JPS62125539A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS62125539A JPS62125539A JP26509185A JP26509185A JPS62125539A JP S62125539 A JPS62125539 A JP S62125539A JP 26509185 A JP26509185 A JP 26509185A JP 26509185 A JP26509185 A JP 26509185A JP S62125539 A JPS62125539 A JP S62125539A
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- Japan
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- recording medium
- magnetic recording
- magnetic
- synthetic resin
- resin sheet
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業分野
本発明はフロッピーディスクに供する磁気記録媒体の製
造方法に係り、殊に基盤となる合成樹脂シートが等方性
であって磁気記録媒体としてもモジュレーションが少な
いフロッピーディスクに適するものを製造する技術に関
する。
造方法に係り、殊に基盤となる合成樹脂シートが等方性
であって磁気記録媒体としてもモジュレーションが少な
いフロッピーディスクに適するものを製造する技術に関
する。
フロッピーディスクはフレキシブルな合成樹脂シートを
基盤とし、これに磁性材料とバインダーとからなる磁性
層を設けたものである。70ツビーデイスクは記録情報
の入力及び出力の正確さを要求されるため、トラツクエ
周における出力電圧の変動の少ないもの、換言すればモ
ジュレーションの良いもの、等方性のものが好ましい。
基盤とし、これに磁性材料とバインダーとからなる磁性
層を設けたものである。70ツビーデイスクは記録情報
の入力及び出力の正確さを要求されるため、トラツクエ
周における出力電圧の変動の少ないもの、換言すればモ
ジュレーションの良いもの、等方性のものが好ましい。
このモジュレーションは磁気記録媒体を製造する過程で
磁性層の磁気材料の磁化容易軸なうンダマイザーを用い
て等力比することによって達成される(特開昭60−1
93137号公報)。
磁性層の磁気材料の磁化容易軸なうンダマイザーを用い
て等力比することによって達成される(特開昭60−1
93137号公報)。
しかしながら、モンユレーショ〕/は基盤の歪等に起因
するものもあり、この場合には未固化状態の磁性層をラ
ンダマイザー1′〔tり無配同化しても効果は薄い。基
盤に起因するモジュレーションは、フロッピーディスク
を温湿罠の変化を伴う雰囲気や高温度又は低温の雰囲気
下で使用する堝今に問題となる。この理由は合成、樹脂
シートは一般に温度や湿度の変化に伴う寸法変化(伸縮
)があり、しかもこの寸法変化率は等方的に起るもので
はない。従って基盤自体にも温度・湿度の膨張率の異方
性があってモジュレーションを悪化させる原因となって
いる。
するものもあり、この場合には未固化状態の磁性層をラ
ンダマイザー1′〔tり無配同化しても効果は薄い。基
盤に起因するモジュレーションは、フロッピーディスク
を温湿罠の変化を伴う雰囲気や高温度又は低温の雰囲気
下で使用する堝今に問題となる。この理由は合成、樹脂
シートは一般に温度や湿度の変化に伴う寸法変化(伸縮
)があり、しかもこの寸法変化率は等方的に起るもので
はない。従って基盤自体にも温度・湿度の膨張率の異方
性があってモジュレーションを悪化させる原因となって
いる。
ところで、上記の原因に加えて、フレキシブルディスク
の使用条件を拡げようとする要請がある。従来では上限
使用温度は51.5℃であったが、これを60℃程度に
も耐えられるような寸法安定性、電磁変換特性を備えた
