JPS6212171B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6212171B2
JPS6212171B2 JP59257762A JP25776284A JPS6212171B2 JP S6212171 B2 JPS6212171 B2 JP S6212171B2 JP 59257762 A JP59257762 A JP 59257762A JP 25776284 A JP25776284 A JP 25776284A JP S6212171 B2 JPS6212171 B2 JP S6212171B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silicic acid
precipitated silicic
acid
precipitated
suspension
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP59257762A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS60155524A (ja
Inventor
Naurooto Peeteru
Etsushu Haintsu
Teyuruku Gyunteru
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Evonik Operations GmbH
Original Assignee
Degussa GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=6145876&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JPS6212171(B2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Degussa GmbH filed Critical Degussa GmbH
Publication of JPS60155524A publication Critical patent/JPS60155524A/ja
Publication of JPS6212171B2 publication Critical patent/JPS6212171B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34—Silicon-containing compounds
    • C08K3/36—Silica
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
    • C01B33/187—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
    • C01B33/187—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates
    • C01B33/193—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates of aqueous solutions of silicates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B30/00—Compositions for artificial stone, not containing binders
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/60—Particles characterised by their size
    • C01P2004/61—Micrometer sized, i.e. from 1-100 micrometer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/11—Powder tap density
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/12—Surface area
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/19—Oil-absorption capacity, e.g. DBP values
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/40—Electric properties

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
ケイ酸の構造性(strukur)とは、その一次粒
子の二次粒子ないし三次凝集体への凝集状態の程
度および範囲を表わすケイ酸の性質を意味する。
