JPS62117196A - 電気的に消去可能なプログラム可能なメモリ・セルとその製法 - Google Patents

電気的に消去可能なプログラム可能なメモリ・セルとその製法

Info

Publication number
JPS62117196A
JPS62117196A JP61209789A JP20978986A JPS62117196A JP S62117196 A JPS62117196 A JP S62117196A JP 61209789 A JP61209789 A JP 61209789A JP 20978986 A JP20978986 A JP 20978986A JP S62117196 A JPS62117196 A JP S62117196A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
line
read
floating gate
transistor
write
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP61209789A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0634356B2 (ja
Inventor
ジエームス エイ.タベル
マイクル シー.スメイリング
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Texas Instruments Inc
Original Assignee
Texas Instruments Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Texas Instruments Inc filed Critical Texas Instruments Inc
Publication of JPS62117196A publication Critical patent/JPS62117196A/ja
Publication of JPH0634356B2 publication Critical patent/JPH0634356B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/04Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS
    • G11C16/0408Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS comprising cells containing floating gate transistors
    • G11C16/0441Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS comprising cells containing floating gate transistors comprising cells containing multiple floating gate devices, e.g. separate read-and-write FAMOS transistors with connected floating gates

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Non-Volatile Memory (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明はトランジスタ4個の電気的に消去可能なプロ
グラム可能な固定メモリ・セル及びその製法に関する。
従来の技術及び問題点 典型的なトランジスタ4個の電気的に消去可能なプログ
ラム可能な固定メモリ・セル(E E P ROM)は
アレーの4本の線、即ちセンス線、行線、読取線及び書
込み線に結合された、相互接続された4個のトランジス
タを持っている。1つのトランジスタは浮動ゲート形で
あり、そのゲートがトンネル装置の陰極に接続される。
装置のプログラミングは、浮動ゲートから電子を取去り
又は浮動グー1−に電子を加えて、浮動ゲートに正又は
0の電圧を残すことにより、浮動ゲー1−を条件づける
ことを含む。電圧がΩである場合、浮動ゲート・トラン
ジスタは読取サイクルの間カットオフになり、読取サイ
クルの初めに読取線に印加されたブリチV−ジ電圧の放
電が起らない。浮動ゲートの電圧が正であれば、読取サ
イクルの間に読取線のプリチャージ電圧の放電が起り、
電圧の値が下がることが、読取線に結合されたセンス・
アンゾによって検出される。
読取線をプリチャージする速度は、浮動ゲートがそれま
でに負又は正の何れに帯電しでいたかに応じて、典型的
なEEPROMtルで胃なることが判った。その結果、
2つのプログラミング状態の内の一方のアクセス時間が
一薯遅くなる。
O″  ′ るI立王1J11」 この発明の目的は、成るプログラミング状態に対するア
クセス時間を一図速くした、改良されたトランジスタ4
個のEEPROMを提供することである。
この発明の別の目的は、EEPROMのプログラムされ
る状態に対しでアクセス時間を無関係にすること、即ち
、浮動ゲート・トランジスタの浮動ゲートに前の書込み