ものを開発することが要望さtlている。このような使
用条件の拡大は高度の寸法安定性が要求されるが、更K
、磁気記録材料として情報密度を高めるために単位当り
のトラック数や情報1を増加させることも要求され、基
盤や記録媒体の寸法変化の許容できる範囲が著しく小さ
くなり精密化されつつある。
の使用条件を拡げようとする要請がある。従来では上限
使用温度は51.5℃であったが、これを60℃程度に
も耐えられるような寸法安定性、電磁変換特性を備えた
ものを開発することが要望さtlている。このような使
用条件の拡大は高度の寸法安定性が要求されるが、更K
、磁気記録材料として情報密度を高めるために単位当り
のトラック数や情報1を増加させることも要求され、基
盤や記録媒体の寸法変化の許容できる範囲が著しく小さ
くなり精密化されつつある。
そこで、熱収縮率や寸法変化の少ない磁気記録媒体を得
るために基盤又は日記録媒体を裁断して複数枚を重ね合
せた状態で加熱処理する方法(特開昭59−12723
3号公報)が提案されている。この磁気記録媒体の加熱
処理は全く無緊張下で施される点で理想的であるものの
、連続的に磁性層を形成したウェブを処理できないため
作業性や生産効率が低いという別な問題がある。
るために基盤又は日記録媒体を裁断して複数枚を重ね合
せた状態で加熱処理する方法(特開昭59−12723
3号公報)が提案されている。この磁気記録媒体の加熱
処理は全く無緊張下で施される点で理想的であるものの
、連続的に磁性層を形成したウェブを処理できないため
作業性や生産効率が低いという別な問題がある。
本発明者は、長尺のウェブを連続的に加熱処理して寸法
安定性を高める場合に、基盤となる合成樹脂シートとし
て特定の物性のものを選択し、かつ加熱処理の隙加熱温
度、加熱時間を適切な条件とすれば、長尺のウェブの処
理におい無緊張条件を選択することなく目的を達成でき
ることを知見し、本発明を達成したものである。
安定性を高める場合に、基盤となる合成樹脂シートとし
て特定の物性のものを選択し、かつ加熱処理の隙加熱温
度、加熱時間を適切な条件とすれば、長尺のウェブの処
理におい無緊張条件を選択することなく目的を達成でき
ることを知見し、本発明を達成したものである。
本発明はフンキシプルディスクに供し得る磁気記録媒体
であって、殊に平面性とモジュレーションの良好なもの
を得ることを技術課題とするものである。また、磁気記
録媒体の基盤が熱安定性(fFに60℃程度の高湿度雰
囲気下における寸法安定性)に優れているものを製造す
ることを技術課題とするものである。
であって、殊に平面性とモジュレーションの良好なもの
を得ることを技術課題とするものである。また、磁気記
録媒体の基盤が熱安定性(fFに60℃程度の高湿度雰
囲気下における寸法安定性)に優れているものを製造す
ることを技術課題とするものである。
発明の構成
本発明は、150℃、3tJ分間の放置条件の乾熱収縮
率が3チ以下である合成樹脂シートを基盤とし、この基
盤に磁性材料を含む磁性塗料を塗布し、次いで、磁性塗
料を乾燥し、形成された磁性層の表面を平滑にすべくカ
レンダーにより表面平滑化処理を施して、基盤上に平滑
な表面をもつ磁性層の形成された磁気記録媒体となし、
この磁気記録媒体をp−ル状に巻上げるまでの工程で加
熱エージング処理を施す製造・加工方法である。本発明
における加熱エージング処理は、上述の磁性塗料の塗布
工程、磁性塗料の乾燥工程、磁性層表面のカレンダー仕
上工程のいずれかの間が、カレンダー仕上工程からシー
ト状の磁気記録媒体を芯管等にロール状に巻取るまでの
間K、設けるものである。そして本発明における加熱エ
ージング処理条件は、基盤又は磁性塗料(磁気層)が形
成された磁気記録媒体を4〜roky/crdの張力下
忙おいて、A℃乃至140℃の温度に少くとも0.5秒
間にわたり施すものである。(ここK、下限温度A℃は
基盤の150℃、30分間の乾熱収縮率がSチであると
き A=2υ×S+65 で求められるものであ
る。) 本発明を説明する150℃の乾燥空気下において30分
間放置したときの収縮率が8%である合成樹脂シートで
