JPS62124698A - 超伝導記憶装置 - Google Patents

超伝導記憶装置

Info

Publication number
JPS62124698A
JPS62124698A JP60262515A JP26251585A JPS62124698A JP S62124698 A JPS62124698 A JP S62124698A JP 60262515 A JP60262515 A JP 60262515A JP 26251585 A JP26251585 A JP 26251585A JP S62124698 A JPS62124698 A JP S62124698A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic field
information
abrikosov
superconductor layer
josephson junction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP60262515A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0654597B2 (ja
Inventor
Masashi Mukoda
昌志 向田
Kazunori Miyahara
一紀 宮原
Koji Takaragawa
宝川 幸司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NTT Inc
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Telegraph and Telephone Corp filed Critical Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority to JP60262515A priority Critical patent/JPH0654597B2/ja
Priority to US06/808,424 priority patent/US4764898A/en
Priority to DE8585309088T priority patent/DE3582155D1/de
Priority to EP85309088A priority patent/EP0190503B1/en
Publication of JPS62124698A publication Critical patent/JPS62124698A/ja
Publication of JPH0654597B2 publication Critical patent/JPH0654597B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N60/00—Superconducting devices
    • H10N60/20—Permanent superconducting devices
    • H10N60/208—Permanent superconducting devices based on Abrikosov vortices
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N60/00—Superconducting devices
    • H10N60/10—Junction-based devices
    • H10N60/12—Josephson-effect devices

Landscapes

  • Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、情報をアブリコソフ磁束量子の形で超伝導体
内に記憶する超伝導記憶装置に関するものである。
〔従来の技術〕
アブリコソフ磁束量子を記憶情報として用いた装置は、
特公昭6−34194号公報やアブライドフィジンクス
レター誌(Applied Physics Lett
ers、Vol、39 No、12 Desember
 1981.pp、992〜993)に既に開示されて
いる。
第9図はアブリコソフ磁束量子記憶装置の従来例のひと
つを示す概略斜視図である。アブリコソフ磁束量子を保
持するための膜厚の薄い超伝導体膜51と、超伝導体膜
51の一部を下部電極とし超伝導体膜52を上部電極と
する磁束量子検出用ジョセフソン接合53と、超伝導体
膜51の端5近くに設けられた磁束量子書込線54と、
超伝導体膜51の端55を除く周辺を囲む超伝導体膜5
1よりも膜厚の厚い超伝導体膜51゛とで構成されてい
る。なお、Bは超伝導体膜51内に保持されているアブ
リコソフ磁束量子を概念的に表しているものである。
このアブリコソフ磁束量子記憶装置は、超伝導体膜51
