JPS62100532A - ポリエステルイミドの製造方法 - Google Patents
ポリエステルイミドの製造方法Info
- Publication number
- JPS62100532A JPS62100532A JP61245622A JP24562286A JPS62100532A JP S62100532 A JPS62100532 A JP S62100532A JP 61245622 A JP61245622 A JP 61245622A JP 24562286 A JP24562286 A JP 24562286A JP S62100532 A JPS62100532 A JP S62100532A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- formula
- carried out
- temperature
- carbon atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229920003055 poly(ester-imide) Polymers 0.000 title claims description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 28
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 14
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 claims description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims description 4
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 3
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000003880 polar aprotic solvent Substances 0.000 claims description 2
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 claims description 2
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 2
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims 1
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 claims 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims 1
- MHSKRLJMQQNJNC-UHFFFAOYSA-N terephthalamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=C(C(N)=O)C=C1 MHSKRLJMQQNJNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfone Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 7
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- -1 dicarboxylic acid ester Chemical class 0.000 description 6
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 4
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001408 amides Chemical group 0.000 description 3
- 150000001470 diamides Chemical class 0.000 description 3
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L adipate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCCCC([O-])=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 2
- QZUPTXGVPYNUIT-UHFFFAOYSA-N isophthalamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC(C(N)=O)=C1 QZUPTXGVPYNUIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OLQWMCSSZKNOLQ-ZXZARUISSA-N (3s)-3-[(3r)-2,5-dioxooxolan-3-yl]oxolane-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C[C@H]1[C@@H]1C(=O)OC(=O)C1 OLQWMCSSZKNOLQ-ZXZARUISSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNXJRBGZIXAZRZ-UHFFFAOYSA-N 1-n,4-n-bis(2-hydroxyethyl)benzene-1,4-dicarboxamide Chemical compound OCCNC(=O)C1=CC=C(C(=O)NCCO)C=C1 VNXJRBGZIXAZRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMGLHFBQMBVRCP-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropanamide Chemical compound NC(=O)CCO SMGLHFBQMBVRCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAFZMOJWXXDKJR-UHFFFAOYSA-N 3-n,3-n-bis(2-hydroxyethyl)benzene-1,3-dicarboxamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC(C(=O)N(CCO)CCO)=C1 FAFZMOJWXXDKJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTRDHSJFXHDFIH-UHFFFAOYSA-N 4-n,4-n-bis(2-hydroxyethyl)benzene-1,4-dicarboxamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=C(C(=O)N(CCO)CCO)C=C1 RTRDHSJFXHDFIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical compound [Zn].CC(O)=O.CC(O)=O ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001414 amino alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- STZIXLPVKZUAMV-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,1,2,2-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCCC1(C(O)=O)C(O)=O STZIXLPVKZUAMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002939 deleterious effect Effects 0.000 description 1
- JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N dibutyl(oxo)tin Chemical compound CCCC[Sn](=O)CCCC JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfide Chemical compound C=1C=CC=CC=1SC1=CC=CC=C1 LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 239000011346 highly viscous material Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJURWUUOVGOHJZ-UHFFFAOYSA-N methyl 2-[(2-acetyloxyphenyl)methyl-[2-[(2-acetyloxyphenyl)methyl-(2-methoxy-2-oxoethyl)amino]ethyl]amino]acetate Chemical compound C=1C=CC=C(OC(C)=O)C=1CN(CC(=O)OC)CCN(CC(=O)OC)CC1=CC=CC=C1OC(C)=O OJURWUUOVGOHJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N phthalimide Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NC(=O)C2=C1 XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003334 secondary amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000008028 secondary esters Chemical group 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007056 transamidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/16—Polyester-imides
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ポリエステルおよびポリイミドの高い熱安定性および良
好な性質組合せを有する為に、一般式■のポリエステル
イミドは工業的に非常に興味をもたれている(式■に関
しては特許請求の範囲第1項参照)。しかしながらこの
種の重合体の魅力ある製造方法は従来にはない。それ故
に式■のポリエステルイミドは僅かな実験的な量でしか
用いられていない。
好な性質組合せを有する為に、一般式■のポリエステル
イミドは工業的に非常に興味をもたれている(式■に関
しては特許請求の範囲第1項参照)。しかしながらこの
種の重合体の魅力ある製造方法は従来にはない。それ故
に式■のポリエステルイミドは僅かな実験的な量でしか
用いられていない。
特開昭49−120632号公報には弐■のポリエステ
ルイミドを三段階で製造する方法が開示されている。こ
の方法によると最初に式■のテトラカルボン酸二無水物
を弐■ )IQ −Z −NH2 のアミノアルコールと反応させて式V で表される相応するジアミドジカルボン酸にする。その
後にこれを式■ Cff1− Co −B−Co −i で表すれるジカルボン酸ジクロライドと縮合させて一般
式■ で表されるポリアミドジカルボン酸エステルとしそして
第三段階においてこのポリアミド酸エステルを脱水反応
させて式■ で表されるポリエステルイミドとしている。この方法は
、三段階であるだけでなく、取扱の困難なジカルボン酸
ジクロライドを用いる必要があるので費用がかかる。そ
の上に、反応条件を厳格に維持することでのみ充分に排
除できる一連の有害な副反応が生じる可能性がある。H
Cl1の形成によって生成物が害されるので、酸クロラ
イドを用いることも特別な欠点である。
ルイミドを三段階で製造する方法が開示されている。こ
の方法によると最初に式■のテトラカルボン酸二無水物
