JPS621152A - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS621152A JPS621152A JP13977085A JP13977085A JPS621152A JP S621152 A JPS621152 A JP S621152A JP 13977085 A JP13977085 A JP 13977085A JP 13977085 A JP13977085 A JP 13977085A JP S621152 A JPS621152 A JP S621152A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording medium
- magnetic film
- magnetic
- magneto
- film
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- Pending
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- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技帆立夏
本発明は、ドキュメントファイル、フロッピーディスク
、ハードディスクなどに使用される光磁気記録媒体に関
する。
、ハードディスクなどに使用される光磁気記録媒体に関
する。
災來勿技宜
近年、光の熱効果などを利用して磁性薄膜に磁区を書込
んで情報を記録し、磁気光学効果を利用して情報を読み
出すようにした光磁気記録媒体が注目されている。
んで情報を記録し、磁気光学効果を利用して情報を読み
出すようにした光磁気記録媒体が注目されている。
従来、光磁気記録媒体に用いられる記録層としては、T
b−Fe合金のような希土類−遷移金属系アモルファス
磁性体からなる薄膜が知られている(特公昭57−20
691)、このような光磁気記録媒体への情報の記録は
、磁性体のキュー、り温度または補償温度における保磁
力の急激な変化特性を利用して実施され、具体的には2
値信号で変調されたレーザー光を垂直磁化された磁性薄
膜に照射、加熱して磁化の向きを反転させることにより
行われる。また、再生は、反転記録された磁性膜の磁気
光学効果の差を利用して行われる。
b−Fe合金のような希土類−遷移金属系アモルファス
磁性体からなる薄膜が知られている(特公昭57−20
691)、このような光磁気記録媒体への情報の記録は
、磁性体のキュー、り温度または補償温度における保磁
力の急激な変化特性を利用して実施され、具体的には2
値信号で変調されたレーザー光を垂直磁化された磁性薄
膜に照射、加熱して磁化の向きを反転させることにより
行われる。また、再生は、反転記録された磁性膜の磁気
光学効果の差を利用して行われる。
希土類−遷移金属アモルファス磁性体薄膜は、垂直磁気
異方性を示し、保磁力Hcが大きくメモリ材料に適して
いるが、カー回転角θkが約0゜18degと小さく、
再生感度の点でよりいっそうの改善がまたれていた。
異方性を示し、保磁力Hcが大きくメモリ材料に適して
いるが、カー回転角θkが約0゜18degと小さく、
再生感度の点でよりいっそうの改善がまたれていた。
見豆段且煎
本発明は、磁気光学特性の優れた希土類−遷移金属系ア
モルファス磁性体を用いた光記録媒体を提供するもので
ある。
モルファス磁性体を用いた光記録媒体を提供するもので
ある。
災1J11支
本・発明の光磁気記録媒体は、垂直磁気異方性を有する
希土類−遷移金属系アモルファス磁性膜を設けた光磁気
記録媒体において、該磁性膜が少なくともIM子%のP
m、Eu、HoまたはErを含むことを特徴とする。
希土類−遷移金属系アモルファス磁性膜を設けた光磁気
記録媒体において、該磁性膜が少なくともIM子%のP
m、Eu、HoまたはErを含むことを特徴とする。
以下、本発明についてさらに詳細に説明する。
第1図は、本発明の光磁気記録媒体の構成例を示す断面
図であり、基板11上に磁性膜13および保護膜15が
積層されている。磁性膜13は。
図であり、基板11上に磁性膜13および保護膜15が
積層されている。磁性膜13は。
Pm(プロメチウム)、Eu(ユーロピウム)、Ho
(ホルミウム)またはEr(エルビウム)を含む希土類
金属−遷移金属°の非晶質合金膜からなり、スパッタ法
、蒸着法、イオンブレーティング法などにより基板11
上に形成される。希土類金属としてはSm(サマリウム
)、Gd(ガドリニウム)、Tb(テルビウム)、Dy
(ジスプロシウム)などが挙げられ、また、遷移金属と
してはFe(鉄)、Go(コバルト)などが例示される
。好ましくは、磁性膜は次の一般式(1)で示される組
成を有する。
(ホルミウム)またはEr(エルビウム)を含む希土類
金属−遷移金属°の非晶質合金膜からなり、スパッタ法
、蒸着法、イオンブレーティング法などにより基板11
上に形成される。希土類金属としてはSm(サマリウム
)、Gd(ガドリニウム)、Tb(テルビウム)、Dy
(ジスプロシウム)などが挙げられ、また、遷移金属と
してはFe(鉄)、Go(コバルト)などが例示される