内に保持されているアブリコソフ磁束量子の有無を記憶
状態のrlJ  rOJに対応させている。すなわち、
超伝導体膜51内にアブリコソフ磁束量子が保持される
と、その磁束量子がジョセフソン接合53に影響を与え
てジョセフソン接合53における闇値電流Ijを低下さ
せることを利用しており、闇値電流Ijの変化を記憶状
態のrlJ  rOJに対応させているのである。
情報の読み出しは、適当な値のバイアス電流1bをジョ
セフソン接合53に与えることにより行う。
すなわち、アブリコソフ磁束量子が超伝導体膜51内に
保持された場合の闇値電流Ijと保持されていない場合
のそれとの間の値を持つバイアス電流1bをジョセフソ
ン接合53に与えると、アブリコソフ磁束量子が保持さ
れていればジョセフソン接合53に電圧が発生(有電圧
状態)し、保持されていなければ電圧は零(零電圧状態
)となるのである。
〔発明が解決しようとする問題点〕
ところが、この従来のアプリコンブ磁束量子記憶装置は
、書き込みに非常に大きな問題点をもっていた。
記憶状態「1」の書き込みは、書込線54に所定の方向
の電流を流して磁界を発生させ、超伝導体膜51に端5
5から所定の向き(たとえば、上向き)のアブリコソフ
磁束量子を内部発生させることにより達成する。一方、
記憶状態「0」の書き込みは、そのときの記憶状態に応
じて異なる手順を用いて行わなければならない。すなわ
ち、書込前の記憶状態が11」であれば、書込線54に
逆向きの電流を流して下向きの磁束量子を超伝導体膜5
1に内部発生させ、上向きの磁束量子と対消滅させるこ
とによってアブリコソフ磁束量子数を零にする。また、
記憶状態が「0」であれば書込線54に何等電流を流さ
ないことによりそのままの状態を維持し、実質的に「0
」書き込みとする。
このように、従来のアブリコソフ磁束量子記憶装置では
、書き込み前にそのつど必ず記憶状態を読み出す必要が
あり、書き込みのアクセス時間を無用に長くし、この記
憶セルを用いて計算機を構成するとマシンサイクル時間
が長くなるという問題点があった。
また、記憶状態「1」からrOJ書き込みを行う場合に
、磁束量子を正確に対消滅させることは非常に困難であ
る。対消滅が不十分であれば上向きのアブリコソフ磁束
量子が一部残留してしまい、対消滅を過剰に行えば下向
きのアブリコソフ磁束量子が保持されてしまう。したが
って、アブリコソフ磁束量子を過不足なく対消滅させる
必要性から書込動作マージンが非常に狭くなり、安定動
作が困難であった。また、書込動作を繰り返し行ううち
に、完全対消滅し損なった残留アブリコソフ磁束量子が
徐々に蓄積していき、誤動作を生じるに至るという問題
点があった。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の超伝導記憶装置は上記問題点に鑑みてなされた
ものであり、磁場が印加されることによってアブリコソ
フ磁束量子を内部発生しそのアブリコソフ磁束量子を前
記磁場を取り除いた状態でも自己保持する超伝導体層を
有する情報記憶手段と、情報に対応している電流が通電
されることによって前記情報記憶手段の超伝導体層に与
える磁場を発生する超伝導体層を有する情報書込手段と
、前記情報記憶手段の超伝導体層に自己保持されている
アブリコソフ磁束量子のつくる磁場に感応する少なくと
もひとつ以上のジョセフソン接合素子および前記ジョセ
フソン接合素子におけるアブリコソフ磁束量子による磁
場と平行な成分を有する磁場を発生する制御線を有する
情報読出手段とを具備する超伝導記憶装置であって、前
記情報読出手段を構成するジョセフソン接合素子が前記
情報書込手段により作られる磁場とは鎖交しない場所に
配置されているものである。
〔作用〕
情報書込手段を構成する超伝導体層に与える電流の向き
によって情報記憶手段の超伝導体層に記憶情報の「0」
または「1」に対応する上向きまたは下向きのアブリコ
ソフ磁束量子が選択的に保持される。そして、制御線に
制御電流1csを与えると共にジョセフソン接合素子に
バイアス電流lsを与えると、アブリコソフ磁束量子の
向きに対応してジョセフソン接合素子が有電圧状態また
は零電圧状態のいずれかとなる。なお、制御線に制御電
流1csを与えると共にジョセフソン接合素子にバイア
ス電流Isを与えたときに、情報書込手段を構成する超
伝導体層に電流が流れていても、この電流により作られ
る磁場はジョセフソン接合素子の電圧状態になんら影響
を与えない。
〔実施例〕
以下、実施例と共に本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明の一実施例を示す平面配置図であり、第
2図はそのn−n断面図である。情報記憶手段1は、磁
場が印加されることによってアブリコソフ磁束量子αを
内部発生し、そのアブリコソフ磁束量子を該磁場が除去