を弐■ )IQ −Z −NH2 のアミノアルコールと反応させて式V で表される相応するジアミドジカルボン酸にする。その
後にこれを式■ Cff1− Co −B−Co −i で表すれるジカルボン酸ジクロライドと縮合させて一般
式■ で表されるポリアミドジカルボン酸エステルとしそして
第三段階においてこのポリアミド酸エステルを脱水反応
させて式■ で表されるポリエステルイミドとしている。この方法は
、三段階であるだけでなく、取扱の困難なジカルボン酸
ジクロライドを用いる必要があるので費用がかかる。そ
の上に、反応条件を厳格に維持することでのみ充分に排
除できる一連の有害な副反応が生じる可能性がある。H
Cl1の形成によって生成物が害されるので、酸クロラ
イドを用いることも特別な欠点である。
他方、ドイツ特許出願公開筒1.257,778号明細
書からは、一般式X 〔式中、R1は水素原子、アルキル基またはフェニル基
である。〕 で表されるN−2−アシルオキシエチルフタルイミドを
、無水フタル酸と一般式■ HO−(CHz ) z −NH−Co −Rで表され
る2−ヒドロキシエチルカルボン酸アミドと反応させて
製造することが公知である。当業者にとって、この場合
に第一アミド結合が非常にスムースに破壊されそして第
ニアミドおよびエステルの構造が同時に形成されること
は驚くべきことである。か\るアミド交換反応が式■の
如き二官能性化合物に同様にスムースに適用されること
は予期できなかったことである。
書からは、一般式X 〔式中、R1は水素原子、アルキル基またはフェニル基
である。〕 で表されるN−2−アシルオキシエチルフタルイミドを
、無水フタル酸と一般式■ HO−(CHz ) z −NH−Co −Rで表され
る2−ヒドロキシエチルカルボン酸アミドと反応させて
製造することが公知である。当業者にとって、この場合
に第一アミド結合が非常にスムースに破壊されそして第
ニアミドおよびエステルの構造が同時に形成されること
は驚くべきことである。か\るアミド交換反応が式■の
如き二官能性化合物に同様にスムースに適用されること
は予期できなかったことである。
何故ならば、この為には全く簡単に反応が進行すること
が前提となるからである。
が前提となるからである。
本発明者は驚くべきことに、弐Iのポリエステルイミド
が、式■のテトラカルボン酸二無水物と弐■のN、 N
’−ビス(ω−ヒドロキシアルキル)ジカルボン酸ジア
ミドとを反応させることによって実際に製造できること
を見出した。生じる反応水を除くことおよび反応を少な
くとも終わり頃に150〜300℃の温度のもとで実施
するように配慮することが重要なことである。本発明の
方法の別の特別な実施形態は特許請求の範囲第2〜9項
に記しである。
が、式■のテトラカルボン酸二無水物と弐■のN、 N
’−ビス(ω−ヒドロキシアルキル)ジカルボン酸ジア
ミドとを反応させることによって実際に製造できること
を見出した。生じる反応水を除くことおよび反応を少な
くとも終わり頃に150〜300℃の温度のもとで実施
するように配慮することが重要なことである。本発明の
方法の別の特別な実施形態は特許請求の範囲第2〜9項
に記しである。
適するテトラカルボン酸無水物■には、例えばベンゼン
、ベンゾフェノン、ビフェニル、ジフェニルエーテル並
びにビフェノール−A−化合物から誘導される二個の酸
無水物基を有する芳香族化合物である。
、ベンゾフェノン、ビフェニル、ジフェニルエーテル並
びにビフェノール−A−化合物から誘導される二個の酸
無水物基を有する芳香族化合物である。
特に以下のものが適している:
ピロメリット酸二無水物、
3.3’ 、4.4’−ベンゾフェノン−テトラカルボ
ン酸二無水物、 3.3’、4.4’−ビフェニル−テトラカルボン酸二
無水物、 3.3’、4.4’−ジフェニルエーテル−テトラカル
ボン酸二無水物、 2.2″−ビス(4−(3,4−ジカルボキシフェノキ
シ)フェニル〕ブロバンニ無水物、 4.4゛−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルフィド−二無水物、 並びにこれらの混合物。か\る芳香族酸無水物の40χ
までは炭素原子数12までの脂肪族テトラカルボン酸二
無水物に替えられていてもよい。
ン酸二無水物、 3.3’、4.4’−ビフェニル−テトラカルボン酸二
無水物、 3.3’、4.4’−ジフェニルエーテル−テトラカル
ボン酸二無水物、 2.2″−ビス(4−(3,4−ジカルボキシフェノキ
シ)フェニル〕ブロバンニ無水物、 4.4゛−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルフィド−二無水物、 並びにこれらの混合物。か\る芳香族酸無水物の40χ
までは炭素原子数12までの脂肪族テトラカルボン酸二
無水物に替えられていてもよい。
か−る化合物の例としては1,2,3.4−ブタン−テ
トラカルボン酸二無水物およびシクロペンタン−テトラ
カルボン酸二無水物がある。
トラカルボン酸二無水物およびシクロペンタン−テトラ
カルボン酸二無水物がある。
適するN、 N’−ビス(ω−ヒドロキシアルキル)ジ
カルボン酸ジアミド■には、アルキレン基が炭素原子数
2〜3であるジアミド類が含まれる。基礎となるジカル
ボン酸は脂肪族系でも芳香族系でもよく、16個までの
炭素原子を有している。
カルボン酸ジアミド■には、アルキレン基が炭素原子数
2〜3であるジアミド類が含まれる。基礎となるジカル
ボン酸は脂肪族系でも芳香族系でもよく、16個までの
炭素原子を有している。
以下のジアミド類が特に有利である:
N、N−ビス(2−ヒドロキシルエチル)イソフタル酸
ジアミド、 N、N−ビス(2−ヒドロキシルエチル)テレフタル酸
ジアミド、 N、N−ビス(3−ヒドロキシアルキルル)イソフタル
酸ジアミド、 N、N−ビス(2−ヒドロキシルエチル)アジピン酸ジ
アミド、 N、N−ビス(3−ヒドロキシアルキルル)アジピン酸
ジアミド、 N、N−ビス(2−ヒドロキシルエチル)デカンジカル
ボン酸ジアミド、 N、N−ビス(2−ヒドロキシルエチル)−5−第三ブ
チルイソフタル酸ジアミド、 並びにこれらの混合物。
ジアミド、 N、N−ビス(2−ヒドロキシルエチル)テレフタル酸
ジアミド、 N、N−ビス(3−ヒドロキシアルキルル)イソフタル
酸ジアミド、 N、N−ビス(2−ヒドロキシルエチル)アジピン酸ジ
