）と蒸溜したジメチルアセトア
ミド５ｇの混合物を窒素雰囲気下室温で２４時間反応さ
せた。反応混合物をメタノール１００ｄにあけたところ
、白色固体が析出した。この固体をｆ戸別し、水、アセ
トンで十分に洗浄し、減圧下１００℃で５時間乾燥し、
次に２５０℃で２時間加熱し、相当するポリエステルイ
ミドを５５０Ｉｎｇ（収率８２％）得た。
このものは赤外吸収スペクトルにおいて、実施例１の化
合物と全て同様の吸収スペクトルを示したことから、同
一のポリエステルイミドであることを確認した。
合物と全て同様の吸収スペクトルを示したことから、同
一のポリエステルイミドであることを確認した。
（実施例５）
ビス（エステル無水フタルｉり４５８ＪＩ９（ｌｓｍｏ
ｌ）と４．４′−ジアミノジフェニルスルホン２４８Ｉ
Ｉｔｇ（１ｍ ｍｏｌ ）と蒸溜したジメチルアセトア
ミド５Ｑの混合物を窒素雰囲気下室温で２４時間反応さ
せた。反応混合物をメタノール１００＋＋ｄにあけたと
ころ、白色固体が析出した。この固体を１戸別し、水、
アセトンで十分に洗浄し、減圧下１００℃で５時間乾燥
し、次に２５０℃で２時間加熱し、相当するポリエステ
ルイミドを５０３ＩＩｔｇ（収率７５％）得た。
ｌ）と４．４′−ジアミノジフェニルスルホン２４８Ｉ
Ｉｔｇ（１ｍ ｍｏｌ ）と蒸溜したジメチルアセトア
ミド５Ｑの混合物を窒素雰囲気下室温で２４時間反応さ
せた。反応混合物をメタノール１００＋＋ｄにあけたと
ころ、白色固体が析出した。この固体を１戸別し、水、
アセトンで十分に洗浄し、減圧下１００℃で５時間乾燥
し、次に２５０℃で２時間加熱し、相当するポリエステ
ルイミドを５０３ＩＩｔｇ（収率７５％）得た。
このものは赤外吸収スペクトルにおいて、実施例３の化
合物と全て同様の吸収スペクトルを示したことから、同
一のポリエステルイミドであることを確認した。
合物と全て同様の吸収スペクトルを示したことから、同
一のポリエステルイミドであることを確認した。
（実施例６〜１０）
実施例２における４、４′−ビス（４−ヒドロキシフタ
ルイミド）ジフェニルスルホンの代わりに種々のビス（
ヒドロキシフタルイミド）を使用し、実施例１と同様の
操作を行い、第１表に示すポリエステルイミドを得た。
ルイミド）ジフェニルスルホンの代わりに種々のビス（
ヒドロキシフタルイミド）を使用し、実施例１と同様の
操作を行い、第１表に示すポリエステルイミドを得た。
また化合物の同定は、実施例１と同様に行った。第１表
に収率、赤外吸収スペクトルデータおよび元素分析値を
示す。
に収率、赤外吸収スペクトルデータおよび元素分析値を
示す。
（実施例１１〜１５）
実施例３における４、４′−ビス（４−にドロキシフタ
ルイミド）ジフェニルスルホンの代わりに種々のビス（
ヒドロキシフタルイミド）を使用し、実施例３と同様の
操作を行い、第１表に示すポリエステルイミドを得た。
ルイミド）ジフェニルスルホンの代わりに種々のビス（
ヒドロキシフタルイミド）を使用し、実施例３と同様の
操作を行い、第１表に示すポリエステルイミドを得た。
また化合物の同定は、実施例３と同様に行った。第１表
に収率、赤外吸収スペクトルデータおよび元素分析値を
示づ。また、実施例１１〜１５で得られたポリニスデル
イミドの熱分解温度を示す。また実施例４で得られたポ
リエステルイミドの光透過率を従来品と比較して、図面
に示す。図面中において、曲線１は実施例４で（ｑられ
たポリエステルイミド、曲線２は従来のポリイミド（カ
プトン；デュポン社製）の透過率を示づ。
に収率、赤外吸収スペクトルデータおよび元素分析値を
示づ。また、実施例１１〜１５で得られたポリニスデル
イミドの熱分解温度を示す。また実施例４で得られたポ
リエステルイミドの光透過率を従来品と比較して、図面
に示す。図面中において、曲線１は実施例４で（ｑられ
たポリエステルイミド、曲線２は従来のポリイミド（カ
プトン；デュポン社製）の透過率を示づ。
第１表に示しであるように、本発明のポリエステルイミ
ドは、４００℃以上の熱分解温度を有しており、耐熱性
に優れている。また図面に示してあるように、従来のポ
リイミドに比較して光透過率が大幅に優れていることが
わかる。
ドは、４００℃以上の熱分解温度を有しており、耐熱性
に優れている。また図面に示してあるように、従来のポ
リイミドに比較して光透過率が大幅に優れていることが
わかる。
以上説明したように、本発明のポリエステルイミドは、
耐熱性に優れかつ透明性に優れたものであり、液晶表示
板や太陽電池用カバー材料などに使用できる利点がある
。
耐熱性に優れかつ透明性に優れたものであり、液晶表示
板や太陽電池用カバー材料などに使用できる利点がある
。
