JPS62105100A - 電子線照射装置 - Google Patents
電子線照射装置Info
- Publication number
- JPS62105100A JPS62105100A JP60246084A JP24608485A JPS62105100A JP S62105100 A JPS62105100 A JP S62105100A JP 60246084 A JP60246084 A JP 60246084A JP 24608485 A JP24608485 A JP 24608485A JP S62105100 A JPS62105100 A JP S62105100A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- capstan
- beam irradiation
- devices
- irradiation area
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—HANDLING OF PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K5/00—Irradiation devices
- G21K5/10—Irradiation devices with provision for relative movement of beam source and object to be irradiated
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C71/00—After-treatment of articles without altering their shape; Apparatus therefor
- B29C71/04—After-treatment of articles without altering their shape; Apparatus therefor by wave energy or particle radiation, e.g. for curing or vulcanising preformed articles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
- B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
- B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
- B29C35/0866—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using particle radiation
- B29C2035/0877—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using particle radiation using electron radiation, e.g. beta-rays
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
- B29L2031/00—Other particular articles
- B29L2031/34—Electrical apparatus, e.g. sparking plugs or parts thereof
- B29L2031/3462—Cables
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Processes Specially Adapted For Manufacturing Cables (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、電線等の線材、長尺紐、チューブと云った
線条体を電子線で処理する電子線照射装置、詳しくは、
処理能力の大きな装置の運転効率を高めることを可能に
する技術に関する。
線条体を電子線で処理する電子線照射装置、詳しくは、
処理能力の大きな装置の運転効率を高めることを可能に
する技術に関する。
近年、電子線加速器出力の大規模化に伴ない、線条体を
処理物とする電子線照射装置では、１台の加速器によっ
て広範囲のサイズの線条体を各々線密度を高めて効率良
く処理する要求が高まっている。
処理物とする電子線照射装置では、１台の加速器によっ
て広範囲のサイズの線条体を各々線密度を高めて効率良
く処理する要求が高まっている。
そこで、従来は、被処理線条体（以下ではこれを単に処
理物と云う）のサイズに適合したホイールを備えるキャ
プスタンを複数卓備しておき、サイズ変化に応じてキャ
プスタンを交換する方法を採っていたが、この方法は、
キャプスタンの交換に多くの時間を費やす上に、多数の
キャプスタンが必要で設備投資が大きくなることから、
最近は第５図或いは第７図に示すように、照射領域を多