アミド、 N、N−ビス(3−ヒドロキシアルキルル)アジピン酸
ジアミド、 N、N−ビス(2−ヒドロキシルエチル)デカンジカル
ボン酸ジアミド、 N、N−ビス(2−ヒドロキシルエチル)−5−第三ブ
チルイソフタル酸ジアミド、 並びにこれらの混合物。
ジアミド類は相応するジカルボキシあるいはそれのエス
テルとアルカノールアミンとの反応によって簡単に得ら
れる。実施例においてジアミドの製法を例示する。
テルとアルカノールアミンとの反応によって簡単に得ら
れる。実施例においてジアミドの製法を例示する。
ジアミド■と酸無水物■との反応は極性媒体中で300
℃までの温度で、有利には5〜50重量2の固形分含
有量のもとで実施する。
℃までの温度で、有利には5〜50重量2の固形分含
有量のもとで実施する。
反応媒体としては極性の非プロトン性溶剤、例えばジメ
チルスルホキシド(DMSO)、テトラヒドロチオヘン
ジオキシド(スルホラン)、二I−ロベンゼン、N−メ
チルピロリドン(NMP) 、ジメチルアセトアミド(
DMA)またはジフェニルスルホンまたはこれらと非極
性の有機溶剤、例えばトルエン、キシレン、クロロベン
ゼン、ジクロロベンゼン、アニソールおよびジフェニル
エーテル、との混合物を用いる。その際に後者の割合は
最高80重量2である。
チルスルホキシド(DMSO)、テトラヒドロチオヘン
ジオキシド(スルホラン)、二I−ロベンゼン、N−メ
チルピロリドン(NMP) 、ジメチルアセトアミド(
DMA)またはジフェニルスルホンまたはこれらと非極
性の有機溶剤、例えばトルエン、キシレン、クロロベン
ゼン、ジクロロベンゼン、アニソールおよびジフェニル
エーテル、との混合物を用いる。その際に後者の割合は
最高80重量2である。
この新規の重合反応の機構は詳細には未だ明らかではな
い。恐らく、特別の条件(下記参照)のもとで認められ
た、アミド−、エステル−および酸基を持つ単離可能な
重合体前駆体の発生が暗示する如く、式■の生成物の形
成は先ず第一に、水の分離下を驚く程激し5い分子内転
移を伴う酸無水物基含有ヒドロキシアルキルアミドのO
H−基の反応によって行われる。
い。恐らく、特別の条件(下記参照)のもとで認められ
た、アミド−、エステル−および酸基を持つ単離可能な
重合体前駆体の発生が暗示する如く、式■の生成物の形
成は先ず第一に、水の分離下を驚く程激し5い分子内転
移を伴う酸無水物基含有ヒドロキシアルキルアミドのO
H−基の反応によって行われる。
反応を150℃〜300℃の温度のもとで実施するかあ
るいは最初に更に低い温度(20〜150”C)で開始
しそして反応の終わり頃に150℃以上に加熱してもよ
い。
るいは最初に更に低い温度(20〜150”C)で開始
しそして反応の終わり頃に150℃以上に加熱してもよ
い。
酸無水物■とジアミド■とを20〜150℃の温度、殊
に50〜120℃の温度のもとて溶液状態で反応させる
場合には、最初にアミド−、エステル−および酸基を持
つ重合体が得られる。このものは場合によっては非溶媒
の添加によって沈澱させることによって単離することが
できる。
に50〜120℃の温度のもとて溶液状態で反応させる
場合には、最初にアミド−、エステル−および酸基を持
つ重合体が得られる。このものは場合によっては非溶媒
の添加によって沈澱させることによって単離することが
できる。
第二段階にこの重合体を固体の状態または溶液状態で1
50〜300℃1特に好ましくは170〜270℃の温
度に反応温度を高めることによって弐Iのポリエステル
イミドに転化する。
50〜300℃1特に好ましくは170〜270℃の温
度に反応温度を高めることによって弐Iのポリエステル
イミドに転化する。
化合物IIおよびIIIを150〜300℃1特に好ま
しくは170〜270℃の温度のもとて一段階で反応さ
せる場合には、弐Iのポリエステルイミドの溶液が直接
的に得られる。反応時間は一般に1〜12時間である。
しくは170〜270℃の温度のもとて一段階で反応さ
せる場合には、弐Iのポリエステルイミドの溶液が直接
的に得られる。反応時間は一般に1〜12時間である。
高分子生成物を製造する為には、反応の間に生じる水を
反応混合物から除くことが必要である。このことを達成
するのに、種々の方法が可能性である。例えば窒素また
はアルゴンの如き不活性ガスを反応媒体に通すかまたは
反応媒体上に案内してもよい。減圧状態にすることもお
よび/または(共沸)蒸留することによって溶剤の一部
を水と一緒に除くこともできる。
反応混合物から除くことが必要である。このことを達成
するのに、種々の方法が可能性である。例えば窒素また
はアルゴンの如き不活性ガスを反応媒体に通すかまたは
反応媒体上に案内してもよい。減圧状態にすることもお
よび/または(共沸)蒸留することによって溶剤の一部
を水と一緒に除くこともできる。
反応は触媒の存在下に実施してもよい。この場合以下の
二種類の触媒が適している:1、アルコールと酸無水物
との反応に対して触媒作用することのできる化合物、例
えば −# 硫M、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸 一塩基:例えばトリエチルアミン、ピリジン、4−ジア
ルキルアミノピリジン 一金属化合物:例えば錫、酸化錫、ジブチル酸化錫、塩
化亜鉛、酢酸亜鉛、酢酸すl−IJウム。
二種類の触媒が適している:1、アルコールと酸無水物
との反応に対して触媒作用することのできる化合物、例
えば −# 硫M、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸 一塩基:例えばトリエチルアミン、ピリジン、4−ジア
ルキルアミノピリジン 一金属化合物:例えば錫、酸化錫、ジブチル酸化錫、塩
化亜鉛、酢酸亜鉛、酢酸すl−IJウム。
2、カルボン酸アミドのイミド化に対して触媒作用する
ことのできる化合物、例えばトリエチルアミン−場合に
よってはジカルボン敢無yJiと一緒一、ピリジンとジ
カルボン酸無水物との混合物、酢酸アルカリ金属塩と無
水酢酸との混合物。
ことのできる化合物、例えばトリエチルアミン−場合に
よってはジカルボン敢無yJiと一緒一、ピリジンとジ
カルボン酸無水物との混合物、酢酸アルカリ金属塩と無
水酢酸との混合物。
重合体形成反応に終わりに、用いる溶剤あるいは溶剤混