サイクルの正又は負の電圧の何れが残っているかに関係
なくすることである。
この発明では、トランジスタ4個の形式の電気的に消去
可能なプログラム可能なメモリ・セルを提供する。この
メモリ・セルでは、浮動ゲート・トランジスタのソース
・ドレイン間通路の1端が書込み線に結合され、細端が
読取スイッチを介して読取線に結合される。その制御ゲ
ートがセンス線に接続される。1−ンネル装置の陰極が
浮動ゲート・トランジスタの浮動ゲートに接続され、陽
極が書込みスイッチを介して書込み線に接続される。
読取及び書込みスイッチの両方の制御部が行線に接続さ
れる。読取スイッチがオフである選択されなかった行で
は、浮動ゲート・トランジスタのソース・ドレイン間通
路の1端を読取線に接続づ−る代りに、読取りスイッチ
の1端を読取線に結合することにより、浮動ゲート・ト
ランジスタの浮動ゲートがそれまでに負又は正の何れに
帯電しているかに関係なく、読取線の寄生静電容Mには
読取スイッチの1端の静電容量しか加わらない。この為
、読取線のプリチャージ時間がセルのプログラムされる
状態に無関係になり、この結果アクセス時間は、従来達
成し得るよりも、何れのプログラム状態に対しても同じ
速さ又は一層速くなる。
この発明に特有と考えられる新規な特徴は特許請求の範
囲に記載しであるが、この発明自体並びにその他の特徴
及び利点は、以下図面について詳しく説明する所から最
もよく理解されよう。
実施例 第1図について説明すると、従来の典型的なトランジス
タ4個のEEPROMセルが浮動ゲート・トランジスタ
10を持ち、そのソース30が読取線22に結合され、
ドレイン32が読取1〜ランジスタ14のドレイン44
に接続され、制御ゲート26がセンス線18に接続され
ている。トランジスタ1oの浮動ゲート28がトンネル
・ダイオード装置12の陰極36に接続されている。読
取1ヘランジスタ14のソース46が書込み線24と占
込みトランジスタ16のソース52とに接続される。書
込みトランジスタ16のドレイン50がトンネル装@1
2の陽極38に接続される。夫々トランジスタ14.1
6のゲート42.48が行線20に共に接続され、トン
ネル装置12のゲート34がセンス線18に接続される
第1図のセルは、浮動ゲート28の電圧を正又は負の何
れかにする様にプログラムされる。負にするには、セン
ス線18をプログラミング電圧■ (典型的には+17
ボルト)に高くし、書込p み線24の電圧をOVに下げ、その後行線2oに選択電
圧を印加することにより、トンネル装置12を介して浮
動ゲート28にトンネル作用によって電子を送込む。
浮動ゲート28を正の電圧に帯電するには、センス線1
8をOvに設定し、書込み線24をV、。
に設定し、選択電圧を行線20に印加する。両方のプロ
グラミング動作の間、読取線22は浮いている。浮動ゲ
ート28からトンネル作用によって電子が取出される時
、その結渠生ずる浮動ゲー1−28の正の電位は、セン
ス線の′電圧が0■であっても、トランジスタ10をオ
ンに保つのに4−分である。
第1図のEEPROMセルの読取動作は、書込み線24
をアースに接続し、読取線22をプリチャージし、セン
ス線18の電圧を約2ポル1へ(浮動ゲー1−・トラン
ジスタの充電及び放電状態に対応する閾値電圧→−Vの
闇の中間i11>に高め、その後行線201.:選択電
圧を印加することで構成される。浮動ゲート28が負の
電位にある場合、12ルを読取る時にトランジスタ10
はオフにとどまり、読取線22はプリチャージ・レベル
にとどまる。
浮動ゲート28が正の電位にある場合、トランジスタ1
0がプリチャージの間オンであり、打線20に選択電圧
が印加された時、トランジスタ10は読取線22が内込
み線24に放電することが出来る様にする。読取線に結
合されたセンス・アンプ(図面に示してない)が、読取
サイクルの間に放電したかどうかを検出する。
読取線22をプリチャージする時間は、トランジスタ1
0がオフである時に読取線22に結合される静電容量に
較べて、トランジスタ10がオンである時は、読取線2
2に結合される静電容量が増加する為に、一層長くなる
。浮動ゲート28が負の電位を持つ時、トランジスタ1
oは読取動作の間オフであり、読取線22に静電容量は
読取線の奇生静電容量にトランジスタ10のソース区域
の静電容量を加えたもので構成される。然し、浮動ゲー
ト28が正の電位である時、トランジスタ10は読取動
作の間オンであり、読取線22の静電容量は読取線22
の奇生静電容量に、トランジスタ10のソース30及び
ゲート26の静電容量及びトランジスタ10.14の共
通ドレイン区域の静電容量を加えたものになる。所定の
列の全てのセルに対して読取線22が共通であるから、
1つの列の全てのセルが、その夫々の浮動ゲート28が
正の電位を持つ様にプログラムされた時、大きなアレー
では、静電容量の増加が非常に重大になる。
第2図に示す変形のトランジスタ4個のE E PRO
M+よ、トランジスタ10のソース30を読取線22で
はなく書込み線24に結合すると↓先に、読取トランジ
スタ14のソース46をI)込み線24ではなく、読取
線22に結合する。他の点では、回路は第1図と同じで
ある。セルの動作の主な変化は、読取線22のプリチャ
ージの間、選択されていないセルでオフである読取トラ
ンジスタ14のソースが、オンであるトランジスタ10