。好ましくは、磁性膜は次の一般式(1)で示される組
成を有する。
Ml−X(R1−YAY)X (
1)(式中、M、R,A、x、yはそれぞれ次のものを
表わす。
1)(式中、M、R,A、x、yはそれぞれ次のものを
表わす。
M:Fe、Goのうち少なくとも1種の元素R: Sm
、Gd、Tb、Dyのうち少なくとも1種の元素 A : Pm、Eu、Ha、E rのうち少なくとも1
種の元素 x:o、1≦X≦0.4 y : 0.02< y≦0.3) Xおよびyを上記範囲とすることにより、優れた垂直異
方性と保磁力が得られる。置換数yの好ましい範囲は0
.05≦y≦0.15である。
、Gd、Tb、Dyのうち少なくとも1種の元素 A : Pm、Eu、Ha、E rのうち少なくとも1
種の元素 x:o、1≦X≦0.4 y : 0.02< y≦0.3) Xおよびyを上記範囲とすることにより、優れた垂直異
方性と保磁力が得られる。置換数yの好ましい範囲は0
.05≦y≦0.15である。
磁性膜13の膜厚は0,03〜0.5μ薦程度が適当で
ある。
ある。
保護膜15は、アモルファス磁性体が酸素や水により酸
化腐食されるのを防止するためのものであり、Sin、
、Sin、Si、N、、AINなどからなる。保護膜は
蒸着法、スパッタ法。
化腐食されるのを防止するためのものであり、Sin、
、Sin、Si、N、、AINなどからなる。保護膜は
蒸着法、スパッタ法。
イオンブレーティング法などにより形成することができ
る。保護膜の厚さは0.05〜1μm程度が好適である
。
る。保護膜の厚さは0.05〜1μm程度が好適である
。
基板11としては非磁性材料が用いられ、たとえば、ガ
ラス、プラスチック、セラミックなどの透明基板あるい
は不透明基板が用いられる。
ラス、プラスチック、セラミックなどの透明基板あるい
は不透明基板が用いられる。
第2図は、本発明のさらに他の実施例を示し。
磁性膜13をはさむ形で保護膜15.17を設け、磁性
膜の安定性をよりいっそう改善したものである。
膜の安定性をよりいっそう改善したものである。
また、磁性膜の上部に断熱膜や反射膜を設けることもで
きる。
きる。
月IIυ碩1
本発明によれば、アモルファス希土類−遷移金属系磁性
膜に少なくとも1原子%のPm、Eu。
膜に少なくとも1原子%のPm、Eu。
HaまたはErを添加することにより、カー回転角ok
が大きくなり、再生特性のよい光磁気記録媒体が得られ
る。
が大きくなり、再生特性のよい光磁気記録媒体が得られ
る。
実施例1
2元マグネトロンスパッタ装置を用い、 Pmのチップ
(IQa+m X 10a+a+ X 1 +am”)
を150+amφ、 3 vsrs”のTbターゲット
の上にのせ、 F ea、、、Co、、の合金ターゲッ
ト(150+*mφ、3mm”)と同時に以下の条件で
スパッタして、回転している基板の上に磁性膜を作成し
た。ここで、Pmのチップ数を調整して、Tbの一部を
Pm置換することにより、磁性膜のPm置換量を制御し
た。
(IQa+m X 10a+a+ X 1 +am”)
を150+amφ、 3 vsrs”のTbターゲット
の上にのせ、 F ea、、、Co、、の合金ターゲッ
ト(150+*mφ、3mm”)と同時に以下の条件で
スパッタして、回転している基板の上に磁性膜を作成し
た。ここで、Pmのチップ数を調整して、Tbの一部を
Pm置換することにより、磁性膜のPm置換量を制御し
た。
得られた磁性膜は、基板側からHe−Neレーザ(λ=
633nm)を照射し、対称角振動法によりカー回転角
θkを求め、Pmの置換数yとθにとの関係を調べ第3
図に示した。
633nm)を照射し、対称角振動法によりカー回転角
θkを求め、Pmの置換数yとθにとの関係を調べ第3
図に示した。
孟Uの4」記」軒−
残留ガス圧: I Xl0−@TorrArガス圧:
5 Xl0−3Torrターゲット材: Fe、、、C
ol1.、、Tb+Pm放電電カニ 400W(F e
、、、Cofi、□)、100W(T b+Pm) スパッタ時間: 15m1n (膜厚1000人)基板
ニスライドガラス 基板回転: 30rpm 実施例2 Tbの一部をEuで置換して、磁性膜組成を変化させて
、Euの置換数yとカー回転角θにとの関係を調べ第4
図に示した。磁性膜の作成条件は、ターゲットを除いて
実施例1と全て同じである。
5 Xl0−3Torrターゲット材: Fe、、、C
ol1.、、Tb+Pm放電電カニ 400W(F e
、、、Cofi、□)、100W(T b+Pm) スパッタ時間: 15m1n (膜厚1000人)基板
ニスライドガラス 基板回転: 30rpm 実施例2 Tbの一部をEuで置換して、磁性膜組成を変化させて
、Euの置換数yとカー回転角θにとの関係を調べ第4
図に示した。磁性膜の作成条件は、ターゲットを除いて
実施例1と全て同じである。
ターゲット材: F e、、、G o。0. T b
+E u実施例3 Tbの一部をHOで置換して、磁性膜組成を変化させて
、Hoの置換数yとカー回転角θにとの関係を調べ第4
図に示した。磁性膜の作成条件は、ターゲットを除いて
実施例1と全て同じである。
+E u実施例3 Tbの一部をHOで置換して、磁性膜組成を変化させて