合物に重合体を溶解または懸濁させた多かれ少なかれ粘
性の溶液または懸濁物が得られる。ポリエステルイミド
の単離には制限はない。このポリエステルイミドは(被
覆剤を製造する為に)直接的に用いることもできるしま
たは場合によっては希釈した後に非溶剤の添加によって
沈澱させることもできる。
合物に重合体を溶解または懸濁させた多かれ少なかれ粘
性の溶液または懸濁物が得られる。ポリエステルイミド
の単離には制限はない。このポリエステルイミドは(被
覆剤を製造する為に)直接的に用いることもできるしま
たは場合によっては希釈した後に非溶剤の添加によって
沈澱させることもできる。
非溶剤としては低級アルコール、例えばメタノール、エ
タノール、インプロパツール、ケトン類、例えばアセト
ン、メチルエチルケトンまたは水およびこれらのものの
混合物が適している。以下の実施例によって本発明の方
法を更に詳細に説明する。しかしながらこれらの実施例
は本発明を制限するものではない。
タノール、インプロパツール、ケトン類、例えばアセト
ン、メチルエチルケトンまたは水およびこれらのものの
混合物が適している。以下の実施例によって本発明の方
法を更に詳細に説明する。しかしながらこれらの実施例
は本発明を制限するものではない。
災辰悠固分
八、 N、N’−ビス(ω−ヒドロキシエチル)テレフ
凧料 97.1gのテレフテル酸ジメチルエステル64.13
gのエタノールアミン を 原料の混合物を2!の丸底フラスコ中で撹拌下に120
℃に加熱する。150℃に更に加熱した場合に固化する
透明な溶融物が、メタノールの放出下に生じる。30分
後に10mbarの減圧状態乙こしそしてこのように6
0分の間、反応混合物の易揮発性成分を除く。残渣を1
.5pの水で再結晶させる。
凧料 97.1gのテレフテル酸ジメチルエステル64.13
gのエタノールアミン を 原料の混合物を2!の丸底フラスコ中で撹拌下に120
℃に加熱する。150℃に更に加熱した場合に固化する
透明な溶融物が、メタノールの放出下に生じる。30分
後に10mbarの減圧状態乙こしそしてこのように6
0分の間、反応混合物の易揮発性成分を除く。残渣を1
.5pの水で再結晶させる。
収量: 119g (理論値の90χ)融点:232℃
M−料:
18.2 gのN、IJ“−ビス(2−ヒドロキシエチ
ル)イソフタル酸ジアミド(B)110) 15.75gの無水ピロメリット酸(PMDA)150
gのスホラン 30gのクロロベンゼン 操作: 窒素引き入れ口、蒸留分留管および撹拌機を備えたフラ
スコ中に、20gのスルホランにBHIDを溶解した溶
液を窒素ガスの導入(2OL/時)下に165℃のもと
て最初に導入し、クロロベンゼンと残りのスルホラン′
との混合物にPMDAを溶解した溶液を60分間に滴加
し、同時に窒素ガスを導入する。滴加終了後に内部温度
を185℃に高めそして6時間反応させる。PMOAを
添加する間および185℃での反応段階の間、最終的に
純粋なりロロベンゼンに変わるまでクロロベンゼン/水
−共沸物を留去する。
ル)イソフタル酸ジアミド(B)110) 15.75gの無水ピロメリット酸(PMDA)150
gのスホラン 30gのクロロベンゼン 操作: 窒素引き入れ口、蒸留分留管および撹拌機を備えたフラ
スコ中に、20gのスルホランにBHIDを溶解した溶
液を窒素ガスの導入(2OL/時)下に165℃のもと
て最初に導入し、クロロベンゼンと残りのスルホラン′
との混合物にPMDAを溶解した溶液を60分間に滴加
し、同時に窒素ガスを導入する。滴加終了後に内部温度
を185℃に高めそして6時間反応させる。PMOAを
添加する間および185℃での反応段階の間、最終的に
純粋なりロロベンゼンに変わるまでクロロベンゼン/水
−共沸物を留去する。
重縮合の終了後に、冷却した反応混合物を300mnの
メタノール中に注ぎ込む。沈澱物を吸引濾過し、メタノ
ールで洗浄しそして次いで減圧下に100 ℃のもとで
乾燥する。
メタノール中に注ぎ込む。沈澱物を吸引濾過し、メタノ
ールで洗浄しそして次いで減圧下に100 ℃のもとで
乾燥する。
収量・28.8 g
?1. ・6,500(GPC−分析)Mti ・
20.000 (GPC−分析)IR−スペクトル=1
780および1725 cm −’ (イミド+ エス
テル) 、1390.1370.1235および730
cm −’ 原1わ− 19,18のBHID 15.75gのPMDA 120gのスルホラン 30 gのクロロベンゼン 操作と 窒素雰囲気下に、スルホランとクロロベンゼンとの混合
物にB[IIDを溶解した溶液を165℃に加熱しそし
てその後に2時間の間に回分的に固体状のPMOAを混
入する。PMDAの添加終了後に反応温度を185℃に
高めそして4時間の間反応させる。後処理を実施例1と
同様に行う。
20.000 (GPC−分析)IR−スペクトル=1
780および1725 cm −’ (イミド+ エス
テル) 、1390.1370.1235および730
cm −’ 原1わ− 19,18のBHID 15.75gのPMDA 120gのスルホラン 30 gのクロロベンゼン 操作と 窒素雰囲気下に、スルホランとクロロベンゼンとの混合
物にB[IIDを溶解した溶液を165℃に加熱しそし
てその後に2時間の間に回分的に固体状のPMOAを混
入する。PMDAの添加終了後に反応温度を185℃に
高めそして4時間の間反応させる。後処理を実施例1と
同様に行う。
収量・29.2 g
門。=11,500(GPC−分析)
M h =35,100(GPC−分析)iR−スペ
クトル・実施例1と同じ。
クトル・実施例1と同じ。
実施例4
原料:
18.2 gのBHID
15.75gのPMDA
150gのニトロベンゼン
艮庄二
ニトロベンゼンに溶解したPMDAを、60分の間に、
220℃のもとで窒素雰囲気下に撹拌された8111)
溶融物に滴加する。次いで220”Cのもとて2時間、
後反応させる。後処理は実施例1と同様に行う。
220℃のもとで窒素雰囲気下に撹拌された8111)
溶融物に滴加する。次いで220”Cのもとて2時間、
後反応させる。後処理は実施例1と同様に行う。
収量・29.1 g
M 、、−13,100(GPC−分析)M9 ・40
、600 (GPC−分析)IR〜スペクトル・実施
例1と同じ。
、600 (GPC−分析)IR〜スペクトル・実施
例1と同じ。
実施例5
