JPS62123717A - Semiconductor manufacturing equipment - Google Patents
Semiconductor manufacturing equipmentInfo
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- JPS62123717A JPS62123717A JP60262527A JP26252785A JPS62123717A JP S62123717 A JPS62123717 A JP S62123717A JP 60262527 A JP60262527 A JP 60262527A JP 26252785 A JP26252785 A JP 26252785A JP S62123717 A JPS62123717 A JP S62123717A
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- Japan
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- mask
- wafer
- aligner
- lot number
- semiconductor manufacturing
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- Granted
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、集積回路(所謂IC)を製造する半導体製
造装置に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor manufacturing apparatus for manufacturing integrated circuits (so-called ICs).
従来、この種の半導体製造装置として、第3図にもシス
テムの概略を示すように、シリコンウエハーヲ投入スる
ウエハーロダ1、ウェハーをパターニングするシステム
アライナ(写真製版装置)2、複数のマスクをストック
するマスクストッカ3およびウェハーを払い出すウェハ
ーローダ4とからなるものが知られている。前記マスク
ストッカ3とアライナ2間のマスクの交換作業は自動で
ハンドリングされる。Conventionally, this type of semiconductor manufacturing equipment has a wafer loader 1 into which silicon wafers are loaded, a system aligner (photolithography equipment) 2 which patterns the wafers, and a plurality of masks in stock, as shown in the schematic diagram of FIG. There is known a mask stocker 3 for carrying wafers, and a wafer loader 4 for discharging wafers. The mask exchange operation between the mask stocker 3 and the aligner 2 is handled automatically.
上記のような従来の半導体製造装置における写真製版の
作業では、作業者がシステム投入されたウェハーのロフ
ト番号を確認してアライナ2またはマスクストッカ3に
マスク交換を指示する必要があった。更に、ロット番号
とマスクとのチェックミスが生じた場合、ウェハーがシ
ステムから出た後、検査作業により確認する必要があっ
た。In the photolithography work in the conventional semiconductor manufacturing equipment as described above, it is necessary for the operator to confirm the loft number of the wafer input into the system and instruct the aligner 2 or mask stocker 3 to replace the mask. Furthermore, if a mistake occurs in checking the lot number and mask, it is necessary to confirm this through inspection work after the wafer leaves the system.
この発明は、前記した作業者によるウェハーのロット番
号の確認の必要のない半導体製造装置を提供することを
目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a semiconductor manufacturing apparatus that does not require the operator to confirm the lot number of a wafer.
この発明に係る半導体製造装置は、写真製版に使用する
マスク (レティクル)を管理するためのウニへ−ロツ
ト番号読取り装置とマスク読取り装置とを備えたもので
ある。A semiconductor manufacturing apparatus according to the present invention is equipped with a lot number reading device and a mask reading device for managing masks (reticles) used in photolithography.
この発明においては、ウェハーロット番号読取り装置に
よりシステム投入されたウェハーのロット番号が読取ら
れ、アライナまたはマスクストッカにセットすべきマス
クが指示され、該指示に基づき該マスクがアライナにセ
ットされる。このアライナにマスクがセットされる前に
マスク読取り装置でマスクに印字されたマスク名が確認
される。In this invention, a wafer lot number reading device reads the lot number of a wafer input into the system, instructs which mask to set in the aligner or mask stocker, and sets the mask in the aligner based on the instruction. Before the mask is set in this aligner, the mask name printed on the mask is confirmed by a mask reader.
以下、この発明の一実施例を第1図について説明する。 An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG.
第1図において、前記第3図で説明した従来の半導体製
造装置と同一符号は同一または相当部分を示す。符号5
はウェハーに印字された文字、例えばウェハーロット番
号を読取るウェハーリーグ(ウェハーロット番号読取り
装置)、6はマスクに印字された文字、例丸ばマスク名
を読取るマスクリーダ(マスク読取り装置)、7は全体
のシステムコン1−ローラである。In FIG. 1, the same reference numerals as in the conventional semiconductor manufacturing apparatus described in FIG. 3 indicate the same or corresponding parts. code 5
6 is a wafer league (wafer lot number reader) that reads characters printed on a wafer, such as a wafer lot number; 6 is a mask reader (mask reader) that reads characters printed on a mask, such as a round mask name; 7 is a mask reader that reads characters printed on a mask, such as a round mask name; It is the entire system controller.