分割した装置を使用するケースが増えている。
理物と云う）のサイズに適合したホイールを備えるキャ
プスタンを複数卓備しておき、サイズ変化に応じてキャ
プスタンを交換する方法を採っていたが、この方法は、
キャプスタンの交換に多くの時間を費やす上に、多数の
キャプスタンが必要で設備投資が大きくなることから、
最近は第５図或いは第７図に示すように、照射領域を多
分割した装置を使用するケースが増えている。
第５図及び第６図の装置は、電子線加速器によって加速
され、照射窓２から照射される電子線３の照射ゾーン４
を複数に（図は２つに）分割し、各々のゾーンに異サイ
ズ処理物Ａ、Ｂの線径に合わせて２個が１対となるホイ
ール５．６の径を変えた独立駆動のできるキャプスタン
装置７・７を並列配置したものであり、一方、第７図及
び第８図の装置は、前述の装置に、照射線を分割ゾーン
毎に遮；断するビームシャッタ等の電子線遮断装置８を
付加したものである。
され、照射窓２から照射される電子線３の照射ゾーン４
を複数に（図は２つに）分割し、各々のゾーンに異サイ
ズ処理物Ａ、Ｂの線径に合わせて２個が１対となるホイ
ール５．６の径を変えた独立駆動のできるキャプスタン
装置７・７を並列配置したものであり、一方、第７図及
び第８図の装置は、前述の装置に、照射線を分割ゾーン
毎に遮；断するビームシャッタ等の電子線遮断装置８を
付加したものである。
ナオ、いずれの装置も、９はキャプスタンの架台、１０
．１０’は各キャプスタンの駆動装置を示している。
．１０’は各キャプスタンの駆動装置を示している。
しかしながら、第５図及び第６図に示す装置は、照射ゾ
ーンを通過させる処理物が、いずれかの分割照射ゾーン
において無くなると、設備の利用効率を無視して運転を
停止するか、又は、その事態の回避策として、前後の工
程で物流を複雑化する生産調整を行って各ゾーンの負荷
バランスを平均化しなければならないと云う欠点を有し
ている。
ーンを通過させる処理物が、いずれかの分割照射ゾーン
において無くなると、設備の利用効率を無視して運転を
停止するか、又は、その事態の回避策として、前後の工
程で物流を複雑化する生産調整を行って各ゾーンの負荷
バランスを平均化しなければならないと云う欠点を有し
ている。
また、第７図及び第８図に示す装置は、照射ゾーンのど
れか１つに処理物が無くなった場合、そのゾーンの照射
電子線を、遮断装置８によって遮断することにより、無
負荷領域のみを停止させることが可能であるが、先の装
置程ではないにしても、一部を停止している間の設備稼
動率が低下することを避けられない。
れか１つに処理物が無くなった場合、そのゾーンの照射
電子線を、遮断装置８によって遮断することにより、無
負荷領域のみを停止させることが可能であるが、先の装
置程ではないにしても、一部を停止している間の設備稼
動率が低下することを避けられない。
この発明は、か＼る問題点の解決策として提案された線
条体処理用の電子線照射装置である。
条体処理用の電子線照射装置である。
この発明は、上記の問題を、並列配置した複数のキャプ
スタン装置の位置を切換えることによって解決している
。具体的には、各々が独立駆動手段を有し、電子線の被
照射線条体を掛け渡して走行させる平行ホイ−ルの軸心
方向に並列配置された複数のキャプスタン装置をホイー
ル軸方向に移動可能に保持し、さらに、そのキャプスタ
ン装置の中の少なくとも１つは電子線照射領域外に、残
りの装置は電子線照射領域内に位置せしめると共に、各
キャプスタン装置のホイール軸方向移動距離を、電子線
照射領域外のキャプスタン装置が照射領域内に進入でき
る長さに設定した装置であって、いくつかのキャプスタ
ン装置の照射ゾーン内外への変位により、サイズの異な
る処理物の処理比率を変え、それによって処理量の差を
吸収し、設備、特に加速器の使用効率を高めるようにし
である。なお、キャプスタン装置の移動は、人力によっ
て行ってもよいが、後述する位置切換手段を付加して、
自動切換えを行うと、設備の稼動率がより向上する。
スタン装置の位置を切換えることによって解決している
。具体的には、各々が独立駆動手段を有し、電子線の被
照射線条体を掛け渡して走行させる平行ホイ−ルの軸心
方向に並列配置された複数のキャプスタン装置をホイー
ル軸方向に移動可能に保持し、さらに、そのキャプスタ
ン装置の中の少なくとも１つは電子線照射領域外に、残
りの装置は電子線照射領域内に位置せしめると共に、各
キャプスタン装置のホイール軸方向移動距離を、電子線
照射領域外のキャプスタン装置が照射領域内に進入でき
る長さに設定した装置であって、いくつかのキャプスタ
ン装置の照射ゾーン内外への変位により、サイズの異な
る処理物の処理比率を変え、それによって処理量の差を
吸収し、設備、特に加速器の使用効率を高めるようにし
である。なお、キャプスタン装置の移動は、人力によっ
て行ってもよいが、後述する位置切換手段を付加して、
自動切換えを行うと、設備の稼動率がより向上する。
第１図乃至第４図に、この発明の装置の実施例を示す。
第１図の電子線照射装置は、異サイズ処理物へＢのいず
れか一方を照射ゾーン４に導入するものである。なお、
その側面図は第６図と同じであるので省略する。
れか一方を照射ゾーン４に導入するものである。なお、
その側面図は第６図と同じであるので省略する。
この装置では、架台９上に、平行な２個が１対となるホ
イール５．５と６．６の径を変えたキャプスタン装置７
，７がホイール軸心方向に並設されている。そのキャプ
スタン装置７．７は、各々を駆動装置１０．１０によっ
て独立駆動し得るものであり、いずれか一方が電子線照
射ゾーン４に対応する位置にある。即ち、電子線加速器
からの照射電子線は、図の状態では図の下側のキャプス
タン装置の平行ホイール間に掛け渡されてホイールの回
転によりゾーン４内を通過する処理物Ｂにのみ降り注ぎ
、キャプスタン装置の位置切換えが行われて他方の装置
７により走行せしめられる処理物Ａがゾーン４内に移動
すると、その処理物Ａにのみ降り注ぐようになっている
。
イール５．５と６．６の径を変えたキャプスタン装置７
，７がホイール軸心方向に並設されている。そのキャプ
スタン装置７．７は、各々を駆動装置１０．１０によっ
て独立駆動し得るものであり、いずれか一方が電子線照
射ゾーン４に対応する位置にある。即ち、電子線加速器
からの照射電子線は、図の状態では図の下側のキャプス
タン装置の平行ホイール間に掛け渡されてホイールの回
転によりゾーン４内を通過する処理物Ｂにのみ降り注ぎ
、キャプスタン装置の位置切換えが行われて他方の装置
７により走行せしめられる処理物Ａがゾーン４内に移動
すると、その処理物Ａにのみ降り注ぐようになっている
。
キャプスタン装置の位置切換えは、各装置７゜７を図の
矢印方向に個別に、又は架台を含めて一体的に移動させ
て行う。
矢印方向に個別に、又は架台を含めて一体的に移動させ
て行う。
第２図及び第３図に、上記の動作を機械的に行う位置切
換え手段の具体的例を示す。
換え手段の具体的例を示す。
第２図の位置切換え手段１１は、架台９に取付けられた
車輪１２と、それをホイール軸方向に案内するレール１
３、及び一端が固定物１４に、他端が架台９に固定され
るレールと同−向きのシリンダ１５から成り、シリンダ
ラムの押し引きにより架台を走行させていずれか一方の
キャプスタン装置を照射ゾーン４内に移動させるように
なっている。
車輪１２と、それをホイール軸方向に案内するレール１
３、及び一端が固定物１４に、他端が架台９に固定され
るレールと同−向きのシリンダ１５から成り、シリンダ
ラムの押し引きにより架台を走行させていずれか一方の
キャプスタン装置を照射ゾーン４内に移動させるように
なっている。
一方、第３図の位置切換え手段１１は、各々のキャプス
タン装置７．７を架台９に固定されたシリンダ１６．１
７により個別に移動させるもので、対向シリンダ１６．
１７のラム押し引きにより各キャプスタン装置７，７の
位置が変更される。
タン装置７．７を架台９に固定されたシリンダ１６．１
７により個別に移動させるもので、対向シリンダ１６．
１７のラム押し引きにより各キャプスタン装置７，７の
位置が変更される。
なお、架台を含めたキャプスタン装置又はキャプスタン
装置個々の駆動手段は、シリンダに限定されない。例え
ば、モータ、モータと螺合物に推力を生じさせるボール
ねじを組合せた駆動機構、或いは、リニアレールと云っ
た周知の他の手段を用いてもよい。
装置個々の駆動手段は、シリンダに限定されない。例え
ば、モータ、モータと螺合物に推力を生じさせるボール
ねじを組合せた駆動機構、或いは、リニアレールと云っ
た周知の他の手段を用いてもよい。
以上から成る第１図の照射装置は、キャプスタンの位置
切換えによって、処理物Ａ、Ｂの処理比率を１：０又は
Ｏ：１に変更できる。
切換えによって、処理物Ａ、Ｂの処理比率を１：０又は
Ｏ：１に変更できる。
次に、第４図は、照射ゾーンの分割思想を取り入れた他
の実施例を示している。その側面は、第８図とはゾ同一
である。
の実施例を示している。その側面は、第８図とはゾ同一
である。
即ち、架台９上には、上記した方向に４基のキャプスタ
ン装置７が並設され、その中の中央の２基が照射ゾーン
４に対応する位置にある。
ン装置７が並設され、その中の中央の２基が照射ゾーン
４に対応する位置にある。
各キャプスタン装置は、いずれも独立駆動のための駆動
装置１０を備えており、また、図では、上側の２基のホ
イール５．５′、下側の２基のホイール６．６′を各々
同一径にし、ホイール５．５′には処理物Ａを、６．６
′には八とサイズの異なる処理物Ｂを掛け渡しである。
装置１０を備えており、また、図では、上側の２基のホ
イール５．５′、下側の２基のホイール６．６′を各々
同一径にし、ホイール５．５′には処理物Ａを、６．６
′には八とサイズの異なる処理物Ｂを掛け渡しである。
さらに、照射ゾーン４の２分割された領域には、各々第
８図で述べた電子線遮断装置８を設けである。なお、１
５は、第２図で述べた位置切換手段のシリンダである。
８図で述べた電子線遮断装置８を設けである。なお、１
５は、第２図で述べた位置切換手段のシリンダである。