された後も自己保持する超伝導体層2を情報記憶用要素
として有する。
超伝導体層2は例えば方形または長方形に形成されてお
り、相対する一対の辺をそれぞれ3aおよび3bとし、
また、相対する他の一対の辺をそれぞれ3cおよび3d
とする。なお、この超伝導体層2は第2種の超伝導体か
らなる。
情報書込手段11は、電流が通電されることによって、
情報記憶手段1の超伝導体層2に与える磁場を発生する
ストライプ状の超伝導体層12を情報書込用要素として
有する。この場合、超伝導体層12は情報記憶手段1の
超伝導体層2と並置するために、超伝導体層2の辺3C
に沿って延長している。
情報読出手段21は、情報記憶手段1の超伝導体層2が
自己保持しているアブリコソフ磁束量子に感応するジョ
セフソン接合素子22およびこのジョセフソン接合素子
22に所定の磁界を与える制御線34を情報読出用要素
として有する。ジョセフソン接合素子22は、下部電極
としての超伝導体層32と上部電極としての超伝導体層
26との間にトンネル障壁層25を介在させることによ
って構成されている。すなわち、情報記憶手段1の超伝
導体層2上に超伝導体層32が下部電極として形成され
、超伝導体層32上に窓23が穿設された絶縁層24が
形成され、超伝導体層32の窓23に臨む領域に例えば
超伝導体層32の材料の酸化物でなるトンネル障壁JW
25が形成され、さらに、絶縁層24上に窓23を覆う
ように超伝導体層26力月二部電極として形成されてい
る。また、トンネル障壁層25は後述する磁場不感領域
5の位置に配置されている。磁場不感領域5は第1図に
おいては一点鎖線で、第2図においてはX印で示してい
る。制御線34はストライプ状の超伝導体層からなり、
トンネル障壁層25の上方を横切るように、超伝導体層
26上に絶縁層33を介して形成されている。
つぎに、本実施例の動作を説明する。
情報の11」に対応する電流IAを情報書込手段11の
超伝導体層12に第1の方向に流すと、これに応じて超
伝導体層12から情報「1」に対応する磁場(第2図に
おいて、超伝導体層12を中心として反時計回りの磁場
)が発生し、その磁場が情報記憶手段1の超伝導体層2
に印加される。
このため、情報記憶手段1の超伝導体層2の辺30部に
情報「1」に対応するアブリコソフ磁束量子αが第1の
向き(上向き「↑」)に内部発生する。そして、磁場の
印加を続けると、アブリコソフ磁束量子が辺30部にお
いて次々と発生し、先に内部発生したアブリコソフ磁束
量子を互いに働く斥力により情報読出手段21側に押し
込んでゆく。
情報読出手段21側に移動してきたアブリコソフ磁束量
子はジョセフソン接合素子22の下部電極である比較的
厚い超伝導体層32の存在によりそれ以上の移動が妨げ
られる。このようにして、情報記憶手段1にアブリコソ
フ磁束量子が侵入し′  ていき、ある程度以上のアブ
リコソフ磁束量子が侵入してしまうと、こんどはアブリ
コソフ磁束量子の互いの斥力により侵入が困難となり飽
和状態となる。このアブリコソフ磁束量子は、電流IA
が除かれたときには、超伝導体層2のピン止め力(アブ
リコソフ磁束量子を捕獲する力)により自己保持される
。
つぎに、情報の10」に対応する電流IBを、情報書込
手段11の超伝導体層12に、上述した電流IAとは逆
の第2の方向に流すと超伝導体層12から上述の情fl
rlJに対応する磁場とは逆向きの磁場が発生し、この
磁場によって情報記憶手段1の超伝導体層2に、情報「
0」に対応するアブリコソフ磁束量子が情報「1」に対
応するアブリコソフ磁束量子とは逆の第2の向き(下向
き「↓」)に内部発生する。この内部発生した情報「0
」に対応するアブリコソフ磁束量子は前述した上向きの
アブリコソフ磁束量子と同様に侵入していき、既に自己
保持されている情報「1」に対応する上向きのアブリコ
ソフ磁束量子と結合して対消滅する。そしてさらに、情
報「0」に対応するアブリコソフ磁束量子が侵入するこ
とによって最終的には情報「0」に対応するアブリコソ
フ磁束量子のみが情報記憶手段1の超伝導体層2に残留
し保持される。これが情報「0」の保持状態である。
つぎに、情報の読み出しについて説明する。記憶状態の
検出は、制御電流1csを情報読出手段21の超伝導体
層34に流すと共に、所定のバイアス電流Isを情報読
出手段21のジョセフソン接合素子22に超伝導体層2
6とトンネル障壁層25と超伝導体層32を通じて流す
ことにより行う。第3図はジョセフソン接合素子22の
闇値特性を示す図であり、横軸は制御線34に流す制御
電流値、縦軸はジョセフソン接合素子22に流すバイア
ス電流値である。同図において、破線7はアブリコソフ
磁束量子が情報記憶手段1に保持されていないときの闇
値特性曲線、実線8は「0」状態に相当するアブリコソ
フ磁束量子が保持されているときの闇値特性曲線、実線
9は「1」状態に相当するアブリコソフ磁束量子が保持