、Hoの置換数yとカー回転角θにとの関係を調べ第4
図に示した。磁性膜の作成条件は、ターゲットを除いて
実施例1と全て同じである。
ターゲット材: F elL、G o。、、、 T b
+H。
+H。
実施例4
Tbの一部をErで置換して、磁性膜組成を変化させて
、Erの置換数yとカー回転角θにとの関係を調べ第4
図に示した6磁性膜の作成条件は、ターゲットを除いて
実施例1と全て同じである。
、Erの置換数yとカー回転角θにとの関係を調べ第4
図に示した6磁性膜の作成条件は、ターゲットを除いて
実施例1と全て同じである。
ターゲット材: F eo、sCOnl、 T b +
E r第3図〜第6図より、Pm、Eu、HoまたはE
rを添加することにより、カー回転角が約0.02〜0
、04deg大きくなり再生特性が改善されることが
判る。
E r第3図〜第6図より、Pm、Eu、HoまたはE
rを添加することにより、カー回転角が約0.02〜0
、04deg大きくなり再生特性が改善されることが
判る。
第1図および第2図は、本発明の実施例を示す断面図で
ある。 第3図、第4図、第5図および第6図は、それぞれ磁性
膜中のPm、、Eu、Ho、Erの置換数yとカー回転
角θにとの関係を示すグラフである。 11・・・基 板 I3・・・磁 性 膜1
5.17・・・保護膜 毘l聞 剤3図 (Fe0.9COO,l)0.79(Tk)I−yPm
、)H21中ny陥2聞 鷺4閉 (R10,gco□、1)0.7g(Tol−yEuy
)α21中のY手続補正書 “ 昭和60年10月17日 1、事件の表示 昭和60年特許願第139770号 2、発明の名称 光磁気記録媒体 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 一番町フェニックスビル 明細書の[発明の詳細な説明」の欄 i、補正の内容 (1)明細書第4頁11行に、ry :Q、02<y≦
0.3」とあルノヲ、fy:o、02≦y≦0.3Jl
ニ訂正する。 以上
ある。 第3図、第4図、第5図および第6図は、それぞれ磁性
膜中のPm、、Eu、Ho、Erの置換数yとカー回転
角θにとの関係を示すグラフである。 11・・・基 板 I3・・・磁 性 膜1
5.17・・・保護膜 毘l聞 剤3図 (Fe0.9COO,l)0.79(Tk)I−yPm
、)H21中ny陥2聞 鷺4閉 (R10,gco□、1)0.7g(Tol−yEuy
)α21中のY手続補正書 “ 昭和60年10月17日 1、事件の表示 昭和60年特許願第139770号 2、発明の名称 光磁気記録媒体 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 一番町フェニックスビル 明細書の[発明の詳細な説明」の欄 i、補正の内容 (1)明細書第4頁11行に、ry :Q、02<y≦
0.3」とあルノヲ、fy:o、02≦y≦0.3Jl
ニ訂正する。 以上
Claims (1)
- 1、垂直磁気異方性を有する希土類−遷移金属系アモル
ファス磁性膜を設けた光磁気記録媒体において、該磁性
膜が少なくとも1原子%のPm、Eu、HoまたはEr
を含むことを特徴とする光磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13977085A JPS621152A (ja) | 1985-06-26 | 1985-06-26 | 光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13977085A JPS621152A (ja) | 1985-06-26 | 1985-06-26 | 光磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS621152A true JPS621152A (ja) | 1987-01-07 |
Family
ID=15252995
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13977085A Pending JPS621152A (ja) | 1985-06-26 | 1985-06-26 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS621152A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03113852A (ja) * | 1989-09-28 | 1991-05-15 | Sanyo Electric Co Ltd | 光磁気記録媒体 |
-
1985
- 1985-06-26 JP JP13977085A patent/JPS621152A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03113852A (ja) * | 1989-09-28 | 1991-05-15 | Sanyo Electric Co Ltd | 光磁気記録媒体 |
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