のソース30ではなく、読取線に接続されることである
別の違いは、一旦行線20に選択電圧が印加されると、
読取線からの電流がトンジスタ14をソース46からド
レイン44へ通り、トランジスタ10をドレイン32か
らソース30へ通ることである。第1図では、読取線2
2からの電流が1−ランジスタ10.14を反対向きに
通った。
第2図の回路では、プリチャージの間の読取線22の静
電容Mは、読取線22の奇生静電容量に、読取線22に
結合されていて選択されなかったセルに対するトランジ
スタ14(この読取トランジスタ14はオフである)の
ソース領域の静電容量を加えたものである。この為、第
2図の回路のプリチャ−ジはトランジスタ10のプログ
ラムされた状態に無関係であり、第1図の回路に対する
両方のプログラムされた状態の内、一番速いプリチャー
ジ時間と少なくとも同じ速さである。
この発明を実施例について説明したが、この説明はこの
発明を制約するものと解してはならない。
以上の説明から、当業者には図示の実施例の種々の変更
並びにこの発明のその他の実施例が容易に考えられよう
。従って、特許請求の範囲は、この発明の範囲内に含ま
れるこの様な全ての変更又は実施例を包括覆−るもので
あることを承知されたい。
以上の説明に関連して、更に下記の項を開示する。
中 導電性の読取、書込み、センス及び行線に結合され
た、相互接続されたトランジスタを持つ形式の電気的に
消去可能なプログラム可能なメモリ・セルに於て、前記
センス線に接続された制御ゲート、ソース・ドレイン間
導電通路及び半導体本体の而にある浮動ゲートを持つ浮
動ゲート・トランジスタと、半導体本体の面に陰極及び
陽極を持っていて、該陰極が前記浮動ゲー1−に接続さ
れているトンネル装置と、前記半導体本体の而にあって
、前記読取線及び前記浮動ゲート・トランジスタのソー
ス・ドレイン間通路の1端の間に結合され、前記行線の
電圧が非選択値から選択値に変化することに応答して、
非導電状態から54電状態に可逆的に切換え可能な読取
スイッチと、前記半導体本体の面にあって、前記書込み
線及び前記1〜ンネル装置の陽極の間に結合され、前記
行線の電圧が非選択値から選択値に変化することに応答
して、非導電状態から状態に可逆的に切換え可能な書込
みスイッチとを有し、前記浮動ゲート・トランジスタの
ソース・ドレイン間通路の他端が前記書込み線に接続さ
れ、前記センス線及び前記書込み線の間の電圧がトンネ
ル閾値を越えたことに応答して、前記トンネル装置が前
記陰極へ又は該陰極から電子のトンネル作用を生ずる様
に作用する電気的に消去可能なプログラム可能なメモリ
・セ(2)  第(1)項に記載した電気的に消去可能
なプログラム可能なメモリ・セルに於て、前記トンネル
装置が前記センス線に接続されたトンネル制御ゲートを
持っていで、該トンネル装置のゲートから陽極への電圧
が閾値を越えたことに応答して、電子が陰(触及び陽極
の間をトンネル作用で通る様にした電気的に消去可能な
プログラム可能なメモリ・セル。
(3)  第中項に記載した電気的に消去可能なプログ
ラム可能なメモリ・セルに於て、前記読取スイッチが読
取トランジスタであって、前記行線に接続されたゲート
及び1喘で前記浮動ゲー1−・トランジスタのソース・
ドレイン間通路に結合され且つ他端で前記読取線に結合
されたソース・トレイン間通路を持っている電気的に消
去可能なプログラム可能なメモリ・セル。
(4)  第(3)項に記載した電気的に消去可能なプ
ログラム可能なメモリ・セルに於て、前記書込みスイッ
チが書込みトランジスタであって、1端で前記トンネル
装置の陽極に結合され且つ他端で前記書込み線に結合さ
れたソース・ドレイン間通路を持っている電気的に消去
可能なプログラム可能なメモリ・セル。
(5)  第(4)項に記載した電気的に消去可能なプ
ログラム可能なメモリ・セルに於て、前記浮動ゲート・
トランジスタのドレインが前記読取トランジスタのトレ
インに接続され、前記書込みトランジスタのドレインが
前記トンネル装置の陽極に接続される電気的に消去可能
なプログラム可能なメモリ・セル。
(6)  浮動ゲート・トランジスタ、読取トランジス
タ、書込みトランジスタ及びトンネル装置と、関連した
導電性の読取、書込み、センス及び行線を半導体本体の
面に持つトランジスタ411!jの電気的に消去可能な
プログラム可能なメモリ・セルを作る方法に於て、前記
浮動ゲート・トランジスタのソース・ドレイン間通路の
1端を前記書込み線に接続すると共に多端を前記読取1
〜ランジスタのソース・トレイン間通路を介して前記読
取線に接続し、前記トンネル装置の陰極を前記浮動ゲー
ト・トランジスタの浮動ゲートに接続すると共に、その
陽極を前記書込みトランジスタのソース・ドレイン間通
路を介して前記書込み線に接続し、且つそのゲートを前
記センス線に接続し、前記読取及び書込みトランジスタ
のゲートを前記行線に接続する工程を含む方法。
【図面の簡単な説明】
第1図は典型的なトランジスタ4個のEEPROMの回
路図、第2図はこの発明の好ましい実施例に従って変形
したl−ランジス94個のEEPROMの回路図である
。 主な符号の説明 10:浮動ゲート・トランジスタ 12二トンネル装置 14:読取トランジスタ 16:書込みトランジスタ 18:センス線 20:行線 22:読取線 24:占込み線