されているときの闇値特性曲線である。このように、記
憶状態によって闇値特性が横軸に沿って遷移するのは、
情報記憶手段1の超伝導体層2に保持されたアブリコソ
フ磁束量子が作る磁界の影響によるものである。
いま、ジョセフソン接合素子22にバイアス電流Isを
流すと共に、制御線34に第1の方向に制御電流Ics
を流すことによって動作点をAの位置に移動させること
ができる。同図から、「0」状態であれば動作点Aが闇
値特性曲線8の内側にあるためジョセフソン接合素子2
2は零電圧状態が維持され、「1」状態であれば動作点
Aは闇値特性曲線9の外側に出てしまうことから有電圧
状態に転移することが判る。この現象は、「0」状態の
ときには下向きのアブリコソフ磁束量子が作る磁界と制
御電流Icsが作る磁界とがトンネル障壁層25部にお
いて互いに打ち消しあい、「1」状態にあるときには上
向きのアブリコソフ磁束量子の磁界と制御電流1csO
:)磁界とが相互に加わることにより生じる。このよう
な作用によって、所定のバイアス電流Isと制御電流1
csとを同時に流したときのジョセフソン接合素子22
の電圧状態により記憶状態が「1」であるか「0」であ
るかを読み出すことができる。
つぎに、磁場不感領域5について説明する。
第4図ないし第6図は超伝導体と磁場との関係を示した
ものであり、Mは紙面垂直方向に広がる超伝導体層、c
Lは超伝導体層Mの法線方向の中心線である。第4図は
、紙面上方から一様磁場Hが超伝導体層Mに印加されて
いる時の磁力線を表したものである。電磁見学のマック
スウェル方程式を解けば明らかなように、印加された磁
場Hは超伝導体特有のマイスナー効果により中心線CL
を境にして超伝導体層M上で左右に分かれる。すなわち
、一様磁場の場合は中心線cLと超伝導体層Mが交差す
るところから右側では右向きの磁場成分があり、左側で
は左向きの磁場成分があり、中央部では平行磁場が向き
を変え、中央部近傍では磁場は極めて小となる。この平
行磁場が極めて微小となる領域を磁場不感領域5とする
。第5図および第6図は超伝導体NMの近傍に紙面垂直
方向に延びる電流線Nを配置し、この電流線Nに電流を
流して磁場を発生させた場合の磁力線を表しており、第
5図は電流線Nが超伝導体層Mと同一平面上にある場合
、第6図は同一平面上にない場合を示している。この場
合も磁場不感領域5の位置は電磁気宇のマンクスウェル
方程式の計算、または有限要素法などのシミュレーショ
ンで容易に決定できる。第5図の場合は超伝導体層Mの
中心線よりわずかに電流線Nに近づいたところが磁場不
感領域5となる。また、第6図においては、超伝導体層
Mの法線方向をZ軸とし上方を正方向とすれば、磁場不
感領域5は、正方向側の表面(図における上側の表面)
では超伝導体層Mの中心よりも大きく電流線Nから離れ
た所となり、負方向側表面(図における下側の表面)で
は超伝導体層Mの中心よりも大きく電流線Nに近づいた
所となる。このように、超伝導体を磁場の中においたと
きには磁場不感領域5が存在することなる。
本実施例(第1図および第2図)では、第7図に示すよ
うに、情報書込時において情報記憶手段1および情報読
出手段21が情報書込手段11により作られる磁場の中
に置かれることになるが、情報読出手段21のジョセフ
ソン接合素子22のトンネル障壁層25が該磁場に対す
る磁場不感領域5に配置されているため、書込電流によ
る読出動作に対する悪影響を防止できる。すなわち、ジ
ョセフソン接合素子22に加わる磁場は蓄積されたアブ
リコソフ磁束量子による磁場のみとなり、書込動作直後
の書込電流による磁場が残留しているようなときでも、
直ちに読出動作が可能である。
もちろん、書込動作終了前に読出動作を行っても書込電
流が作る磁場の影響は全くうけないので、読出の誤動作
は生じない。したがって、書込・読出を行う際に時間的
余裕を持たせる必要がなく、動作速度を早めることがで
きる。また、書込・読出動作時間の重なりを防止するた
めの複雑なタイミング回路が不要となる。
さらに、情報書込手段11の書込線を2本用い、2本の
書込線双方に電流が供給されたときのみ十分な情報書込
磁界が生じるように構成してマトリクスメモリセルとす
る場合が考えられるが、本実施例によれば半選択状態(
一方の書込線のみが通電されている状態)においても読
出動作を行うことができ、メモリのサイクルタイムを短
くすることができる。すなわち、半選択状態時にば情報
読出手段21に磁場が与えられるが、情報読出手段21
のジョセフソン接合素子22のトンネル障壁層25が書
込磁場に対する磁場不感領域5に配置されているため、
半選択状態でも書込電流による読取誤動作は生じない。
なお、本実施例ではトンネル障壁層25の中心と磁場不
感領域5とを完全に一致させているが、磁場不感領域5
は必ずしもトンネル障壁層25の中心でな(ともよい。