上記のように構成された半導体製造装置では、ウェハー
に前もってロット番号を印字しておき、更にマスクにも
前もってマスク名を印字しておく。In the semiconductor manufacturing apparatus configured as described above, a lot number is printed on the wafer in advance, and a mask name is also printed on the mask in advance.
ロット番号と写真製版するマスク名との対応データをシ
ステムコントローラにもたせておく。この状態で、ウェ
ハーローダにウェハーが投入されると、この投入された
ウェハーのロット番号はウェハーリーグにより読取られ
、これによりロット番号が確認され、この情報がシステ
ムコントローラ7に報告される。このシステムコントロ
ーラ7はアライナ2にセットすべきマスクを該アライナ
またはマックス1−ツカ3に指示し、乙のデータをもと
にアライナ2に所定のマスクがセラ)・される。The system controller has correspondence data between the lot number and the name of the mask to be photoengraved. In this state, when a wafer is loaded into the wafer loader, the lot number of the loaded wafer is read by the wafer league, thereby confirming the lot number, and this information is reported to the system controller 7. The system controller 7 instructs the aligner 2 or the Max 1-Taker 3 about the mask to be set in the aligner 2, and a predetermined mask is set in the aligner 2 based on the data.
このアライナ2にマスクがセットされる前にマスクリー
ダ6でマスクに印字されたマスク名が確認され、マスク
のセットが確実なものとなる。Before the mask is set in the aligner 2, the mask name printed on the mask is confirmed by the mask reader 6, thereby ensuring that the mask is set.
第2図はこの発明の他の実施例を示すものであり、第1
図で説明したものからシステムコントローラ7を除いた
もの、即ちウェハーに前もって印字されるロット番号と
マスクに前もって印字されるマスク名を一対一に対応さ
せることによりシステムコントローラ7を必要としない
ようにしたものである。FIG. 2 shows another embodiment of the present invention, and shows the first embodiment.
The system controller 7 is removed from what was explained in the figure, that is, the lot number printed in advance on the wafer and the mask name printed in advance on the mask are made to correspond one-to-one, thereby eliminating the need for the system controller 7. It is something.
前記したようにウェハーローダ4に投入されたウェハー
はウェハーリーグ5によりその印字されたロット番号が
読取られ、アライナ2またはマスクストッカ3に報告さ
れる。このデータをもとにアライナ2またはマスクスト
ッカ3はアライナ2に所。定のマスクがセットされる。As described above, the wafer loaded into the wafer loader 4 has its printed lot number read by the wafer league 5 and is reported to the aligner 2 or mask stocker 3. Based on this data, aligner 2 or mask stocker 3 is placed in aligner 2. A fixed mask is set.
このアライナ2に前記マスクがセットされる前にマスク
リーダ6でマスクに印字されたマスク名が確認され、マ
スクのセットが確実なものとなる。Before the mask is set in the aligner 2, the mask name printed on the mask is confirmed by the mask reader 6, thereby ensuring that the mask is set.
この発明は以上説明したとおり、写真製版に使用するマ
スクを管理するためのウェハーリーグとマスクリーダと
を備え、前記ウェハ−リーグによりシステム投入された
ウェハーの四ツ1一番号が読取られ、アライナまたはマ
スクストッカにセットすべきマスクが指示され、該指示
に基づき該マスクがアライナにセットされ、かつこのア
ライナにマスクがセットされる前にマスクリーダにより
マスクに印字されたマスク名が確認されるので、従来の
半導体製造装置のように、作業者によりシステム投入さ
れたウェハーのロット番号を確認する必要がなく、自動
的にアライナまたはマスクスI・ツカにマスク交換を指
示することができるという効果がある。As explained above, the present invention includes a wafer league and a mask reader for managing masks used in photolithography, and the wafer league reads the 4-1-1 numbers of wafers input into the system, and The mask to be set in the mask stocker is instructed, the mask is set in the aligner based on the instruction, and the mask name printed on the mask is confirmed by the mask reader before the mask is set in the aligner. Unlike conventional semiconductor manufacturing equipment, there is no need for the operator to confirm the lot number of the wafer input into the system, and there is an advantage that it is possible to automatically instruct the aligner or mask I/tuber to replace the mask.