図面は本発明のポリエステルイミドと従来品のポリイミ
ドとの光透過率を表わすグラフである。
ドとの光透過率を表わすグラフである。
Claims (3)
- （１）下記の一般式で表わされる繰返し単位を含有する
ことを特徴とするポリエステルイミド。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＿１およびＲ＿２は（ａ）６〜２０個の炭素
原子を有する芳香族炭化水素基またはこれらのハロゲン
化誘導体、（ｂ）アルキレン基、炭素原子が２〜８個の
アルキレン基で連鎖停止されたポリオルガノシロキサン
または２〜２０個の炭素原子を有するシクロアルキレン
基、（ｃ）次式▲数式、化学式、表等があります▼ （ただし、Ｘは−Ｏ−、▲数式、化学式、表等がありま
す▼、▲数式、化学式、表等があります▼、−Ｓ−およ
び−ＣｎＨ＿２ｎ−からなる群より選ばれた１員、ｍは
０またはｌの整数、ｎは１〜５の整数である。 ）で表わされる２価の基からなる群から選ばれた２価の
有機基である。〕 - （２）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒ＿１は、（ａ）６〜２０個の炭素原子を有する
芳香族炭化水素基またはこれらのハロゲン化誘導体、（
ｂ）アルキレン基、炭素原子が２〜８個のアルキレン基
で連鎖停止されたポリオルガノシロキサンまたは２〜２
０個の炭素原子を有するシクロアルキレン基、（ｃ）次
式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （ただし、Ｘは−Ｏ−、▲数式、化学式、表等がありま
す▼、▲数式、化学式、表等があります▼、−Ｓ−およ
び−ＣｎＨ＿２ｎ−からなる群より選ばれた１員、ｍは
０またはｌの整数、ｎは１〜５の整数である。 ）で表わされる２価の基からなる群から選ばれた２価の
有機基である。〕で示されるビス（ヒドロキシフタルイ
ミド）と、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒ＿２は、（ａ）６−２０個の炭素原子を有する
芳香族炭化水素基またはこれらのハロゲン化誘導体、（
ｂ）アルキレン基、炭素原子が２〜８個のアルキレン基
で連鎖停止されたポリオルガノシロキサンまたは２〜２
０個の炭素原子を有するシクロアルキレン基、（ｃ）次
式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （ただし、Ｘは−Ｏ−、▲数式、化学式、表等がありま
す▼、▲数式、化学式、表等があります▼、−Ｓ−およ
び−ＣｎＨ＿２ｎ−からなる群より選ばれた１員、ｍは
０またはｌの整数、ｎは１〜５の整数である。 ）で表わされる２価の基からなる群から選ばれた２価の
有機基である。また、ＹおよびＺはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ
のいずれかである。〕 で示されるジカルボン酸ジハライドとを重縮合させるこ
とを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１およびＲ＿２は上記した基と同一である
。）で示されるポリエステルイミドの製造方法。 - （３）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＿２は、（ａ）６−２０個の炭素原子を有する
芳香族炭化水素基またはこれらのハロゲン化誘導体、（
ｂ）アルキレン基、炭素原子が２〜８個のアルキレン基
で連鎖停止されたポリオルガノシロキサンまたは２〜２
０個の炭素原子を有するシクロアルキレン基、（ｃ）次
式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （ただし、Ｘは−Ｏ−、▲数式、化学式、表等がありま
す▼、▲数式、化学式、表等があります▼、−Ｓ−およ
び−ＣｎＨ＿２ｎ−からなる群より選ばれた１員、ｍは
０またはｌの整数、ｎは１〜５の整数である。 ）で表わされる２価の基からなる群から選ばれた２価の
有機基である。〕で示されるビス（エステル無水フタル
酸）と、 一般式 Ｈ＿２Ｎ−Ｒ＿１−ＮＨ＿２ 〔式中Ｒ＿１は、（ａ）６−２０個の炭素原子を有する
芳香族炭化水素基またはこれらのハロゲン化誘導体、（
ｂ）アルキレン基、炭素原子が２〜８個のアルキレン基
で連鎖停止されたポリオルガノシロキサンまたは２〜２
０個の炭素原子を有するシクロアルキレン基、（ｃ）次
式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （ただし、Ｘは−Ｏ−、▲数式、化学式、表等がありま