あって、S≦3(3条以下)のものがフレキシブルディ
スクの基盤として適する。乾熱収縮率が3%を超えると
、磁性塗料の乾燥工程で塗膜表面に皺が発生するため好
ましくない。従って乾熱収縮率が3チ以下の合成樹脂シ
ートが選ばれる必要がある。
率が3チ以下である合成樹脂シートを基盤とし、この基
盤に磁性材料を含む磁性塗料を塗布し、次いで、磁性塗
料を乾燥し、形成された磁性層の表面を平滑にすべくカ
レンダーにより表面平滑化処理を施して、基盤上に平滑
な表面をもつ磁性層の形成された磁気記録媒体となし、
この磁気記録媒体をp−ル状に巻上げるまでの工程で加
熱エージング処理を施す製造・加工方法である。本発明
における加熱エージング処理は、上述の磁性塗料の塗布
工程、磁性塗料の乾燥工程、磁性層表面のカレンダー仕
上工程のいずれかの間が、カレンダー仕上工程からシー
ト状の磁気記録媒体を芯管等にロール状に巻取るまでの
間K、設けるものである。そして本発明における加熱エ
ージング処理条件は、基盤又は磁性塗料(磁気層)が形
成された磁気記録媒体を4〜roky/crdの張力下
忙おいて、A℃乃至140℃の温度に少くとも0.5秒
間にわたり施すものである。(ここK、下限温度A℃は
基盤の150℃、30分間の乾熱収縮率がSチであると
き A=2υ×S+65 で求められるものであ
る。) 本発明を説明する150℃の乾燥空気下において30分
間放置したときの収縮率が8%である合成樹脂シートで
あって、S≦3(3条以下)のものがフレキシブルディ
スクの基盤として適する。乾熱収縮率が3%を超えると
、磁性塗料の乾燥工程で塗膜表面に皺が発生するため好
ましくない。従って乾熱収縮率が3チ以下の合成樹脂シ
ートが選ばれる必要がある。
本発明の基盤に供する合成樹脂シートは30〜250μ
m(好ましくは45〜150μm)の厚さであって平坦
かつ弐面歪みがないものであれば、合成樹脂素材が何で
あるかを問わない。もつトモ、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリ7リレート、芳香族ポリアミド、ポ゛リフエ
ニレンスルフイド等の耐熱性の優れたものが基盤用素材
として好適であることは云うまでもない。
m(好ましくは45〜150μm)の厚さであって平坦
かつ弐面歪みがないものであれば、合成樹脂素材が何で
あるかを問わない。もつトモ、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリ7リレート、芳香族ポリアミド、ポ゛リフエ
ニレンスルフイド等の耐熱性の優れたものが基盤用素材
として好適であることは云うまでもない。
本発明に供する基盤は、上記の素材を公知の方法により
二軸延伸してシートとしたものが使用できる。基盤は延
伸された方向(機械方向及び曙方向)においても延伸方
向と異る方向においても、熱収縮率がはy等しいもので
あることが好ましい。このような状態のシートは、広い
幅のもののはy中央部分の位置に相当する部分をスリッ
トして採取したものが、或は比較的高い温度において弛
緩熱処理を施したものが乾熱収縮率が小さくかつ等方性
の点でも優れている。
二軸延伸してシートとしたものが使用できる。基盤は延
伸された方向(機械方向及び曙方向)においても延伸方
向と異る方向においても、熱収縮率がはy等しいもので
あることが好ましい。このような状態のシートは、広い
幅のもののはy中央部分の位置に相当する部分をスリッ
トして採取したものが、或は比較的高い温度において弛
緩熱処理を施したものが乾熱収縮率が小さくかつ等方性
の点でも優れている。
基盤に塗布する磁気材料を含む塗料は公知のものが使用
できる。例えば、γ−Feρ3 の粉末。
できる。例えば、γ−Feρ3 の粉末。
セルロースアセテートブチレート、エポキシ樹脂、レシ
チン、シリコーン油等をメチルインブチルケトン、トル
エン等の溶媒で溶解・分散せしめたものが適用できる。
チン、シリコーン油等をメチルインブチルケトン、トル
エン等の溶媒で溶解・分散せしめたものが適用できる。
磁性塗料の乾燥も公知の手段9条件が適用できる。また