原料:
18.2 gのBHID
15.75gのPMOA
135gのジフェニルスルホン
15gのジフェニルエーテル
操作:
250℃で窒素雰囲気下にあるBHID、ジフェニルス
ルホンおよびジフェニルエーテルより成る混合物に、撹
拌しながら回分的に60分の間にPMDAを添加する。
ルホンおよびジフェニルエーテルより成る混合物に、撹
拌しながら回分的に60分の間にPMDAを添加する。
同じ温度のもとで2時間の後反応の後にこの混合物を2
00℃に冷却し、反応混合物を200gのNMPで希釈
する。次いで、室温に冷却した混合物を500gのメタ
ノールに混入撹拌し、沈澱物を吸引濾過しそし7て生成
物を500gの沸騰アセトンにて抽出する。その後に生
成物を再度吸引濾過し、メタノールで洗浄し、次いで減
圧下に乾燥する。
00℃に冷却し、反応混合物を200gのNMPで希釈
する。次いで、室温に冷却した混合物を500gのメタ
ノールに混入撹拌し、沈澱物を吸引濾過しそし7て生成
物を500gの沸騰アセトンにて抽出する。その後に生
成物を再度吸引濾過し、メタノールで洗浄し、次いで減
圧下に乾燥する。
収量= 28.5 g
M 、、=12,500(GPC−分析)M w =
38,700(GPC−分析)元素分析: 測定値:60.5X C13,45X H,29,2X
O,6,8X N計算値:60゜8χC13,2χH
,29,5χ0.6.5χNIR−スペクトル・実施例
1と同じ。
38,700(GPC−分析)元素分析: 測定値:60.5X C13,45X H,29,2X
O,6,8X N計算値:60゜8χC13,2χH
,29,5χ0.6.5χNIR−スペクトル・実施例
1と同じ。
実施例6
原料;
12gのBHID
7.1gのN、 N’−ビス(2−ヒドロキシエチル)
テレフタル酸ジアミド(BHTD) 16.2gのPMDA 310gのニトロベンゼン 1止と 190 gのニトロベンゼン中で220℃で窒素雰囲気
において撹拌したBHIDとBHTDとの混合物に、1
20gのニトロベンゼンにPMDAを溶解した溶液を6
0分の間に滴加し、その際に13On+ Itの蒸留液
を留出する。次いで反応温度を200 ℃に下げそして
4時間、後反応させる。後処理は実施例1と同様に行う
。
テレフタル酸ジアミド(BHTD) 16.2gのPMDA 310gのニトロベンゼン 1止と 190 gのニトロベンゼン中で220℃で窒素雰囲気
において撹拌したBHIDとBHTDとの混合物に、1
20gのニトロベンゼンにPMDAを溶解した溶液を6
0分の間に滴加し、その際に13On+ Itの蒸留液
を留出する。次いで反応温度を200 ℃に下げそして
4時間、後反応させる。後処理は実施例1と同様に行う
。
収量・29.4 g
M 、 =11,300(GPC−分析)M W
=36,100(GPC−分析)IR−スペクトル=1
780および1725 am −’ (イミド+ エス
テル) 、1390.1375.1280.1240、
745および715 cm−’9.1gのB旧D 7.9gのPMDA 100gのスルホラン 1作二 スルホランにBHIDを溶解している80℃のもとで撹
拌した溶液に、120分の間に回分的にPMI)A(固
体)を添加する。一方、同時に20 !!、/時の窒素
ガスを導入する。添加および4時間の後反応の終了後に
高い粘度の物質が得られる。沈澱によって単離した試料
が、アミド−、エステル−および酸基を有する重合体が
生じていることを示している(イミド基は検出されない
)。次いで反応混合物を200℃に加熱しそしてこの温
度で4時間、後反応させる。後処理を実施例1と同様に
行う。
=36,100(GPC−分析)IR−スペクトル=1
780および1725 am −’ (イミド+ エス
テル) 、1390.1375.1280.1240、
745および715 cm−’9.1gのB旧D 7.9gのPMDA 100gのスルホラン 1作二 スルホランにBHIDを溶解している80℃のもとで撹
拌した溶液に、120分の間に回分的にPMI)A(固
体)を添加する。一方、同時に20 !!、/時の窒素
ガスを導入する。添加および4時間の後反応の終了後に
高い粘度の物質が得られる。沈澱によって単離した試料
が、アミド−、エステル−および酸基を有する重合体が
生じていることを示している(イミド基は検出されない
)。次いで反応混合物を200℃に加熱しそしてこの温
度で4時間、後反応させる。後処理を実施例1と同様に
行う。
収量・14.3 g
M4 ・9,400(GPC−分析)
M w =29,800(GPC−分析)IR−スペ
クトル: 実施例1と同じ。
クトル: 実施例1と同じ。
叉鳳開」
原料:
9.18のBHID
7.9gのPMDA
0.05 gの4−ジメチルアミノピリジン100gの
スルホラン 実施例6に記載されている如(実施する。 PMDAの
添加終了後に、反応混合物の粘度は既に著しく増加する
。沈澱処理によって単離した試料が、アミド−、エステ
ル−および酸基を有する重合体が生じていることを示し
ている(イミド基は検出されない)。次いで反応混合物
を200℃に加熱しそしてこの温度で4時間、後反応さ
せる。後処理を実施例1と同様に行う。
スルホラン 実施例6に記載されている如(実施する。 PMDAの
添加終了後に、反応混合物の粘度は既に著しく増加する
。沈澱処理によって単離した試料が、アミド−、エステ
ル−および酸基を有する重合体が生じていることを示し
ている(イミド基は検出されない)。次いで反応混合物
を200℃に加熱しそしてこの温度で4時間、後反応さ
せる。後処理を実施例1と同様に行う。
収量= 14.5 g
M、 、10.800(GPC−分析)M u =
31.200(GPC−分析)IR−スペクトル: 実
施例1と同じ。
31.200(GPC−分析)IR−スペクトル: 実
施例1と同じ。
18.2gのBHTD
37 、4gの2,2−ビス−(4−(3,4−アンヒ
ドロジカルボキシフェノキシ)フェニル〕プロパン20
0gのスルホラン 30gのクロロベンゼン 実施例1に記載の如〈実施する。
ドロジカルボキシフェノキシ)フェニル〕プロパン20
0gのスルホラン 30gのクロロベンゼン 実施例1に記載の如〈実施する。
収量・49.3 g
M7 ・15,700(GPC−分析)M w =5
4.900(GPC−分析)IR−スペクトル: 17