フアーネスブラツクの構造性の特性化に関する現
在妥当する考察によれば、沈殿ケイ酸についての
カボツト(CABOT)による「ブラベンダー」
(Brabender)吸収値法」を用いることによつ
て、いわゆるジブチルフタレート吸収値(ml/g
または%で表わされる)と構造性との間には明確
な相関関係が示される(ドイツ特許第1767332号
明細書第2欄第45〜64行参照)。 従来技術として、その構造性に関して平均的な
程度の構造性を有する通常のケイ酸(ゴム用の補
強充填物質)とは異なる型のケイ酸が知られてい
る。 この場合、乾燥工程の特殊な変法によつてその
構造性が高められていると見される生成物が形成
される沈殿ケイ酸またはシリカゲルが重要であ
る。これには、ケイ酸―オルガノ―ヒドロゲルの
超限界脱水(米国特許第2245767号明細書参照)
により、またはケイ酸ヒドロゲルのジエツト粉砕
乾燥(ドイツ特許第1036220号明細書参照)によ
つて得られるエーロゾルが属する(ウルマン編工
業化学百科辞典(Ullmanns Enzyklop¨adie det
technischen Chemie)第版第15巻第725頁1949
年発行参照)。更に、乾燥工程前の中間ミセル性
液体が有機溶剤またはそのような溶剤と水との混
合物からなるものであるようなケイ酸およびケイ
酸ゲルもまたこの群に加えるべきである(米国特
許第2285449号、ドイツ特許公告第1008717号、お
よびドイツ特許第1089736号各明細書参照)。更
に、加うるに噴霧乾燥されたケイ酸類(オランダ
特許公告第6502791号)、ドイツ特許第2447613号
各明細書参照)および最後に剪断によつて得られ
た沈殿ケイ酸類もまたこれに属する(ドイツ特許
出願F14059VIC/12i、ドイツ特許公告第1000763
号、ドイツ特許第1767332号各明細書参照)。 下記の総括(第1表)には、平均的な構造性を
有する“通常の”沈殿ケイ酸に比較した従来技術
による生成物に関する比較データが示されてい
る。この一覧表には更に、本発明によるケイ酸の
データが加えられている。数値の比較により、本
発明によつて驚くできことには400m2/g以上の
表面積を300%以上のDBP値と組合せて有する高
い構造性を有する沈殿ケイ酸およびケイ酸ゲルを
製造することに成功したことが立証される。 本発明は、アルカリ金属ケイ酸塩溶液を酸およ
び/または酸として作用する物質とを反応させる
ことによつて、300%以上の高いDBP値を同時に
400m2/g以上の高い比表面積を有する沈殿ケイ
酸を製造するという課題から出発している。本発
明のもう一つの目的は、前記の物理的―化学的特
性データを備えた沈殿ケイ酸を、種々の目的の粒
度分布型において製造することである。
【表】 本発明の対象は、下記の物理的―化学的物質デ
ータによつて特徴づけられる沈殿ケイ酸である:
【表】 従つて、これらの本発明による沈殿ケイ酸の物
理的―化学的物質パラメーターは、高いBBP値と
組合わされた比較的高いBET―表面積によつ
て、より高い構造性を有する沈殿ケイ酸およびケ
イ酸ゲルならびにケイ酸エアロゲルのそれらと異
なつている。それぞれ子分布曲線に従つて、これ
らの沈殿ケイ酸は、あらゆる種類の工作材料のた
めの貴重な、応用技術的に極めて有効な担体ケイ
酸、極めて良好な透明度を有するポリプロピレン
―およびポリエチレンフイルム用の能率のよいブ
ロツキング防止剤、高温処理されたケイ酸があま
り濃縮率を示さないような一定の極性系中の濃縮
ケイ酸、ラツカー用の非常に有効なつや消し剤お
よび有用な触媒担体ならびに絶縁材料である。 本発明のもう一つの対象は、下記の物理的―化
学的特性データ:
【表】 を有する本発明による沈殿ケイ酸を製造すべく、
PH値を6〜7に一定に保ちつつ水からなる40℃〜
42℃に加温された仕込み物中に、全沈殿時間に亘
つて続く剪断力の下で、水ガラス溶液および硫酸
を同時に供給し、第13分目から第103分目まで90
分間沈殿を中断せしめ、146分間の全沈殿時間の
後にケイ酸の最終濃度を46g/に調整し、沈殿
ケイ酸懸濁液を12〜17時間熟成せしめ、フイルタ
ープレスを用いて上記懸濁液から沈殿ケイ酸を分
離し、洗滌し、フイルターケーキを水および/ま
たは酸を用いて10〜16重量%の固形分を有する懸
濁液まで液状化し、噴霧乾燥し、次いでジエツト
ミルで粉砕することを特徴とする沈殿ケイ酸の製
造方法である。 このようにして得られた沈殿ケイ酸は、特許請
求の範囲第1項に記載された物理的―化学的特性
データを示す。 本発明による沈殿ケイ酸を製造するための本発
明による方法の特別の利点―これらは本発明の新
規な方法の経済性にとつて有利に影響を及ぼすも
のであるが、―下記のとおりである: ―高い比表面積を有する沈殿ケイ酸に比較してフ
イルターケーキ中の16〜17重量%というより高
い固形分は、この製造方法の乾燥費そして従つ
てエネルギー消費を減少せしめる。 ―高い比表面積を有する沈殿ケイ酸に比較して従
来みられなかつたような驚異的に低い洗滌時間