磁性層が平滑化するよ5に施すカレンダー処理も公知の
手段、公知の処理条件を適用することができる。
磁性層が平滑化するよ5に施すカレンダー処理も公知の
手段、公知の処理条件を適用することができる。
磁性層が形成さした磁気記録媒体の巻取も公知の巻取設
備がそのま〜使用できる。
備がそのま〜使用できる。
本発明における加熱エージングは、磁性塗料を塗布する
前の基盤に施すことも可能であるが乾燥工程を経て磁性
層が形成された後の状態の磁気記録媒体、又はカレンダ
ー仕上を経た後にお(・て実施することが望ましい。加
熱エージングは長尺のま〜、しかも4〜10kg/cn
の張力を長手方向に加えた状態で施すことができる。
前の基盤に施すことも可能であるが乾燥工程を経て磁性
層が形成された後の状態の磁気記録媒体、又はカレンダ
ー仕上を経た後にお(・て実施することが望ましい。加
熱エージングは長尺のま〜、しかも4〜10kg/cn
の張力を長手方向に加えた状態で施すことができる。
張力が過大となり10kg/cm2を超えると、磁気記
録媒体に寸法安定性を付与できなくなり、また張力が低
過ぎると操業中に磁気記録媒体ウェブが蛇行して生産性
が低下するばかりでなく。
録媒体に寸法安定性を付与できなくなり、また張力が低
過ぎると操業中に磁気記録媒体ウェブが蛇行して生産性
が低下するばかりでなく。
ウェブとしての平面性が低下して歪をもたらすこととな
る。加熱エージングにおい【は加熱温度がA−140℃
でなければならない。140℃を超える温度でエージン
グ処理すると、ウェブに「波うち」 (平面性の低下、
操業中の上下動に起因)やスクラッチ(操業中のゴミ等
の付着に伴う塗膜のキズ)が発生することから過加熱を
避ける必要がある。また、加熱温度の下限が低過ぎると
、モジュレーションを10′%以内とし、60℃、80
%RHにおける寸法変化を低く (0,02φ以下)抑
えることができなくなる。(実施例4.実験符号45〜
47参照)本発明では基盤となる合成樹脂シートの収縮
率(150℃乾熱)に応じて熱処理温度の下限を調整(
収縮率の高いものほど下限温度が高くなる)する必要が
ある。本発明における加熱エージングでは幅方向は拘束
しなくてよいが(このため60℃、180%RHにおけ
る寸法変化は略0%となる)、長手方向の寸法変化を抑
えるには少くとも0.5秒間の熱処理を要する。勿論加
熱エージング炉を長(し、(ウェブ走行区間を長くする
こと)、熱処理時間をlO〜200秒程度とすれば、寸
法変化は一層改良できる。
る。加熱エージングにおい【は加熱温度がA−140℃
でなければならない。140℃を超える温度でエージン
グ処理すると、ウェブに「波うち」 (平面性の低下、
操業中の上下動に起因)やスクラッチ(操業中のゴミ等
の付着に伴う塗膜のキズ)が発生することから過加熱を
避ける必要がある。また、加熱温度の下限が低過ぎると
、モジュレーションを10′%以内とし、60℃、80
%RHにおける寸法変化を低く (0,02φ以下)抑
えることができなくなる。(実施例4.実験符号45〜
47参照)本発明では基盤となる合成樹脂シートの収縮
率(150℃乾熱)に応じて熱処理温度の下限を調整(
収縮率の高いものほど下限温度が高くなる)する必要が
ある。本発明における加熱エージングでは幅方向は拘束
しなくてよいが(このため60℃、180%RHにおけ
る寸法変化は略0%となる)、長手方向の寸法変化を抑
えるには少くとも0.5秒間の熱処理を要する。勿論加
熱エージング炉を長(し、(ウェブ走行区間を長くする
こと)、熱処理時間をlO〜200秒程度とすれば、寸
法変化は一層改良できる。
発明の効果
本発明の加熱コージング処理によって、磁気記録媒体は
JIS、C6291で定義されるモジュレーションが最
外周トラックにおいてto%以下となり、轡力斑の少な
い電磁変換特性の良好なフロッピーディスクが得られる
。
JIS、C6291で定義されるモジュレーションが最
外周トラックにおいてto%以下となり、轡力斑の少な
い電磁変換特性の良好なフロッピーディスクが得られる
。
更)ζ、室温(20℃、65%RH)から急激に60℃