また、水平成分の磁場不感領域5が適当な位置に得られ
ない場合は、ジョセフソン接合素子22として、垂直方
向に接合部が形成されているいわゆるエツジジャンクシ
ョンを用いれば、上記実施例と同様に情報書込手段によ
り作られる磁場と鎖交しない位置にジョセフソン接合素
子22を配置できる。
また、上記の実施例ではジョセフソン接合素子として第
8図(A)の概念図に示すように単一のトンネル障壁層
25を持つものを用いているが、同図(B)に示すよう
にトンネル障壁層を2つ持ついわゆるスクイド(SQI
JI[l)形のものを用いてもよい。同図において26
.26″は上部電極、25.25’はトンネル障壁層、
32.32’は下部電極であり、スクイド形を用いる場
合にはアブリコソフ磁束量子による磁束(破線矢印)が
中央の空間を横切るように構成することにより、闇値特
性を変化させることができる。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明の超伝導記憶装置によれば、
情報書込手段を構成する超伝導体層に与える電流の向き
によって情報記憶手段の超伝導体層に記憶情報の「1」
または「0」に対応する上向きまたは下向きのアブリコ
ソフ磁束量子を選択的に保持させるものであり、上向き
のアブリコソフ磁束量子を保持する場合であっても下向
きのアブリコソフ磁束量子を保持する場合であっても書
込前の記憶状態のアブリコソフ磁束量子を対消滅させた
うえでさらに飽和状態となるまで書き込むので、アブリ
コソフ磁束量子の有無を情報要素とする従来のアブリコ
ソフ磁束量子記憶装置のように書込時に記憶内容をその
つど確認したうえで磁束量子を過不足なく正確に対消滅
させることは不要である。したがって、書込操作が簡単
となるばかりでなく、書込動作マージンを広くとること
ができる。そのうえ、残留するアブリコソフ磁束量子の
蓄積による誤動作もない。
さらに、前記情報読出手段を構成するジョセフソン接合
素子が情報書込手段により作られる磁場とは鎖交しない
場所に配置されているので、情報書込手段を構成する超
伝導体層に電流が流れていても、この電流により作られ
る磁場はジョセフソン接合素子の電圧状態になんら影響
を与えない。
そのため、読取動作と書込動作とを重ねて行うことがで
き、メモリのサイクルタイムの短縮化すなわち高速動作
化ができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す平面配置図、第2図は
その■−■断面図、第3図はジョセフソン接合素子22
の闇値特性を示す図、第4図ないし第6図はそれぞれ超
伝導体と磁場との関係を示した断面図、第7図は第2図
に示した本実施例装置と書込磁場との関係を示した断面
図、第8図はジョセフソン接合素子の概念を示す斜視図
、第9図は従来のアブリコソフ磁束量子記憶装置を示す
斜視図である。 ■・・・情報記憶手段、2・・・超伝導体層、5・・・
磁場不感領域、11・・・情報書込手段、21・・・情
報読出手段、22・・・ジョセフソン接合素子、34・
・・制御線。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 磁場が印加されることによってアブリコソフ磁束量子を
    内部発生しそのアブリコソフ磁束量子を前記磁場を取り
    除いた状態でも自己保持する超伝導体層を有する情報記
    憶手段と、情報に対応している電流が通電されることに
    よって前記情報記憶手段の超伝導体層に与える磁場を発
    生する超伝導体層を有する情報書込手段と、前記情報記
    憶手段の超伝導体層に自己保持されているアブリコソフ
    磁束量子のつくる磁場に感応する少なくともひとつ以上
    のジョセフソン接合素子および前記ジョセフソン接合素
    子におけるアブリコソフ磁束量子による磁場に平行な成
    分を有する磁場を発生する制御線を有する情報読出手段
    とを具備する超伝導記憶装置であって、前記情報読出手
    段を構成するジョセフソン接合素子が前記情報書込手段
    により作られる磁場とは鎖交しない場所に配置されてい
    ることを特徴とする超伝導記憶装置。
JP60262515A 1984-12-13 1985-11-25 超伝導記憶装置 Expired - Fee Related JPH0654597B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60262515A JPH0654597B2 (ja) 1985-11-25 1985-11-25 超伝導記憶装置
US06/808,424 US4764898A (en) 1984-12-13 1985-12-12 Vortex memory device