は、洗滌水の必要量を減少せしめ、そしてフイ
ルタープレスの性能の著しい向上を可能にす
る。 本発明によるケイ酸ならびにそれらを製造する
方法を以下の実施例において詳細に説明する。 例1 (参考例) 沈殿容器として作用しそしてMIG―桿型撹拌装
置およびエカト(Ekato)―剪断タービンを備え
た75m3の木製桶中に、40℃の温度の水60m3を予め
装入する。この仕込み物に市販の水ガラス
(sio2:26.8重量%、Na2O:8.0重量%、モジユラ
ス=3.35)9.8m3/hを9.8m3/hの速度でそして
濃硫酸(96%)を0.98m3/hの速度で同時に流入
せしめる。その際、酸はタービンを経て添加さ
れ、このタービンは沈殿の始まりと共に運転を開
始される。この添加の間、沈殿仕込み物のPH値
は、6.0に保たれる。13分間の沈殿の後に―すな
わち著しい対照をなす粘度の上昇―水ガラスおよ
び酸の添加を90分間の間中断する。この中断期間
の間、エカトタービンで更に剪断を行なう。103
分目から水ガラスの添加を上記の添加速度および
PH値を保ちつつ146分目まで続行する。その時、
沈殿懸濁液の固形物含有量は、46g/である。
温度は、それぞれ外的温度条件に応じて42〜49℃
の値に調整されうる。最終PH値は6.0である。全
部で水ガラス9.1m3および硫酸0.91m3が反応せし
められる。この懸濁液を圧縮する前に中間容器内
で15時間熟成させる。この熟成期間に続いて、こ
の懸濁液を4個のフイルタープレスによつて過
する。その際、充填時間は、3.3バールの最終圧
力において1時間である。僅か1.5時間の極めて
短かい洗滌時間の後の、流出した液の伝導度
は、1050μSであり、4時間の洗滌時間の後の伝
導度は、280μSである。得られたフイルターケ
ーキの固形分は、約16.5〜17重量%である。この
フイルターケーキは、剪断力の影響下に水で液状
化された後、11重量%の固形分を示す。この液状
化に続いて、ケイ酸懸濁液を回転円板によつて噴
霧し、熱い燃焼ガスによつて乾燥する。 粉砕されていないこの生成物の特性データは、
第2表に示されている。 例2 (参考例) 例1に従つて沈殿ケイ酸を調製する。その際、
例1と異なつて熟成時間は、全部で16時間に延長
され、これによつて同じ構造性標準数値
(Strukturmasszahl)においてBET―表面積は、
低下する。 粉砕されていないこのケイ酸の特性データは、
第2表に示されている。 例3 (参考例) 例1に従つて沈殿ケイ酸の製造を行なう。相違
点は、熟成時間を13時間に減らし、同時に固形分
を11重量%から13重量%に高めたことである。 粉砕されていないこのケイ酸の特性データは、
第2表に示されている。 例4 (参考例) 例1の諸条件を守る。ただし、噴霧乾燥にかけ
られた液状化されたフイルターケーキの固形分
は、12%に高められた。 粉砕されていないこのケイ酸の特性データは、
第2表に示されている。 例5 (参考例) このケイ酸の製造は、例1に従つて行なわれ
る。熟成時間のみ15時間から17時間に変えられ
る。更に、フイルターケーキを少量の希硫酸およ
び少量の水で液状化し、得られた16重量%の固形
分を有する懸濁液を噴霧乾燥にかける。固形物に
含まれた遊離の酸をアンモニアガスによつて中和
する。 粉砕されていないこのケイ酸の特性データは、
第2表に示されている。 例 6 例1によるケイ酸をマイクログラインデイング
MC500型の空気ジエツトミルを用いて粉砕し、
その際、7バールの粉砕空気圧において100Kg/
hの出力が保たれる。この本発明によるケイ酸の
特性データは第2表に示されている。 例 7 例5による沈殿ケイ酸を例6の条件に従つて空
気ジエツトミルで粉砕する。第2表に示されてい
るようなデータが得られる。 例8 (比較例) この例は、本発明によるケイ酸が公知の表面積
の大きなケイ酸に比較して、フイルタープレス上
での改善された過および洗滌速度の点において
優れていることを示している。 ドイツ特許公告第1517900号明細書に従つて
(第2欄第53〜68行および第3欄第1〜7行参
照)、670m2/gの比表面積を有する沈殿ケイ酸を
調製する。 過工程のデータは、第3表に示されている。
そこにはこれらの過データが本発明による例3
のケイ酸の過データと比較されている。これら
は乾燥された沈殿ケイ酸について測定されたほぼ
同じ電導率を示す。 この比較例は、洗滌水およびフイルタープレス
容量についての驚異的に高い節約を示す。従つ
て、本発明による方法は、最も経済的な条件まで
高い表面積を有する沈殿ケイ酸の製造を可能にす
る。 BET―比表面積、DBP値およびかさ密度のよ
うな物理的―化学的特性データは、DINによる方
法に従つて測定される。 4%水性分散液中の電導率は、ドイツ特許出願
公開第2628975号明細書第16頁に従つて測定され
る。 “アルピーネ(ALPINE)―ふるい残分”は、
次のようにして測定される: ふるい残分を測定するには、ケイ酸は、場合に
よつては存在する通気節目を破壊するために500