75および1725cm−’ (イミド+ エステル)
。
4.900(GPC−分析)IR−スペクトル: 17
75および1725cm−’ (イミド+ エステル)
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)一般式 I ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Aは炭素原子数6〜32の四価の芳香族基を意
味しそして40%までが炭素原子数16までの四価の脂
肪族基に替えられていてもよく、Bは炭素原子数14ま
での二価の脂肪族基または芳香族基を意味し、 Zは炭素原子数2〜3のアルキレン基を意味しそして nは3〜500、殊に10〜200である。〕で表され
るポリエステルイミドを製造するに当たって、式II ▲数式、化学式、表等があります▼ で表されるテトラカルボン酸二無水物を、反応温度が少
なくとも反応の終わりごろに150〜300℃であるよ
うに、生じる反応水を排除しながら式III HO−Z−NH−CO−B−CO−NH−Z−OHで表
されるN,N′−ビス(ω−ヒドロキシアルキル)ジカ
ルボン酸ジアミドと反応させ、その際A、BおよびZは
上記の意味を有することを特徴とする、上記ポリエステ
ルイミドの製造方法。 2)化合物IIおよびIIIを最初に150℃以下、殊に5
0〜120℃の温度のもとで反応させ、次いで、生じる
水を排除しながら反応温度を150℃以上、殊に170
〜300℃の温度に高める特許請求の範囲第1項記載の
方法。 3)反応を150℃以下、殊に170〜300℃の温度
のもとで実施する特許請求の範囲第1項記載の方法。 4)反応を触媒の存在下に実施する特許請求の範囲第1
〜3項の何れか一つに記載の方法。 5)酸無水物IIとしてピロメリット酸二無水物を用いる
特許請求の範囲第1〜4項の何れか一つに記載の方法。 6)ジアミドとしてN,N′−ビス(2−ヒドロキシエ
チル)−イソフタル酸−および/または−テレフタル酸
ジアミドを用いる特許請求の範囲第1〜5項の何れか一
つに記載の方法。 7)反応を保護ガス、例えば窒素ガスまたはアルゴンの
雰囲気のもとで実施する特許請求の範囲第1〜6項の何
れか一つに記載の方法。 8)反応を、極性の非プロトン系溶剤またはこのものと
非極性の有機溶剤との混合物より成る極性反応媒体中で
実施し、その際非極性溶剤の割合が最高80重量%であ
る特許請求の範囲第1〜7項の何れか一つに記載の方法
。 9)式 I の重合体を沈澱処理および非溶媒、例えばメ
タノールまたはエタノールの添加によって分離する特許
請求の範囲第1〜8項の何れか一つに記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3537230.3 | 1985-10-19 | ||
| DE19853537230 DE3537230A1 (de) | 1985-10-19 | 1985-10-19 | Polyesterimide und verfahren zu ihrer herstellung |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62100532A true JPS62100532A (ja) | 1987-05-11 |
Family
ID=6283947
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61245622A Pending JPS62100532A (ja) | 1985-10-19 | 1986-10-17 | ポリエステルイミドの製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4687834A (ja) |
| EP (1) | EP0222980A3 (ja) |
| JP (1) | JPS62100532A (ja) |
| DE (1) | DE3537230A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5266429A (en) * | 1992-12-21 | 1993-11-30 | Eastman Kodak Company | Polyester-imides in electrophotographic elements |
| KR20000068695A (ko) * | 1997-08-05 | 2000-11-25 | 야스이 쇼사꾸 | 토너 조성물 |
| US6294301B1 (en) | 2000-05-19 | 2001-09-25 | Nexpress Solutions Llc | Polymer and photoconductive element having a polymeric barrier layer |
| US6593046B2 (en) | 2000-05-19 | 2003-07-15 | Heidelberger Druckmaschinen Ag | Photoconductive elements having a polymeric barrier layer |
| US6866977B2 (en) | 2000-05-19 | 2005-03-15 | Eastman Kodak Company | Photoconductive elements having a polymeric barrier layer |
| US20140174736A1 (en) | 2012-12-21 | 2014-06-26 | Halliburton Energy Services, Inc. | Wellbore Servicing Materials and Methods of Making and Using Same |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1257778B (de) * | 1964-08-13 | 1968-01-04 | Huels Chemische Werke Ag | Verfahren zur Herstellung von N-2-Acyloxyaethyl-phthalimiden |