この照射装置は、電子線遮断装置８による電子線の遮断
が、分割ゾーンの双方において行われていないとすると
、図の状態では、処理物Ａ、Ｂの処理比率が１：１とな
るが、矢印（イ）方向への移動（こよりホイール５をゾ
ーン内に導き、ホイール６をゾーン４外に退出させると
、Ａ−Ｂの処理比率は２二〇になる。また、図の位置か
らキャプスタン装置を矢印（ロ）の方向へ移動させると
、その処理比率は０：２になる。さらに、電子線遮断装
置８を備えているので、分割照射ゾーンの一方にのみ処
理物を流す場合にも加速器を停止させずに済む。
が、分割ゾーンの双方において行われていないとすると
、図の状態では、処理物Ａ、Ｂの処理比率が１：１とな
るが、矢印（イ）方向への移動（こよりホイール５をゾ
ーン内に導き、ホイール６をゾーン４外に退出させると
、Ａ−Ｂの処理比率は２二〇になる。また、図の位置か
らキャプスタン装置を矢印（ロ）の方向へ移動させると
、その処理比率は０：２になる。さらに、電子線遮断装
置８を備えているので、分割照射ゾーンの一方にのみ処
理物を流す場合にも加速器を停止させずに済む。
このように、例示の装置は、２つとも、負荷変動、即ち
異サイズ処理物の処理量の差を処理比率を変えることに
よって吸収できるので、加速器の使用効率の低下を無く
し得る。
異サイズ処理物の処理量の差を処理比率を変えることに
よって吸収できるので、加速器の使用効率の低下を無く
し得る。
なお、各キャプスタン装置は、ホイール径の異なるもの
のみを組合せてもよい。
のみを組合せてもよい。
また、ゾーン４からのキャプスタン装置の退出、導入は
数基づつ行ってもよいし、退出、導入のパターンも任意
に変更してよい。例えば、ホイール中が仮に１ｍのキャ
プスタン装置の１基を照射領域内に進入させたときに、
ホイール中０．５ ｍのキャプスタン装置の２基を退出
させると云う具合に異なる数のキャプスタン装置の移動
を行ったり、或いはキャプスタン装置を個々に移動させ
得る場合には、照射領域内外のキャプスタン装置の移動
を対応させずにランダムに行うこともできる。
数基づつ行ってもよいし、退出、導入のパターンも任意
に変更してよい。例えば、ホイール中が仮に１ｍのキャ
プスタン装置の１基を照射領域内に進入させたときに、
ホイール中０．５ ｍのキャプスタン装置の２基を退出
させると云う具合に異なる数のキャプスタン装置の移動
を行ったり、或いはキャプスタン装置を個々に移動させ
得る場合には、照射領域内外のキャプスタン装置の移動
を対応させずにランダムに行うこともできる。
以上の通り、この発明の電子線照射装置は、ホイール軸
方向に並設したキャプスタン装置の少なくとも１つを、
人力、或いは位置切換え手段によって電子線の照射ゾー
ンより退出させ、それに代えて、異サイズ処理物の走行
キャプスタン装置を照射ゾーンに移動させ得るようにし
であるので、照射室内に入ってキャプスタンを一旦取外
して交換する作業を必要とせず、処理物のサイズ変更に
伴う段取り時間を、例えば従来のキャプスタン交換式装
置では約１時間を要したものか約５分で済むと云う具合
に大巾に短縮できる。
方向に並設したキャプスタン装置の少なくとも１つを、
人力、或いは位置切換え手段によって電子線の照射ゾー
ンより退出させ、それに代えて、異サイズ処理物の走行
キャプスタン装置を照射ゾーンに移動させ得るようにし
であるので、照射室内に入ってキャプスタンを一旦取外
して交換する作業を必要とせず、処理物のサイズ変更に
伴う段取り時間を、例えば従来のキャプスタン交換式装
置では約１時間を要したものか約５分で済むと云う具合
に大巾に短縮できる。
また、異サイズ処理物の処理量の差による、各キャプス
タン装置の負荷変動の差を、処理比率を変えることによ
って吸収し得るので、設備の稼動効率、加速器の使用効
率を高めることができ、生産コスト面で有利となる。
タン装置の負荷変動の差を、処理比率を変えることによ
って吸収し得るので、設備の稼動効率、加速器の使用効
率を高めることができ、生産コスト面で有利となる。
さらに、電子線照射ゾーンを複数に分割し、各分割ゾー
ンに電子線遮断装置を設けたものは、分割ゾーンのどれ
か１つに処理物が流れなくなっても、照射装置を運転で
きると云う効果も併せ有する。
ンに電子線遮断装置を設けたものは、分割ゾーンのどれ
か１つに処理物が流れなくなっても、照射装置を運転で
きると云う効果も併せ有する。
第１図は、この発明の電子線照射装置の一例を示す平面
線図、第２図及び第３図は、いずれもキャプスタン装置
の位置切換え手段の具体例を示す側面線図、第４図は、
他の実施例の照射装置の平面線図、第５図は従来の照射
装置の一例を示す平面線図、第６図はその側面線図、第
７図は従来の装置の他の例を示す平面線図、第８図はそ
の側面線図である。 １・・・電子線加速器、２・・・照射窓、３・・・電子
線ビーム、４・・・照射ゾーン、５．５’、 ｓ、 ６
’・・・ホイール、７・・・キャプスタン装置、８・・
・電子線遮断装置、９・・・架台、１０・・・キャプス
タン駆動装置、１１・・・位置切換手段、１２・・・車
輪、１３・・・レール、１４・・・固定物、１５．１６