μ―メツシユの篩分けられる。次いで、篩分けら
れた物質10gを定められた空気流篩にかけ、200
水柱の減圧で篩分けする。篩分けは、残渣が一定
となつたときに終了し、それは大抵流動性の外観
で見分けられる。なお念のために、更に1分間篩
分けを続ける。一般に、篩分け工程は、5分間行
なわれる。万一凝集が起つた場合には、篩分け工
程を短時間中断し、凝集塊を刷毛を用いて軽い加
圧の下に破壊する。篩分けの後、ふるい残分を空
気流篩から慎重に叩いて除きそして回収する。 DIN66131によるBET―表面積は、次のように
して測定される: BET法を使用するガス吸着による固体の比表
面積の測定法であり、評価はBET法または修正
BET法によつて行なわれる。試料は、測定前に
真空中で少くとも100℃において圧力および重量
が一定になるまで脱ガス化される。 簡易化法によれば、比表面積の測定は、あまり
正確さが要求されない場合には、前処理ならびに
測定時間の短縮によつて容易化される(1点法;
連続的測定)。 試料の前処理:吸着の測定前に、試料表面に吸
着された不純物、特に水蒸気を有効に除去するた
めに、試料を10-2ないし10-3paの減圧下で通常高
温で前処理する。 多くの無機物質(酸化物、炭酸塩、硫酸塩
等)、例えば触媒、顔料その他の工業製品におい
ては、窒素吸着の測定のためには、110ないし130
℃の前処理温度が適当であり、110℃における乾
燥棚において予め比較的長く乾燥することによつ
て減圧処理が短縮される。有機化合物および極め
て多孔性(高活性)の物質は、事情により50℃以
下の温度を必要とする。 DIN53601によるDBP値は、次のようにして測
定される: DIN53601は、カーボンブラツクのジブチルフ
タレート(DBP)吸収量の測定法である。A法に
従つて測定するには、乾燥したカーボンブラツク
をプラストグラフまたはブラストコーダーに接続
された回転数毎分125回転の特殊〓和機に入れ
る。この特殊〓和機に電動フラスコビユーレツト
から一定の速度でDBPを滴加する。最大回転モー
メントの約70%に達したときに、消費量の読みか
らDBP―吸収量を算出する。これは、DBP値とも
呼ばれる。シブチルフタレート(DBP)は、密度
1045〜1050g/mlのものが使用される。 DBP―値=ml/100gで表わしたDBP―吸収量 =ビユーレツトの読み(ml)/秤ベリ(g)×100 DIN53194によるかさ密度は、次のようにして
測定される: 測定は、2回行なう。2回の測定に十分な量
(約500ml)の試料を加熱棚内で105±2℃で乾燥
し、乾燥器内で冷却する。乾燥した物質をふるい
にかけ、メスシリンダー内に中空部を生じないよ
うに充填する。物質200±10mlを添加した後、メ
スシリンダーを振つて試料を0.5gとする。物質
の表面がほぼ水平になるまでシリンダを軽くたた
き、栓を再び閉じる。メスシリンダーをかさ容積
計のメスシリンダー容器に入れ、カム軸を約1250
回転せしめて突固める。突固めた試料のかさ容積
を測定する。 かさ容積は、次式により算出される: vt100V/m1―m0 かさ密度は次式により算出される: ρt=100/vt=m1―m0/V 上式中、 m0=空のメスシリンダーのgで表わした重量 m1=メスシリンダーおよび物質のgで表わし
た重量 V=突固めた後の物質のmlで表わした容積 vt=物質のml/100gで表わしたかさ容積 ρt=物質のg/mlで表わしたかさ密度 2回の測定の平均値をとる。
【表】
【表】
【表】
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 下記の物理的―化学的特性データを有するこ
    とを特徴とする沈殿ケイ酸: 【表】 2 下記の物理的―化学的特性データ: 【表】 を有する沈殿ケイ酸を製造すべく、PH値を6〜7
    に一定に保ちつつ水からなる40℃〜42℃に加温さ
    れた仕込み物中に、全沈殿時間に亘つて続く剪断
    力の下で、水ガラス溶液および硫酸を同時に供給
    し、第13分目から第103分目まで90分間沈殿を中
    断せしめ、146分間の全沈殿時間の後にケイ酸の
    最終濃度を46g/lに調整し、沈殿ケイ酸懸濁液
    を12〜17時間熟成せしめ、フイルタープレスを用
    いて上記懸濁液から沈殿ケイ酸を分離し、洗滌
    し、フイルターケーキを水および/または酸を用
    いて10〜16重量%の固形分を有する懸濁液まで液
    状化し、噴霧乾燥し、次いでジエツトミルで粉砕
    することを特徴とする、前記沈殿ケイ酸の製造方
    法。
JP59257762A 1981-11-07 1984-12-07 高い構造性を有する沈殿ケイ酸およびそれらの製造方法 Granted JPS60155524A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19813144299 DE3144299A1 (de) 1981-11-07 1981-11-07 Faellungskieselsaeuren mit hoher struktur und verfahren zu ihrer herstellung