DE8585309088T DE3582155D1 (de) 1984-12-13 1985-12-13 Supraleitende speicheranordnung.
EP85309088A EP0190503B1 (en) 1984-12-13 1985-12-13 Superconducting memory device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60262515A JPH0654597B2 (ja) 1985-11-25 1985-11-25 超伝導記憶装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62124698A true JPS62124698A (ja) 1987-06-05
JPH0654597B2 JPH0654597B2 (ja) 1994-07-20

Family

ID=17376871

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60262515A Expired - Fee Related JPH0654597B2 (ja) 1984-12-13 1985-11-25 超伝導記憶装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0654597B2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0654597B2 (ja) 1994-07-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7859881B2 (en) Magnetic memory device and write/read method of the same
US6510080B1 (en) Three terminal magnetic random access memory
US6833278B2 (en) Low remanence flux concentrator for MRAM devices
US4791604A (en) Sheet random access memory
US8164940B2 (en) Read/write structures for a three dimensional memory
CN110061127A (zh) 磁隧道结的形成方法及磁阻式随机存储器
US3626391A (en) Josephson tunneling memory array including drive decoders therefor
US3909810A (en) Bubble memory minor loop redundancy scheme
US3705393A (en) Superconducting memory array using weak links
US20240339417A1 (en) Magnetic shielding for magneto resistive memory
US7154773B2 (en) MRAM cell with domain wall switching and field select
EP0190503B1 (en) Superconducting memory device
JPS5935117B2 (ja) 超伝導2安定デバイス
US6233171B1 (en) Superconducting magnetoresistive memory element using controlled exchange interaction
JPH0654597B2 (ja) 超伝導記憶装置
JPS62124696A (ja) 超伝導記憶装置
JPS62124697A (ja) 超伝導記憶装置
JPS62119792A (ja) 超伝導記憶装置
JPH0642314B2 (ja) 超伝導記憶装置における情報書込方法
US6944053B2 (en) Magnetic memory with structure providing reduced coercivity
US3164808A (en) Superconductive information handling arrangement
CN120379516B (zh) 磁性随机存储单元、存储器及数据写入方法
JPH0642316B2 (ja) 超伝導記憶装置
JPH067438B2 (ja) 超伝導記憶装置
IT201900013542A1 (it) Dispositivo per memorizzare e processare dati e relativo metodo

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees