JPS62108524A - 被処理材の固定装置 - Google Patents
被処理材の固定装置Info
- Publication number
- JPS62108524A JPS62108524A JP60248322A JP24832285A JPS62108524A JP S62108524 A JPS62108524 A JP S62108524A JP 60248322 A JP60248322 A JP 60248322A JP 24832285 A JP24832285 A JP 24832285A JP S62108524 A JPS62108524 A JP S62108524A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cassette
- processed
- reticle
- stage
- predetermined position
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/707—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はたとえば半導体製造装置に備えられレチンＩＬ
／などの被処理材をステージに載置し固定する装置に関
する。
／などの被処理材をステージに載置し固定する装置に関
する。
ステージの基準面上にレチクル、マスク、マスクブラン
ク （以下、被処理材という）を固定する方法としては
、ステージの基準面まで被処埋材をカセットに収納して
搬送し、そのカセットごと基準面に固定する方法と、被
処理材を単体で搬送し、これを通接基準面に固定する方
法（カセットを介さない方法）とに大別される。
ク （以下、被処理材という）を固定する方法としては
、ステージの基準面まで被処埋材をカセットに収納して
搬送し、そのカセットごと基準面に固定する方法と、被
処理材を単体で搬送し、これを通接基準面に固定する方
法（カセットを介さない方法）とに大別される。
一般的には、前者の方が多種類の大きさ、厚さの被処理
材を同一装置で取扱い易すく多く採用されている。
材を同一装置で取扱い易すく多く採用されている。
しかしながら、ｒｒｒｉ者の場合にはカセットを介して
被処理材を固定するため、カセットをセットして被処理
材の位置を測定し、いわゆる被処理材の位置決め（制御
系での補正を含む）が終ったのち、被処理材の検査のた
めなどにステージを移動しているときに、ステージ、カ
セット。
被処理材を固定するため、カセットをセットして被処理
材の位置を測定し、いわゆる被処理材の位置決め（制御
系での補正を含む）が終ったのち、被処理材の検査のた
めなどにステージを移動しているときに、ステージ、カ
セット。
被処理材間で位置ずれが発生することがあり。
直接、被処理材を固定する方法に比べ、精度低下の要因
になっていた。
になっていた。
また、カセットの熱変形もあるため、これも。
被処理材をステージに直接固定する方法に比べて精度低
下の要因になっていた。
下の要因になっていた。
〔発明の目的〕
本発明は上記事情に着目してなされたもので。
その目的とするところは、カセットの位置ずれや熱変形
などの影響を受けることすく、被処理材を所定位置に保
持できるようにした被処理材の固定装置を提供しようと
するものである。
などの影響を受けることすく、被処理材を所定位置に保
持できるようにした被処理材の固定装置を提供しようと
するものである。
本発明は上記目的を違反するため、ステージの基準面に
被処理材をセットし次状態において。
被処理材をセットし次状態において。
被処理材をカセットの保持部から離間させることにより
、カセットの移動および熱変形などによる作用を被処理
材に伝えることのないようにし友ものである。
、カセットの移動および熱変形などによる作用を被処理
材に伝えることのないようにし友ものである。
ト
以下、２Ｐ−発明を図面に示す一実施例を参照して説明
する。図中１はステージで、このステージ１の上面両側
にはカセット受入ガイド２，２および昇降ガイド３，３
が配設されている。前Ｃ昇降ガイド３，３はそれぞれ軸
４，４を介して昇降機構を横取するレバー５，５の中央
部に接媚逗れている。前記レバー５．５の一端部はそれ
ぞれ支点軸６，６に回動自在に支持され。
する。図中１はステージで、このステージ１の上面両側
にはカセット受入ガイド２，２および昇降ガイド３，３
が配設されている。前Ｃ昇降ガイド３，３はそれぞれ軸
４，４を介して昇降機構を横取するレバー５，５の中央
部に接媚逗れている。前記レバー５．５の一端部はそれ
ぞれ支点軸６，６に回動自在に支持され。
他端部はそれぞれ駆動シリンダ７．７に連結されている
。前記駆動シリンダ７．７の駆動により、レバー５，５
が支点軸６．６を中心として回動し、昇降ガイド３，３
を上下動させるようになっている。
。前記駆動シリンダ７．７の駆動により、レバー５，５
が支点軸６．６を中心として回動し、昇降ガイド３，３
を上下動させるようになっている。
なお、上記昇降ガイド３．３はその両端部かばね（図示
しない）により弾性的に保持され。
しない）により弾性的に保持され。
水平状態を維持するようになっている。
また、上記ステージ１の中央部には開口部２２が形成さ
れ、この開口部２２の両側部には基準面としての真空チ
ャック部２３．２３が配設されている。この真空チャッ
ク部２３゜２３にはチャック孔２４が穿設され、これら
チャック孔２４．２４に図示しないポンプのｉ吸引作用
により、負圧を与えて、後述する被処理材としてのレチ
クル２９を吸引吸着させるようになっている。
れ、この開口部２２の両側部には基準面としての真空チ
ャック部２３．２３が配設されている。この真空チャッ
ク部２３゜２３にはチャック孔２４が穿設され、これら
チャック孔２４．２４に図示しないポンプのｉ吸引作用
により、負圧を与えて、後述する被処理材としてのレチ
クル２９を吸引吸着させるようになっている。
また、上記ステージ１上には一対のストッパ２５．２５
および位置決め部材２６．２６が配設され、上記ストッ
パ２５．２５１１？ニーは後述するカセット１９が当接
され、上記位置決め部材２６．２６にはカセット１９内
のレチクル２９が当接されてそれぞれ位置決めされるよ
うになっている。
および位置決め部材２６．２６が配設され、上記ストッ
パ２５．２５１１？ニーは後述するカセット１９が当接
され、上記位置決め部材２６．２６にはカセット１９内
のレチクル２９が当接されてそれぞれ位置決めされるよ
うになっている。
一方、上記昇降ガイド３，３にはカセット１９が保持さ
れるようになっている。このカセット１９は第５囚およ
び＃Ｘ６図に示すように横取されている。すなわち、図
中２０はカセット本体で、このカセット本体２０の両＠
部には上記昇降ガイド３，３にスライド自在に嵌合保持
されるガイド部２７．２７が形成さ几ている。
れるようになっている。このカセット１９は第５囚およ
び＃Ｘ６図に示すように横取されている。すなわち、図
中２０はカセット本体で、このカセット本体２０の両＠
部には上記昇降ガイド３，３にスライド自在に嵌合保持
されるガイド部２７．２７が形成さ几ている。
また、上記カセット本体２０の−１１１１部には被処理
材としてのレチクル２９を挿入させる挿入部２８が形成
され、また１円周両側部には挿入されたレチクル２９の
両側部を係合保持する保持部としての保持溝３０ 、．
１０が形成されている。
材としてのレチクル２９を挿入させる挿入部２８が形成
され、また１円周両側部には挿入されたレチクル２９の
両側部を係合保持する保持部としての保持溝３０ 、．
１０が形成されている。
これら保持溝、ｖ ｏ 、 ｓ ｏのレチクル２９の側
面と対口する面は再４図に示すように上方に同かって広
がるように傾斜されている。また、上記挿入部２８の一
側部には運搬時などにおいて。
面と対口する面は再４図に示すように上方に同かって広
がるように傾斜されている。また、上記挿入部２８の一
側部には運搬時などにおいて。
レチクル２９が落下することのないように落下防止用の
ばね部材３１が設けられている。また。
ばね部材３１が設けられている。また。
上記カセット本体２０の他側部にはカセット１９をステ
ージ１に対して搬出入すると彦図示しない搬送手段が当
接する押圧ばね３２が取着され、この押圧ばね３２はこ
れｔ−第５１／において左方へ押し上記カセット１９が
ステージ１に搬送されてストッパ２５．２５に当接し友
とき、さらに押すと２点破線で示すようにたわみ、上記
レチクル２９を押圧してこれを位置決め部材２６．２６
に当接させてその位置決めを行なうようになっている。
ージ１に対して搬出入すると彦図示しない搬送手段が当
接する押圧ばね３２が取着され、この押圧ばね３２はこ
れｔ−第５１／において左方へ押し上記カセット１９が
ステージ１に搬送されてストッパ２５．２５に当接し友
とき、さらに押すと２点破線で示すようにたわみ、上記
レチクル２９を押圧してこれを位置決め部材２６．２６
に当接させてその位置決めを行なうようになっている。
しかして、第５図に示すようにレチクル２９を収納した
カセット２Ｑは図示しない搬送手段により、押圧ばね３
２を押され、箒１図に矢印で示すように搬送され、カセ
ット受入ガイド２．２さらに、昇降ガイド３，３にガイ
ドされてステージ１上に送られ、ストツノ＜２ｓ、ｚｓ
に当接してストップされるとともにレチクル２９が押圧
ばね３２のたわみにより押圧されて位置決め部材２６．
２６に当接し位置決めされる。
カセット２Ｑは図示しない搬送手段により、押圧ばね３
２を押され、箒１図に矢印で示すように搬送され、カセ
ット受入ガイド２．２さらに、昇降ガイド３，３にガイ
ドされてステージ１上に送られ、ストツノ＜２ｓ、ｚｓ
に当接してストップされるとともにレチクル２９が押圧
ばね３２のたわみにより押圧されて位置決め部材２６．
２６に当接し位置決めされる。
このように、カセット１９およびレチクル２９をステー
ジ１に対して位置決めしたのち。
ジ１に対して位置決めしたのち。
図示しない搬送手段を後退きせると、押圧ばね３２は第
５図に実線で示すように戻り、レチクル２９から離れる
。次いで、シリンダ７．７が作動し、レバー５，５が第
２図に示す状態から下降されカセット１９およびレチク
ル２９が下降される。この下降により、第３図に示すよ
うに、レチクル２９が真空チャック部２３にａ２置され
るとともに、カセット１９がさらに下降され第４図に示
すようにレチクル２９がカセット１９の保持溝３０．３
０から虚聞され１両者は非接触の状態になる。
５図に実線で示すように戻り、レチクル２９から離れる
。次いで、シリンダ７．７が作動し、レバー５，５が第
２図に示す状態から下降されカセット１９およびレチク
ル２９が下降される。この下降により、第３図に示すよ
うに、レチクル２９が真空チャック部２３にａ２置され
るとともに、カセット１９がさらに下降され第４図に示
すようにレチクル２９がカセット１９の保持溝３０．３
０から虚聞され１両者は非接触の状態になる。
しかるのち、上記カセット１９は図示しないクランパー
により固定されるとともにレチクル２９が真空チャック
部２３に真空吸着さ几て固定される。
により固定されるとともにレチクル２９が真空チャック
部２３に真空吸着さ几て固定される。
上述したように、カセット１９とレチクル２９を非援触
の状態で固定するため、ステージ１の移動時にカセット
１９が位置ずれしたり。
の状態で固定するため、ステージ１の移動時にカセット
１９が位置ずれしたり。
熱変形などを生じてもその作用がレチクル２９に伝達す
ることがなく、ステージ１に対するレチクル２９の位置
ずれを確実に防止でき、精度を良好に維持できる。
ることがなく、ステージ１に対するレチクル２９の位置
ずれを確実に防止でき、精度を良好に維持できる。
マタ、カセット１９を用いる九め、多種類（大きさ、厚
さなど）のレチクルを同一の装置で取扱うことができる
という利点はそのまま維持できる。
さなど）のレチクルを同一の装置で取扱うことができる
という利点はそのまま維持できる。
なお、被処理材としてはレチクルに限らルることすく、
マスク、マスクブランクなども同様に取扱うことができ
る。また、前述した実施例では被処理材のステージに対
する搬送方向の位置決めを位置決め部材２６．２６と押
圧ばね３２により行なうようにした例を示したが、この
方向の位置決めも保持溝ｓｏ、ｓｏと同様の傾斜面によ
り行なってもよく、また保持溝３０．３０による位置決
め方向を位置決め部材２６．２６と押圧ばね３２と同様
の手段によって位置決めするようにしてもよい。
マスク、マスクブランクなども同様に取扱うことができ
る。また、前述した実施例では被処理材のステージに対
する搬送方向の位置決めを位置決め部材２６．２６と押
圧ばね３２により行なうようにした例を示したが、この
方向の位置決めも保持溝ｓｏ、ｓｏと同様の傾斜面によ
り行なってもよく、また保持溝３０．３０による位置決
め方向を位置決め部材２６．２６と押圧ばね３２と同様
の手段によって位置決めするようにしてもよい。
その他１本発明はその要旨の範囲内で種変変形実施可能
なことは勿論である。
なことは勿論である。
本発明は以上説明したように、ステージの基準面に被処
理材をセットし次状態において、被処理はをカセットの
床持部から離間させる離間手ａ’を備えたからカセット
が位置ずれしたり。
理材をセットし次状態において、被処理はをカセットの
床持部から離間させる離間手ａ’を備えたからカセット
が位置ずれしたり。
熱変形しても、その影響を受けることなく、被処理材を
所定位置に保持で六る。したがって。
所定位置に保持で六る。したがって。
カセット（受用による利点を有したまま、精度を良好に
維持でき、信頼性を同上できるという効果を奏する。
維持でき、信頼性を同上できるという効果を奏する。
図面は本発明の一実施例を示すもので、第１図はステー
ジ部分を示す平面図、第２図はカセットの搬入時を示す