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)導電性の読取、書込み、センス及び行線に結合さ
    れた相互接続されたトランジスタを持つ形式の電気的に
    消去可能なプログラム可能な、メモリ・セルに於て、前
    記センス線に接続された制御ゲート、ソース・ドレイン
    間導電通路及び半導体本体の面にある浮動ゲートを持つ
    浮動ゲート・トランジスタと、半導体本体の面に陰極及
    び陽極を持つていて、該陰極が前記浮動ゲートに接続さ
    れているトンネル装置と、前記半導体本体の面にあつて
    、前記読取線及び前記浮動ゲート・トランジスタのソー
    ス・ドレイン間通路の1端の間に結合され、前記行線の
    電圧が非選択値から選択値に変化することに応答して、
    非導電状態から導電状態に可逆的に切換え可能な読取ス
    イッチと、前記半導体本体の面にあつて、前記書込み線
    及び前記トンネル装置の陽極の間に結合され、前記行線
    の電圧が非選択値から選択値に変化することに応答して
    、非導電状態から導電状態に可逆的に切換え可能な書込
    みスイッチとを有し、前記浮動ゲート・トランジスタの
    ソース・ドレイン間通路の他端が前記書込み線に接続さ
    れ、前記センス線及び前記書込み線の間の電圧がトンネ
    ル閾値を越えたことに応答して、前記トンネル装置が前
    記陰極へ又は該陰極から電子のトンネル作用を生ずる様
    に作用する電気的に消去可能なプログラム可能なメモリ
    ・セル。(2)浮動ゲート・トランジスタ、読取トラン
    ジスタ、書込みトランジスタ及びトンネル装置と、関連
    した導電性の読取、書込み、センス及び行線を半導体本
    体の面に持つトランジスタ4個の電気的に消去可能なプ
    ログラム可能なメモリ・セルを作る方法に於て、前記浮
    動ゲート・トランジスタのソース・ドレイン間通路の1
    端を前記書込み線に接続すると共に他端を前記読取トラ
    ンジスタのソース・ドレイン間通路を介して前記読取線
    に接続し、前記トンネル装置の陰極を前記浮動ゲート・
    トランジスタの浮動ゲートに接続すると共に、その陽極
    を前記書込みトランジスタのソース・ドレイン間通路を
    介して前記書込み線に接続し、且つそのゲートを前記セ
    ンス線に接続し、前記読取及び書込みトランジスタのゲ
    ートを前記行線に接続する工程を含む方法。
JP20978986A 1985-09-09 1986-09-08 電気的に消去可能なプログラム可能なメモリ・セルとその製法 Expired - Lifetime JPH0634356B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/773,492 US4695979A (en) 1985-09-09 1985-09-09 Modified four transistor EEPROM cell
US773492 1985-09-09