第1図はこの発明の一実施例を示すブロック図、第2図
は他の実施例を示すブロック図、第3図は従来の半導体
製造装置を説明するためのブロック図である。
1:ウェハーリーグ、2ニジステムアライナ、3:マス
クストツカ、4:ウェハーアンローダ、5:ウェハーリ
ーグ、6:マスクリーグ、7:システムコントローラ。
なお、図中同一符号は同一または相当部分を示す。
代理人 弁理士 佐 藤 正 年
第1図
第2図
第3図FIG. 1 is a block diagram showing one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a block diagram showing another embodiment, and FIG. 3 is a block diagram for explaining a conventional semiconductor manufacturing apparatus. 1: wafer league, 2 system aligner, 3: mask stocker, 4: wafer unloader, 5: wafer league, 6: mask league, 7: system controller. Note that the same reference numerals in the figures indicate the same or corresponding parts. Agent: Patent Attorney Tadashi Sato Figure 1 Figure 2 Figure 3
Claims (1)
に使用する複数のマスクをストックするマスクストッカ
とを備えた集積回路を製造する半導体製造装置において
、該マスクを管理するためのウェハーロット番号読取り
装置とマスク読取り装置とを備え、前記ウェハーロット
番号読取り装置により、投入されたウェハーのロット番
号が読取られて写真製版装置またはマスクストッカにセ
ットすべきマスクが指示され、該指示に基づき該マスク
が写真製版装置にセットされ、かつこの写真製版装置に
マスクがセットされる前にマスク読取り装置でマスクに
印字されたマスク名が確認されるように構成したことを
特徴とする半導体製造装置。A wafer lot number reading device for managing the masks and a mask in a semiconductor manufacturing device for manufacturing integrated circuits, which includes a photolithography device for patterning a wafer and a mask stocker for stocking a plurality of masks used for photolithography. The wafer lot number reading device reads the lot number of the input wafer and indicates which mask to set in the photolithography apparatus or mask stocker, and the mask is placed in the photolithography apparatus based on the instruction. 1. A semiconductor manufacturing apparatus characterized in that the mask name printed on the mask is confirmed by a mask reader before the mask is set in the photolithography apparatus.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60262527A JPS62123717A (en) | 1985-11-25 | 1985-11-25 | Semiconductor manufacturing equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60262527A JPS62123717A (en) | 1985-11-25 | 1985-11-25 | Semiconductor manufacturing equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62123717A true JPS62123717A (en) | 1987-06-05 |
| JPH0461489B2 JPH0461489B2 (en) | 1992-10-01 |
Family
ID=17377033
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60262527A Granted JPS62123717A (en) | 1985-11-25 | 1985-11-25 | Semiconductor manufacturing equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62123717A (en) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5434777A (en) * | 1977-08-24 | 1979-03-14 | Hitachi Ltd | Mask aligner |
| JPS5742125A (en) * | 1980-08-27 | 1982-03-09 | Hitachi Ltd | Aligner |
| JPS582018A (en) * | 1981-06-26 | 1983-01-07 | Toshiba Corp | Manufacture of wafer and semiconductor device |
-
1985
- 1985-11-25 JP JP60262527A patent/JPS62123717A/en active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5434777A (en) * | 1977-08-24 | 1979-03-14 | Hitachi Ltd | Mask aligner |
| JPS5742125A (en) * | 1980-08-27 | 1982-03-09 | Hitachi Ltd | Aligner |
| JPS582018A (en) * | 1981-06-26 | 1983-01-07 | Toshiba Corp | Manufacture of wafer and semiconductor device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0461489B2 (en) | 1992-10-01 |
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