、80%RHの雰囲気に移したとき。
、80%RHの雰囲気に移したとき。
又はこの’kf’F−(60℃、80チRH)に72時
間放置したときの寸法変化が0.02%以下であり、フ
ロッピーディスクとしてトランクずれのないものが得ら
れる。従って、本発明の磁気記録媒体は、高品位であり
高密度記録が可能であると共に高温・高湿の雰囲気下で
使用可能なものである。
間放置したときの寸法変化が0.02%以下であり、フ
ロッピーディスクとしてトランクずれのないものが得ら
れる。従って、本発明の磁気記録媒体は、高品位であり
高密度記録が可能であると共に高温・高湿の雰囲気下で
使用可能なものである。
実施例り
固有粘度(製膜後O−クロロフェノールにて測定) カ
(1,59である未延伸ポリエチレンテレフタレートフ
ィルムを90℃にて機械方向に3.6倍延伸し、引続い
て幅方向に105℃において3.7倍延伸し、更に22
0℃において熱固定を施して、厚さ75μm、150℃
における乾熱収縮率(30分間放置して測定)が長手方
向2.0チ9幅方向o、o %である二軸延伸フイルー
ムを得た。この二軸延伸フィルムを基盤とし、次の組成
の磁性塗料を固形分で37! / rrjとなるように
塗布し、120℃にて乾燥後、引続いて80℃。
(1,59である未延伸ポリエチレンテレフタレートフ
ィルムを90℃にて機械方向に3.6倍延伸し、引続い
て幅方向に105℃において3.7倍延伸し、更に22
0℃において熱固定を施して、厚さ75μm、150℃
における乾熱収縮率(30分間放置して測定)が長手方
向2.0チ9幅方向o、o %である二軸延伸フイルー
ムを得た。この二軸延伸フィルムを基盤とし、次の組成
の磁性塗料を固形分で37! / rrjとなるように
塗布し、120℃にて乾燥後、引続いて80℃。
3ookg/cm(線圧)にてカレンダー処理を施し1
巻取り前に加熱エージング処理を条件を変えて実施した
。
巻取り前に加熱エージング処理を条件を変えて実施した
。
磁性塗料の組成
Fe−Co1タル磁性粉 toas
t部塩ビ・酢ビ共重合体樹脂 lO
〃(ユニオンカーバイト社梨VAGH ウレタン樹脂(グッドリンチ社製 17〃ニス
チン5701 ) 硬化剤(バイエル社製 lO重量部
デスモジュールL−75) 酢酸ブチル 140〃メチ
ルエチルケトン 200Iエージン
グの処理時間はいずれも1秒間とし機械方向におけるウ
ェブ張力、加熱温度は第1表に示した通りであった。得
られたツーテッドウェブ(磁気記録媒体)をディスク(
5,25インチ)状に打抜き、そのとき及び60℃、8
0%R1(の雰囲気に3日間放置した後のフロッピーデ
ィスクのモジュレーションを同表に併記した。同表から
明らかなように打抜き直後のフロッピーディスクは、高
温・高湿下に放置されてもモジュレーションは2%と不
変であって、寸法変化がなく、良質のものが得られた。
t部塩ビ・酢ビ共重合体樹脂 lO
〃(ユニオンカーバイト社梨VAGH ウレタン樹脂(グッドリンチ社製 17〃ニス
チン5701 ) 硬化剤(バイエル社製 lO重量部
デスモジュールL−75) 酢酸ブチル 140〃メチ
ルエチルケトン 200Iエージン
グの処理時間はいずれも1秒間とし機械方向におけるウ
ェブ張力、加熱温度は第1表に示した通りであった。得
られたツーテッドウェブ(磁気記録媒体)をディスク(
5,25インチ)状に打抜き、そのとき及び60℃、8
0%R1(の雰囲気に3日間放置した後のフロッピーデ
ィスクのモジュレーションを同表に併記した。同表から
明らかなように打抜き直後のフロッピーディスクは、高
温・高湿下に放置されてもモジュレーションは2%と不
変であって、寸法変化がなく、良質のものが得られた。
実施例2
二軸罵伸条件を実施例五と同一とし、140℃で弛緩熱
処理を施した厚さ75μmのポリエチレンテレフタレー
トフィルムは150℃における乾熱収縮率が機械方向1
.0%9幅方向−0,3%(0,3%伸長)であった。
処理を施した厚さ75μmのポリエチレンテレフタレー
トフィルムは150℃における乾熱収縮率が機械方向1
.0%9幅方向−0,3%(0,3%伸長)であった。