．１７・・・シリンダ特許出願人 住友電気工業株式
会社 同 代理人 鎌 １） 文 二第１図 第２図 第３図 第４図
線図、第２図及び第３図は、いずれもキャプスタン装置
の位置切換え手段の具体例を示す側面線図、第４図は、
他の実施例の照射装置の平面線図、第５図は従来の照射
装置の一例を示す平面線図、第６図はその側面線図、第
７図は従来の装置の他の例を示す平面線図、第８図はそ
の側面線図である。 １・・・電子線加速器、２・・・照射窓、３・・・電子
線ビーム、４・・・照射ゾーン、５．５’、 ｓ、 ６
’・・・ホイール、７・・・キャプスタン装置、８・・
・電子線遮断装置、９・・・架台、１０・・・キャプス
タン駆動装置、１１・・・位置切換手段、１２・・・車
輪、１３・・・レール、１４・・・固定物、１５．１６
．１７・・・シリンダ特許出願人 住友電気工業株式
会社 同 代理人 鎌 １） 文 二第１図 第２図 第３図 第４図
Claims (3)
- （１）各々が独立駆動手段を有し、電子線の被照射線条
体を掛け渡して走行させる平行ホイールの軸心方向に並
列配置された複数のキヤプスタン装置をホイール軸方向
に移動可能に保持し、さらに、そのキヤプスタン装置の
中の少なくとも１つは電子線照射領域外に、残りの装置
は電子線照射領域内に位置せしめると共に、各キヤプス
タン装置のホイール軸方向移動距離を、電子線照射領域
外のキヤプスタン装置が照射領域内に進入できる長さに
設定し、いくつかのキヤプスタン装置の電子線照射領域
内外への変化を可能ならしめた電子線照射装置。 - （２）上記の装置が、キヤプスタン装置の各々をホイー
ル軸方向に個別に、または、架台を含めて一体的に移動
させるキヤプスタン装置の位置切換え手段を含んでいる
ことを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の電子
線照射装置。 - （３）上記キヤプスタン装置が電子線照射領域内に２基
もしくはそれ以上存在し、さらに、電子線照射領域は、
領域内のキヤプスタン装置に対応して複数に分割され、
その分割領域の各々に電子線の照射路から退出可能な電
子線遮断装置が設けられていることを特徴とする特許請
求の範囲第（１）項又は第（２）項記載の電子線照射装
置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60246084A JPS62105100A (ja) | 1985-10-31 | 1985-10-31 | 電子線照射装置 |
| US06/925,105 US4755686A (en) | 1985-10-31 | 1986-10-29 | Electron beam irradiation apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60246084A JPS62105100A (ja) | 1985-10-31 | 1985-10-31 | 電子線照射装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62105100A true JPS62105100A (ja) | 1987-05-15 |
Family
ID=17143246
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60246084A Pending JPS62105100A (ja) | 1985-10-31 | 1985-10-31 | 電子線照射装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4755686A (ja) |
| JP (1) | JPS62105100A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6933514B2 (en) * | 2002-12-23 | 2005-08-23 | Steris Inc. | Method of irradiating organic materials |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3916204A (en) * | 1974-05-03 | 1975-10-28 | Western Electric Co | Irradiating elongated material |
-
1985
- 1985-10-31 JP JP60246084A patent/JPS62105100A/ja active Pending
-
1986
- 1986-10-29 US US06/925,105 patent/US4755686A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4755686A (en) | 1988-07-05 |
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