断面図、第３図はカセットおよびレチクルのチャック時
を示す１ｆｒＩＩＯ図、第４図は石３図中Ｎ部を拡大し
て示す部分図、第５図は本発明によるカセットの一実施
例を示す平面図、第６図は第５図中Ｖｌ−Ｖｌ線に沿っ
て示す断藺図である。 ２９°°°レチクル（被処理ｐ）、ｘ９・・・カセット
、ｓｏ、、”ｔｏ・・・保持溝（保持部）、１・・・ス
テージ、２３・・・真空チャック部（基単面）、３゜３
・・・昇降ガイド（ガイド）、Ｓ、Ｓ・・・レバー（昇
降機構）、７．７・・・ンリンダ（昇降機構）。 ２５．２５・・・ストッパ、２６．２６・・・位置決め
部材、３２・・・押圧ばね。 出願人代理人 弁理士 鈴 工・武 彦図面の浄書（内
容に変更なし） 第１図 第２因 第３図 第４図 第５図 第６図
ジ部分を示す平面図、第２図はカセットの搬入時を示す
断面図、第３図はカセットおよびレチクルのチャック時
を示す１ｆｒＩＩＯ図、第４図は石３図中Ｎ部を拡大し
て示す部分図、第５図は本発明によるカセットの一実施
例を示す平面図、第６図は第５図中Ｖｌ−Ｖｌ線に沿っ
て示す断藺図である。 ２９°°°レチクル（被処理ｐ）、ｘ９・・・カセット
、ｓｏ、、”ｔｏ・・・保持溝（保持部）、１・・・ス
テージ、２３・・・真空チャック部（基単面）、３゜３
・・・昇降ガイド（ガイド）、Ｓ、Ｓ・・・レバー（昇
降機構）、７．７・・・ンリンダ（昇降機構）。 ２５．２５・・・ストッパ、２６．２６・・・位置決め
部材、３２・・・押圧ばね。 出願人代理人 弁理士 鈴 工・武 彦図面の浄書（内
容に変更なし） 第１図 第２因 第３図 第４図 第５図 第６図
Claims (4)
- （１）被処理材を保持部により保持し収納したカセット
をステージに搬送し、このステージの所定位置に前記カ
セットおよび被処理材を固定するものにおいて、カセッ
トの保持部が被処理材を離間可能に保持するように形成
すると共に、前記ステージに搬送されたカセットを所定
位置方向に移動させ、その途中前記被処理材をステージ
の基準面に載置させてこれを保持部から離間させる離間
手段を備えたことを特徴とする被処理材の固定装置。 - （２）離間手段はカセットを保持するガイドと、これを
昇降させる昇降機構とからなることを特徴とする特許請
求の範囲第１項記載の被処理材の固定装置。 - （３）カセットの保持部は被処理材を上方へ移動可能に
支持する溝状に形成され、被処理材の側面と対向する面
は傾斜面であることを特徴とする特許請求の範囲第１項
または再２項記載の被処理材の固定装置。 - （４）ステージはカセットおよび被処理材を所定位置に
停止させるためのこれらにそれぞれ当接可能なストッパ
および位置決め部材を有し、カセットは所定値以上の押
圧力が作用したとき被処理材を位置決め部材に押当てる
方向へたわむ押圧ばねを有していることを特徴とする特
許請求の範囲第１、２または３項記載の被処理材の固定
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60248322A JPS62108524A (ja) | 1985-11-06 | 1985-11-06 | 被処理材の固定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60248322A JPS62108524A (ja) | 1985-11-06 | 1985-11-06 | 被処理材の固定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62108524A true JPS62108524A (ja) | 1987-05-19 |
| JPH0584662B2 JPH0584662B2 (ja) | 1993-12-02 |
Family
ID=17176352
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60248322A Granted JPS62108524A (ja) | 1985-11-06 | 1985-11-06 | 被処理材の固定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62108524A (ja) |
-
1985
- 1985-11-06 JP JP60248322A patent/JPS62108524A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0584662B2 (ja) | 1993-12-02 |
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