| US3505272A (en) * | 1966-11-18 | 1970-04-07 | Schjeldahl Co G T | Copolymer adhesive system |
| DE2401027C2 (de) * | 1974-01-10 | 1983-02-03 | Dr. Beck & Co Ag, 2000 Hamburg | Verfahren zur Isolierung von elektrischen Leitern mit Harzschmelzen |
| US4339383A (en) * | 1979-07-11 | 1982-07-13 | Ciba-Geigy Corporation | Imide containing stabilizers for chlorinated thermoplastics |
| US4556705A (en) * | 1984-10-26 | 1985-12-03 | General Electric Company | Thermoplastic polyetherimide ester elastomers |
| US4552950A (en) * | 1985-01-11 | 1985-11-12 | General Electric Company | Polyetherimide esters |
-
1985
- 1985-10-19 DE DE19853537230 patent/DE3537230A1/de not_active Withdrawn
-
1986
- 1986-07-22 US US06/888,039 patent/US4687834A/en not_active Expired - Fee Related
- 1986-08-02 EP EP86110725A patent/EP0222980A3/de not_active Withdrawn
- 1986-10-17 JP JP61245622A patent/JPS62100532A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0222980A2 (de) | 1987-05-27 |
| US4687834A (en) | 1987-08-18 |
| EP0222980A3 (de) | 1988-05-04 |
| DE3537230A1 (de) | 1987-04-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Loncrini | Aromatic polyesterimides | |
| US4168366A (en) | Polyimide derivatives | |
| JP2845957B2 (ja) | イミド環を有する新規ジフェノール類およびその製造方法 | |
| US4166168A (en) | Polymerization products of acetylene-terminated polyimide derivatives | |
| JPS63215725A (ja) | ポリイミドの製造方法 | |
| US5493002A (en) | Aryl ethynyl phthalic anhydrides and polymers with terminal or pendant amines prepared with aryl ethynyl phthalic anhydrides | |
| KR20020042733A (ko) | 신규디아민, 신규산2무수물 및 그것으로 이루어지는신규폴리이미드조성물 | |
| FR2501698A1 (fr) | Procede de preparation de composes de type polyamide utilisant un sel de mono-metal alcalin d'acide dicarboxylique | |
| JPS62100532A (ja) | ポリエステルイミドの製造方法 | |
| US4168367A (en) | Acetylene-terminated polyimide derivatives | |
| EP0411304B1 (en) | Acetylene bis-phthalic compounds and polyimides made therefrom | |
| JPS61103928A (ja) | 高い熱安定性及び耐溶剤性を有するポリエーテルイミド及びその前駆体 | |
| JPS63215727A (ja) | ポリイミドの製造法 | |
| US4908430A (en) | Use of special polyimides as cast films and coatings | |
| JP2003238684A (ja) | ポリアミド酸溶液の製造方法 | |
| US4973661A (en) | Process for forming end capped polyamic acids polyimides | |
| EP0450926A2 (en) | Fluorine-containing polyimides and precursors thereof | |
| CH617447A5 (ja) | ||
| US4118392A (en) | Dicarboxylic compounds and polyesters derived therefrom | |
| US5126462A (en) | Sulfur-containing aromatic tetracarboxylic acids and derivatives thereof | |
| JP2506920B2 (ja) | ポリエ―テルスルホンオリゴマ―及びポリエ―テルスルホンイミド | |
| JP2677911B2 (ja) | 含フツ素ポリイミド、含フツ素ポリアミド酸及びポリイミド系樹脂の製造法 | |
| JPH09316190A (ja) | 新規な芳香族ジアミン化合物およびその製造方法並びにその重合体。 | |
| EP0314766B1 (en) | Method for making thianthrene dianhydride and polyimides obtained therefrom | |
| JPS6141913B2 (ja) |