DE3144299.4 1981-11-07

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60155524A JPS60155524A (ja) 1985-08-15
JPS6212171B2 true JPS6212171B2 (ja) 1987-03-17

Family

ID=6145876

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57193982A Granted JPS5888117A (ja) 1981-11-07 1982-11-06 高い構造性を有する沈殿ケイ酸およびそれらの製造方法
JP59257762A Granted JPS60155524A (ja) 1981-11-07 1984-12-07 高い構造性を有する沈殿ケイ酸およびそれらの製造方法
JP59257761A Granted JPS60221315A (ja) 1981-11-07 1984-12-07 高い構造性を有する沈殿ケイ酸およびそれらの製造方法

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57193982A Granted JPS5888117A (ja) 1981-11-07 1982-11-06 高い構造性を有する沈殿ケイ酸およびそれらの製造方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59257761A Granted JPS60221315A (ja) 1981-11-07 1984-12-07 高い構造性を有する沈殿ケイ酸およびそれらの製造方法

Country Status (14)

Country Link
US (1) US4495167A (ja)
EP (1) EP0078909B2 (ja)
JP (3) JPS5888117A (ja)
KR (1) KR890000809B1 (ja)
AR (1) AR230249A1 (ja)
AT (1) ATE19385T1 (ja)
BR (1) BR8206437A (ja)
CA (1) CA1194272A (ja)
DE (2) DE3144299A1 (ja)
DK (1) DK171556B1 (ja)
ES (1) ES8307664A1 (ja)
FI (1) FI72497C (ja)
IL (1) IL67145A0 (ja)
ZA (1) ZA828158B (ja)

Families Citing this family (48)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3144299A1 (de) * 1981-11-07 1983-05-19 Degussa Ag, 6000 Frankfurt Faellungskieselsaeuren mit hoher struktur und verfahren zu ihrer herstellung
DE3346349A1 (de) * 1983-12-22 1985-07-11 Degussa Ag, 6000 Frankfurt Methylisothiocyanat-zubereitung
DE3545615C3 (de) * 1984-12-28 1996-11-21 Ppg Industries Inc Verwendung von amorphem gefälltem Siliziumdioxid zum Verstärken von mikroporösen Trennelementen für Batterien
US4636415A (en) * 1985-02-08 1987-01-13 General Electric Company Precipitated silica insulation
DE3639845A1 (de) * 1986-11-21 1988-06-01 Degussa Faellungskieselsaeuren, verfahren zu ihrer herstellung und verwendung
DE3639844A1 (de) * 1986-11-21 1988-06-01 Degussa Zahnpflegemittel
US6143281A (en) * 1987-03-31 2000-11-07 Smithkline Beecham P.L.C. Dentifrice compositions
DE68911965T2 (de) * 1988-03-22 1994-07-07 Agfa Gevaert Nv Mit einer antistatischen Schicht versehenes Blatt oder Band.