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62117196A true JPS62117196A (ja) 1987-05-28
JPH0634356B2 JPH0634356B2 (ja) 1994-05-02

Family

ID=25098469

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20978986A Expired - Lifetime JPH0634356B2 (ja) 1985-09-09 1986-09-08 電気的に消去可能なプログラム可能なメモリ・セルとその製法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US4695979A (ja)
JP (1) JPH0634356B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63182849A (ja) * 1987-01-23 1988-07-28 Nec Corp 相補型メモリセルマトリックス
JPH02103796A (ja) * 1988-06-15 1990-04-16 Advanced Micro Devicds Inc 不揮発性メモリ装置

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4796228A (en) * 1986-06-02 1989-01-03 Texas Instruments Incorporated Erasable electrically programmable read only memory cell using trench edge tunnelling
IT1231902B (it) * 1987-10-20 1992-01-15 Sgs Microelettronica Spa Memoria elettronica cmos di sola lettura a funzionamento statico
US4858185A (en) * 1988-01-28 1989-08-15 National Semiconductor Corporation Zero power, electrically alterable, nonvolatile latch
US4935648A (en) * 1988-06-15 1990-06-19 Advance Micro Devices, Inc. Optimized E2 pal cell for minimum read disturb
US5101378A (en) * 1988-06-15 1992-03-31 Advanced Micro Devices, Inc. Optimized electrically erasable cell for minimum read disturb and associated method of sensing
JP2595051B2 (ja) * 1988-07-01 1997-03-26 株式会社日立製作所 半導体集積回路
US5055897A (en) * 1988-07-27 1991-10-08 Intel Corporation Semiconductor cell for neural network and the like
US5262846A (en) * 1988-11-14 1993-11-16 Texas Instruments Incorporated Contact-free floating-gate memory array with silicided buried bitlines and with single-step-defined floating gates
US4999525A (en) * 1989-02-10 1991-03-12 Intel Corporation Exclusive-or cell for pattern matching employing floating gate devices
US4904881A (en) * 1989-02-10 1990-02-27 Intel Corporation EXCLUSIVE-OR cell for neural network and the like
US4956564A (en) * 1989-07-13 1990-09-11 Intel Corporation Adaptive synapse cell providing both excitatory and inhibitory connections in an associative network
US4961002A (en) * 1989-07-13 1990-10-02 Intel Corporation Synapse cell employing dual gate transistor structure
US5028810A (en) * 1989-07-13 1991-07-02 Intel Corporation Four quadrant synapse cell employing single column summing line
US5057446A (en) * 1990-08-06 1991-10-15 Texas Instruments Incorporated Method of making an EEPROM with improved capacitive coupling between control gate and floating gate
US5272098A (en) * 1990-11-21 1993-12-21 Texas Instruments Incorporated Vertical and lateral insulated-gate, field-effect transistors, systems and methods
US5429959A (en) * 1990-11-23 1995-07-04 Texas Instruments Incorporated Process for simultaneously fabricating a bipolar transistor and a field-effect transistor
US5355007A (en) * 1990-11-23 1994-10-11 Texas Instruments Incorporated Devices for non-volatile memory, systems and methods
US5296393A (en) * 1990-11-23 1994-03-22 Texas Instruments Incorporated Process for the simultaneous fabrication of high-and-low-voltage semiconductor devices, integrated circuit containing the same, systems and methods
EP0487022B1 (en) * 1990-11-23 1997-04-23 Texas Instruments Incorporated A method of simultaneously fabricating an insulated gate-field-effect transistor and a bipolar transistor
US5364801A (en) * 1990-12-17 1994-11-15 Texas Instruments Incorporated Method of forming a charge pump circuit
JP3137993B2 (ja) * 1991-01-16 2001-02-26 富士通株式会社 不揮発性半導体記憶装置
US5273926A (en) * 1991-06-27 1993-12-28 Texas Instruments Incorporated Method of making flash EEPROM or merged FAMOS cell without alignment sensitivity
US5225700A (en) * 1991-06-28 1993-07-06 Texas Instruments Incorporated Circuit and method for forming a non-volatile memory cell
US5331590A (en) * 1991-10-15 1994-07-19 Lattice Semiconductor Corporation Single poly EE cell with separate read/write paths and reduced product term coupling
US5218568A (en) * 1991-12-17 1993-06-08 Texas Instruments Incorporated Electrically-erasable, electrically-programmable read-only memory cell, an array of such cells and methods for making and using the same
US5748525A (en) * 1993-10-15 1998-05-05 Advanced Micro Devices, Inc. Array cell circuit with split read/write line
EP0757835A1 (en) * 1994-04-29 1997-02-12 Atmel Corporation High-speed, non-volatile electrically programmable and erasable cell and method
US5838040A (en) * 1997-03-31 1998-11-17 Gatefield Corporation Nonvolatile reprogrammable interconnect cell with FN tunneling in sense
US5914904A (en) * 1996-10-01 1999-06-22 Altera Corporation Compact electrically erasable memory cells and arrays
US6741500B2 (en) * 2002-10-04 2004-05-25 Hpl Technologies, Inc. One-time-programmable bit cell with latch circuit having selectively programmable floating gate transistors
FR3048114B1 (fr) 2016-02-22 2018-03-30 Stmicroelectronics (Rousset) Sas Procede d'amelioration de l'operation d'ecriture dans une memoire eeprom et dispositif correspondant