このフィルムを基盤として実施例1の磁性塗料を同一条
件で塗布し、90℃において乾燥せしめ、引続いて加熱
エージングを張力6.0に9/ca+温度90℃にて実
施した。得られたツーテッドウェブを5.25インチの
フロッピーディスクに打抜き成型し、モジュレーション
を測定したところ2チであった。このフロッピーディス
クは60℃、80%RHの雰囲気下に72時間放置した
後もモジュレーションは変化しなかった。
件で塗布し、90℃において乾燥せしめ、引続いて加熱
エージングを張力6.0に9/ca+温度90℃にて実
施した。得られたツーテッドウェブを5.25インチの
フロッピーディスクに打抜き成型し、モジュレーション
を測定したところ2チであった。このフロッピーディス
クは60℃、80%RHの雰囲気下に72時間放置した
後もモジュレーションは変化しなかった。
比較例り
実施例IKおける加熱エージング条件を張力20.0
kg/iとして80℃で2秒間節したところ、外観に格
別差異のないツーテッドウェブが得られた。このウェブ
を打抜いて5.25インチのディスクとしてモジュレー
ショ/を測定したところ出力は2チ変動に過ぎなかった
。ところが、60℃、8096RHの雰囲気下に72時
間放置したものではモジュレーションがl1条と増加し
て(・ることか判明した。これは加熱エージング時に歪
が除去できなかったか或は歪が増幅されたためで、高温
高湿の雰囲気によって基盤又は磁性層が変形乃至電磁的
な変形を生じたものと思われる。
kg/iとして80℃で2秒間節したところ、外観に格
別差異のないツーテッドウェブが得られた。このウェブ
を打抜いて5.25インチのディスクとしてモジュレー
ショ/を測定したところ出力は2チ変動に過ぎなかった
。ところが、60℃、8096RHの雰囲気下に72時
間放置したものではモジュレーションがl1条と増加し
て(・ることか判明した。これは加熱エージング時に歪
が除去できなかったか或は歪が増幅されたためで、高温
高湿の雰囲気によって基盤又は磁性層が変形乃至電磁的
な変形を生じたものと思われる。
比較例2
実施例2に供した基盤を用いてツーテッドウェブを造り
、これを150℃において張力6.5kFI/ dの条
件でエージングしたところ、ウェブの平面性が悪化して
フラットなディスクを得る歩留が著しく低下した。従っ
て、150 rてゴ−ジング処理することは好ましくな
いことが判る。
、これを150℃において張力6.5kFI/ dの条
件でエージングしたところ、ウェブの平面性が悪化して
フラットなディスクを得る歩留が著しく低下した。従っ
て、150 rてゴ−ジング処理することは好ましくな
いことが判る。
比較例3
固有粘度0.58のポリエチレンテレフタレートフィル
ムを機械方向に3,8倍、@方向に3.9倍延伸し、1
60℃で熱固定した75μm厚さの二軸tg伸フィルム
は150℃における乾熱収縮率が機械方向4.0チ、@
方向2.6チであった。
ムを機械方向に3,8倍、@方向に3.9倍延伸し、1
60℃で熱固定した75μm厚さの二軸tg伸フィルム
は150℃における乾熱収縮率が機械方向4.0チ、@
方向2.6チであった。
このクイ/レムを基盤とし実施例1と同様にコーテッド
ウェブとなし130℃におい【張力G、5ゆ/dの条件
でエージングを施したところ、塗膜面に微細なシワが発
生している部分があり製品歩留が低下した。
ウェブとなし130℃におい【張力G、5ゆ/dの条件
でエージングを施したところ、塗膜面に微細なシワが発
生している部分があり製品歩留が低下した。
実施例4
基盤となるポリエチレンテレフタレートフィルムとして
実施例1のもの(実験符号42及び46)と、このフィ
ルムを150℃においてあらかじめ収縮熱処理を施して
収縮率を1.4としたもの(実験符号43及び47)、
更忙完全に収縮処理して150℃で無収縮となるように
調整したもの(実験符号44)、比較例3のポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを190℃で熱処理して収a
率を3チに調整したもの(実験符号41及び45)をそ