DE3815670A1 (de) * 1988-05-07 1990-01-25 Degussa Feinteilige faellungskieselsaeure mit hoher struktur, verfahren zu seiner herstellung und verwendung
FI83330C (fi) * 1988-06-03 1991-06-25 Neste Oy Foerfarande foer aktivering av en polymerisationskatalysatorbaerare och en medelst foerfarandet erhaollen katalysatorkomponent.
US5362541A (en) * 1988-08-24 1994-11-08 Degussa Aktiengesellschaft Shaped articles for heat insulation
US6193795B1 (en) 1993-08-02 2001-02-27 Degussa Corporation Low structure pyrogenic hydrophilic and hydrophobic metallic oxides, production and use
EP0643015B1 (de) * 1993-08-07 1996-09-18 Degussa Aktiengesellschaft Verfahren zur Herstellung einer Fällungskieselsäure
US6977065B1 (en) * 1993-10-07 2005-12-20 Degussa Ag Precipitated silicas
US5571494A (en) * 1995-01-20 1996-11-05 J. M. Huber Corporation Temperature-activated polysilicic acids
IL117915A (en) * 1995-04-19 2001-05-20 Ppg Ind Ohio Inc Amorphous precipitated silica having large liquid carrying capacity
IN188702B (ja) * 1995-06-01 2002-10-26 Degussa
DE19617039A1 (de) * 1995-06-01 1996-12-05 Degussa Fällungskieselsäuren, Verfahren zu ihrer Herstellung und Verwendung von vulkanisierbaren Kautschukmischungen
DE19526476A1 (de) * 1995-07-20 1997-01-23 Degussa Fällungskieselsäure
US5605569A (en) * 1995-11-08 1997-02-25 Ppg Industries, Inc. Precipitated silica having high sodium sulfate content
DE19740440A1 (de) 1997-09-15 1999-03-18 Degussa Leicht dispergierbare Fällungskieselsäure
DE19755287A1 (de) * 1997-12-12 1999-07-08 Degussa Fällungskieselsäure
US6395247B1 (en) 1997-12-12 2002-05-28 Degussa Ag Precipitated silica
JP4071343B2 (ja) * 1998-02-18 2008-04-02 株式会社ブリヂストン ゴム組成物及びそれを用いた空気入りタイヤ
DE19807700A1 (de) * 1998-02-24 1999-08-26 Degussa Fällungskieselsäuregranulate
US6573032B1 (en) 1999-04-22 2003-06-03 J. M. Huber Corporation Very high structure, highly absorptive hybrid silica and method for making same
US7015271B2 (en) * 1999-08-19 2006-03-21 Ppg Industries Ohio, Inc. Hydrophobic particulate inorganic oxides and polymeric compositions containing same
US6652611B1 (en) 2000-08-18 2003-11-25 J. M. Huber Corporation Method for making abrasive compositions and products thereof
US6403059B1 (en) 2000-08-18 2002-06-11 J. M. Huber Corporation Methods of making dentifrice compositions and products thereof
US6419174B1 (en) 2000-08-18 2002-07-16 J. M. Huber Corporation Abrasive compositions and methods for making same
DE10048616A1 (de) 2000-09-30 2002-04-11 Degussa Dotierte Fällungskieselsäure
DE10058616A1 (de) 2000-11-25 2002-05-29 Degussa Fällungskieselsäuren mit hoher Struktur
DE10105750A1 (de) * 2001-02-08 2002-10-10 Degussa Fällungskieselsäuren mit enger Partikelgrößenverteilung
US7253224B2 (en) * 2001-08-07 2007-08-07 Ppg Industries Ohio, Inc. Silica-based particulates