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6034198B2 (ja) * 1980-11-26 1985-08-07 富士通株式会社 不揮発性メモリ
US4628487A (en) * 1984-08-14 1986-12-09 Texas Instruments Incorporated Dual slope, feedback controlled, EEPROM programming

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63182849A (ja) * 1987-01-23 1988-07-28 Nec Corp 相補型メモリセルマトリックス
JPH02103796A (ja) * 1988-06-15 1990-04-16 Advanced Micro Devicds Inc 不揮発性メモリ装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0634356B2 (ja) 1994-05-02
US4695979A (en) 1987-09-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS62117196A (ja) 電気的に消去可能なプログラム可能なメモリ・セルとその製法
US4715014A (en) Modified three transistor EEPROM cell
US6141250A (en) Non-volatile semiconductor memory device
US6288944B1 (en) NAND type nonvolatile memory with improved erase-verify operations
US4435786A (en) Self-refreshing memory cell
EP0052566A2 (en) Electrically erasable programmable read-only memory
US4999812A (en) Architecture for a flash erase EEPROM memory
EP0025155B1 (en) Nonvolatile semiconductor memory device
EP0211232B1 (en) Semiconductor memory in which data readout operation is carried out over wide power voltage range
US6288941B1 (en) Electrically erasable semiconductor non-volatile memory device having memory cell array divided into memory blocks
US4354255A (en) Random access memory with volatile and non-volatile storage
US5181188A (en) Semiconductor memory device
US4635229A (en) Semiconductor memory device including non-volatile transistor for storing data in a bistable circuit
US4434479A (en) Nonvolatile memory sensing system
US4785423A (en) Current limited epld array
EP0443777B1 (en) Write circuit for non-volatile memory device
JPS6120958B2 (ja)
JP2510521B2 (ja) Eeprom装置
US4423491A (en) Self-refreshing memory cell
JP2670094B2 (ja) 電気的に書換え可能な不揮発性半導体メモリ
US5808940A (en) Nonvolatile semiconductor memory
JP2891552B2 (ja) 不揮発性半導体記憶装置
US6744672B2 (en) Non-volatile semiconductor memory device capable of high-speed data reading
JP3106473B2 (ja) 不揮発性半導体記憶装置
US6272045B1 (en) Nonvolatile semiconductor memory device