す▼、▲数式、化学式、表等があります▼、−Ｓ−およ
び−ＣｎＨ＿２ｎ−からなる群より選ばれた１員、ｍは
０またはｌの整数、ｎは１〜５の整数である。 ）で表わされる２価の基からなる群から選ばれた２価の
有機基である。〕で示される有機ジアミンとを重縮合さ
せることを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （Ｒ＿１およびＲ＿２は上記した基と同一である。）で
示されるポリエステルイミドの製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23864985A JPS62100531A (ja) | 1985-10-25 | 1985-10-25 | ポリエステルイミドおよびその製造方法 |
| US06/839,685 US4769475A (en) | 1985-03-19 | 1986-03-14 | Bis(hydroxyphthalimide) and process for preparing the same, and process for preparing polyesterimide by the use thereof |
| EP86103616A EP0195402B1 (en) | 1985-03-19 | 1986-03-18 | Bis(hydroxyphthalimide) and process for preparing the same, and process for preparing polyesterimide by the use thereof |
| DE8686103616T DE3685597T2 (de) | 1985-03-19 | 1986-03-18 | Bis(hydroxyphthalimid), verfahren zu seiner herstellung und seine anwendung zur herstellung von polyesterimid. |
| US07/185,098 US4855390A (en) | 1985-03-19 | 1988-04-22 | Process for preparing polyesterimide from bis(hydroxyphthalimide) |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23864985A JPS62100531A (ja) | 1985-10-25 | 1985-10-25 | ポリエステルイミドおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62100531A true JPS62100531A (ja) | 1987-05-11 |
Family
ID=17033268
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23864985A Pending JPS62100531A (ja) | 1985-03-19 | 1985-10-25 | ポリエステルイミドおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62100531A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0616470U (ja) * | 1992-07-30 | 1994-03-04 | 新日本製鐵株式会社 | 水平パス型の電解処理装置 |
| JP2007314443A (ja) * | 2006-05-24 | 2007-12-06 | Manac Inc | エステル基含有テトラカルボン酸化合物、ポリエステルイミド前駆体、ポリエステルイミドおよびこれらの製造方法 |
-
1985
- 1985-10-25 JP JP23864985A patent/JPS62100531A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0616470U (ja) * | 1992-07-30 | 1994-03-04 | 新日本製鐵株式会社 | 水平パス型の電解処理装置 |
| JP2007314443A (ja) * | 2006-05-24 | 2007-12-06 | Manac Inc | エステル基含有テトラカルボン酸化合物、ポリエステルイミド前駆体、ポリエステルイミドおよびこれらの製造方法 |
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