US7135429B2 (en) * 2002-05-24 2006-11-14 Ppg Industries Ohio, Inc. Attrition resistant carrier product
DE10241273A1 (de) † 2002-09-06 2004-03-18 Degussa Ag Effiziente Mattierungsmittel basierend auf Fällungskieselsäuren
FR2856680B1 (fr) * 2003-06-30 2005-09-09 Rhodia Chimie Sa Materiaux d'isolation thermique et/ou acoustique a base de silice et procedes pour leur obtention
JP2005053744A (ja) * 2003-08-05 2005-03-03 Dsl Japan Co Ltd 高吸油性非晶質シリカ粒子
DE102004005409A1 (de) * 2004-02-03 2005-08-18 Degussa Ag Hydrophile Fällungskieselsäure für Entschäumerformulierungen
US7037476B1 (en) 2004-12-27 2006-05-02 Council Of Scientific And Industrial Research Process for preparing amorphous silica from kimberlite tailing
WO2007054955A1 (en) * 2005-11-10 2007-05-18 Council Of Scientific & Industrial Research A process for the preparation of sodium silicate from kimberlite tailings
IN2007DE00954A (ja) * 2007-05-03 2016-05-06
DE102009045104A1 (de) 2009-09-29 2011-03-31 Evonik Degussa Gmbh Neuartige Mattierungsmittel für UV-Lacke
DE102010029945A1 (de) 2010-06-10 2011-12-15 Evonik Degussa Gmbh Neuartige Mattierungsmittel für UV-Überdrucklacke
FR2988383B1 (fr) * 2012-03-22 2017-06-09 Rhodia Operations Procede de preparation de silice precipitee mettant en oeuvre un malaxeur ou une extrudeuse
DE102017209874A1 (de) 2017-06-12 2018-12-13 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur Herstellung von wachsbeschichteter Kieselsäure
EP3954743A1 (de) 2020-08-12 2022-02-16 Evonik Operations GmbH Verwendung von siliziumdioxid zur verbesserung der leitfähigkeit von beschichtungen
CN112694092A (zh) * 2020-12-29 2021-04-23 山东联科卡尔迪克白炭黑有限公司 一种氯化胆碱载体用二氧化硅的生产工艺及应用

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE14059C (de) * c. von trott in New-York (V. St. A.) Neuerungen an elektromagnetischen Signalvorrichtungen für Eisenbahnen
DE1299617B (de) * 1965-01-13 1969-07-24 Degussa Verfahren zur Herstellung von feinverteiltem gefaelltem Siliciumdioxid
NL6502791A (ja) * 1965-03-05 1966-09-06
DE1767332C3 (de) * 1968-04-27 1975-10-09 Deutsche Gold- Und Silber-Scheideanstalt Vormals Roessler, 6000 Frankfurt Verfahren zur Herstellung feinstteiliger, amorpher Kieselsäuren mit hoher Struktur
US4067954A (en) * 1971-05-11 1978-01-10 Deutsche Gold- Und Silber-Scheideanstalt Vormals Roessler Process for the production of finely divided silicon dioxide having a large specific surface
DE2414478C3 (de) * 1974-03-26 1978-07-13 Deutsche Gold- Und Silber-Scheideanstalt Vormals Roessler, 6000 Frankfurt Aerogelartige strukturierte Kieselsäure und Verfahren zu ihrer Herstellung
AU497891B2 (en) * 1974-05-22 1979-01-18 J.M. Huber Corp. Siliceous pigments & their production
SE420596B (sv) * 1975-03-25 1981-10-19 Osaka Packing Formad kropp av amorf kiseldioxid, eventuellt innehallande kalciumkarbonat, sett att framstella en formad kropp av amorf kiseldioxid samt partikel av amorf kiseldioxid for framstellning av en formad kropp