れぞれ準備し、実施例1と同様にコーテッドウェブを作
成した。そして、このコーテッドウェブの寸法変化、モ
ジュレーションについて処理温度との関係を蕗2表及び
第3表に示した。
実施例1のもの(実験符号42及び46)と、このフィ
ルムを150℃においてあらかじめ収縮熱処理を施して
収縮率を1.4としたもの(実験符号43及び47)、
更忙完全に収縮処理して150℃で無収縮となるように
調整したもの(実験符号44)、比較例3のポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを190℃で熱処理して収a
率を3チに調整したもの(実験符号41及び45)をそ
れぞれ準備し、実施例1と同様にコーテッドウェブを作
成した。そして、このコーテッドウェブの寸法変化、モ
ジュレーションについて処理温度との関係を蕗2表及び
第3表に示した。
Claims (2)
- (1)150℃における乾熱収縮率が3%以下である合
成樹脂シートよりなる基盤に磁性材料を塗布する工程、
乾燥する工程及びカレンダーにより表面を平滑化する工
程を経て、該基盤上に磁性層が形成されてなる磁気記録
媒体をロール状に巻取る工程までのいずれかの工程の間
に、該基盤を4〜10kg/cm^2の張力下において
140℃以下の温度に少くとも0.5秒間にわたり加熱
エージングを施すことからなるフレキシブルデイスクに
供し得る磁気記録媒体の製造方法。 - (2)乾熱収縮率がS%である合成樹脂シートを基盤と
した磁気記録媒体の加熱エージングを施すに際し、下限
温度として下記式に示されるA℃を選択することを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の磁気記録媒体の製造
方法。 A=20×S+65
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26509185A JPS62125539A (ja) | 1985-11-27 | 1985-11-27 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26509185A JPS62125539A (ja) | 1985-11-27 | 1985-11-27 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62125539A true JPS62125539A (ja) | 1987-06-06 |
| JPH0461412B2 JPH0461412B2 (ja) | 1992-09-30 |
Family
ID=17412471
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26509185A Granted JPS62125539A (ja) | 1985-11-27 | 1985-11-27 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62125539A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0275338A (ja) * | 1988-09-09 | 1990-03-15 | Konica Corp | 磁気記録媒体の製造装置 |
-
1985
- 1985-11-27 JP JP26509185A patent/JPS62125539A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0275338A (ja) * | 1988-09-09 | 1990-03-15 | Konica Corp | 磁気記録媒体の製造装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0461412B2 (ja) | 1992-09-30 |
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