US4243428A (en) * 1979-01-24 1981-01-06 Donnet Jean Baptise Processes for the manufacturing of precipitated silica
US4312845A (en) * 1979-09-10 1982-01-26 J. M. Huber Corporation Method of producing amorphous silica of controlled oil absorption
DE3144299A1 (de) * 1981-11-07 1983-05-19 Degussa Ag, 6000 Frankfurt Faellungskieselsaeuren mit hoher struktur und verfahren zu ihrer herstellung

Also Published As

Publication number Publication date
JPS60221315A (ja) 1985-11-06
ATE19385T1 (de) 1986-05-15
JPS5888117A (ja) 1983-05-26
FI72497B (fi) 1987-02-27
FI823558L (fi) 1983-05-08
EP0078909A2 (de) 1983-05-18
EP0078909B2 (de) 1992-09-30
KR840002326A (ko) 1984-06-25
JPS6126492B2 (ja) 1986-06-20
BR8206437A (pt) 1983-09-06
AR230249A1 (es) 1984-03-01
EP0078909A3 (en) 1984-10-10
DK171556B1 (da) 1997-01-13
DE3270779D1 (en) 1986-05-28
US4495167A (en) 1985-01-22
EP0078909B1 (de) 1986-04-23
JPS60155524A (ja) 1985-08-15
IL67145A0 (en) 1983-03-31
DE3144299A1 (de) 1983-05-19
DK493882A (da) 1983-05-08
CA1194272A (en) 1985-10-01
ZA828158B (en) 1983-09-28
ES517140A0 (es) 1983-08-01
FI72497C (fi) 1987-06-08
ES8307664A1 (es) 1983-08-01
JPH0246521B2 (ja) 1990-10-16
KR890000809B1 (ko) 1989-04-08
FI823558A0 (fi) 1982-10-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6126492B2 (ja)
FI112862B (fi) Menetelmä saostetun piihapon valmistamiseksi
KR950015028B1 (ko) 비이드 형태의 실리카, 이의 제조방법 및 엘라스토머 보강용 용도
RU2092435C1 (ru) Осажденный диоксид кремния и способ его получения
KR910009572B1 (ko) 침강 실리카의 제조 방법
US6761867B1 (en) Concentrated suspension of precipitation silica, processes for its preparation and uses of this suspension
US5234673A (en) Low temperature-very high structure silica and methods
US7767180B2 (en) Precipitated silicas having special surface properties
JP3719687B2 (ja) シリカゲルの製造方法
KR100476150B1 (ko) 침강 실리카 기재 지지체 상에 흡수된 액체 함유 조성물
US6663963B2 (en) Very high structure, highly absorptive hybrid silica and methods for making same
JPH0229607B2 (ja)
US9738535B2 (en) Precipitated silicas for storage-stable RTV-1 silicone rubber formulations without stabilizer
WO1997012843A1 (en) Microporous high structure precipitated silicas and methods
JP2003525191A (ja) ホウ素を含む非晶質シリカ粒子
JP2002326809A (ja) 少なくとも二つの珪酸フラクシヨンを含有する珪酸
US2561304A (en) Process for the production of finely divided amorphous silica
KR20070114043A (ko) 특수 표면 특성을 갖는 침전된 실리카
US4045240A (en) Amorphous precipitated siliceous pigments and methods for their production
GB2125780A (en) Process of preparing silica gel having desired physical properties
KR20130035712A (ko) 실리카 에어로겔 과립 및 이를 제조하는 방법
KR970005188B1 (ko) 침강 실리카의 제조방법
KR20140138303A (ko) 고도의 압밀화 단계를 포함하는 침강 실리카의 제조 방법
KR0184740B1 (ko) 소수성을 갖는 실리카의 제조방법
JPS598615A (ja) シリカゲルの製造方法