JPS62127467A - Member deposited with ceramics and its production - Google Patents
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- JPS62127467A JPS62127467A JP60267748A JP26774885A JPS62127467A JP S62127467 A JPS62127467 A JP S62127467A JP 60267748 A JP60267748 A JP 60267748A JP 26774885 A JP26774885 A JP 26774885A JP S62127467 A JPS62127467 A JP S62127467A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、高速で開動する部材等に好適のセラミック
スが被着された部材及びその製造方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a member coated with ceramics suitable for a member that opens and moves at high speed, and a method for manufacturing the same.
[従来の技術]
例えば、コンプレッサのシャフト、エンジンのカムシャ
フト、レーザプリンタのレーザスキャナ、プリンタのガ
イドレール等のように、高速で摺動を受ける部材は、摩
耗しやすく、この高速被摺動部材の摩耗が装置の寿命及
び性能に大きな影響を及ぼしている。このため、このよ
うな高速被摺動部材には、高速度鋼及び超硬合金等の硬
くて摩耗し難い材料が使用されている。しかし、これら
の材料は、材料費及び加工費が高いために、コストが高
くなることを回避せざるを得ない場合には、鋳鉄又は快
削鋼等の比較的低廉な材料を使用し、その表面を硬化さ
せたり、潤′/R性を付与する等の対策がとられている
。また、TiN及びTiC等の高硬度のセラミックスを
被覆して切削工具の耐摩耗性を向上させた技術も提案さ
れている。[Prior Art] For example, members that are subjected to high-speed sliding, such as compressor shafts, engine camshafts, laser scanners for laser printers, printer guide rails, etc., are susceptible to wear. wear has a major impact on equipment life and performance. For this reason, hard materials such as high-speed steel and cemented carbide that are hard to wear are used for such high-speed sliding members. However, these materials have high material costs and processing costs, so if it is necessary to avoid higher costs, use relatively inexpensive materials such as cast iron or free-cutting steel. Countermeasures have been taken such as hardening the surface and imparting moisture/R properties. Furthermore, a technique has been proposed in which cutting tools are coated with high-hardness ceramics such as TiN and TiC to improve the wear resistance of cutting tools.
[発明が解決しようとする問題点]
しかしながら、表面硬化処理には焼入れがあり、潤滑性
付与処理にはタフトライド処理、バーコ処理又は黒染め
二硫化モリブデ、ンの塗布処理等があるが、いずれの処
理も、^加重が印加され、高速回転する苛酷な条件下で
は、充分な耐久性を得ることができない。[Problems to be solved by the invention] However, surface hardening treatment includes quenching, and lubricity imparting treatment includes tuftride treatment, Varco treatment, and coating treatment with blackened molybdenum disulfide. In the treatment process, sufficient durability cannot be obtained under severe conditions in which loads are applied and rotation is performed at high speed.
また、焼き入れ及びタフトライド処理においては、処I
I温度が500℃以上と高いので、処理中に母材の変形
が生じるおそれがあり、高い寸法精度を要求される部材
にはこれらの処理を適用することができない。In addition, in quenching and tuftride treatment, treatment I
Since the I temperature is as high as 500° C. or higher, there is a risk that the base material may be deformed during the treatment, and these treatments cannot be applied to members that require high dimensional accuracy.
更に、TiN又はTiCを高速被摺動部材に被覆すると
、これらのセラミックスの硬度が高いために、摺動する
相手方の摺動部材を研削してしまい、この研削屑がセラ
ミックス被膜の上に凝着して焼き付くという問題点があ
る。Furthermore, if TiN or TiC is coated on a member that slides at high speed, the hardness of these ceramics is high, so the other sliding member will be ground, and this grinding debris will adhere to the ceramic coating. There is a problem that it gets burned in.
この発明はかかる事情に鑑みてなされたものであって、
母材に対する接着性が高く、耐摩耗性が優れていると共
に、摺動する相手方部材を研削してしまうことがなく、
焼付の発生が抑制されたセラミックスが被着された部材
及びその製造方法を提供することを目的とする。This invention was made in view of such circumstances, and
It has high adhesion to the base material, excellent wear resistance, and does not grind the sliding mating member.
It is an object of the present invention to provide a member coated with ceramics in which the occurrence of seizure is suppressed and a method for manufacturing the same.
[問題点を解決するための手段]
この発明に係るセラミックスが被着された部材は、鉄を
主成分とする母材と、この母材の表面をアルゴン含有ガ
スによりプラズマ処理した後母材に被着され主成分が珪
素又は硼素のセラミックス層とを有することを特徴とす
る。[Means for Solving the Problems] A member to which the ceramic according to the present invention is adhered has a base material whose main component is iron, and a surface of the base material that is plasma-treated with an argon-containing gas. It is characterized by having a deposited ceramic layer whose main component is silicon or boron.
また、その製造方法は、鉄を主成分とする母材との間に
アルゴン含有ガスによるプラズマを発生させてプラズマ
処理し、次いで、珪素又は硼素を主成分とするセラミッ
クス層を母材の上に形成することを特徴とする。In addition, the manufacturing method involves plasma treatment by generating plasma using argon-containing gas between a base material whose main component is iron, and then a ceramic layer whose main component is silicon or boron is placed on top of the base material. It is characterized by forming.
[作用]
本願発明者は、硬度が高く、耐摩耗性が浸れていると共
に、相手方の虐勤材を研削してしまうことがないセラミ
ックス材料を開発すべく種々検討した結果、珪素又は硼
素を主成分とするセラミックスが、このような要求を充
分満足することを見出した。また、このようなセラミッ
クス材料は、スパッタリング、プラズマCvD、イオン
ブレーティング等により母材に被着させることができる
が、処理湿度が200乃至300℃と比較的低いため、
処理中の母材の変形を抑制することができ、高精度を要
求される部材にもこれらのセラミックスを被着させるこ
とができる。[Function] As a result of various studies to develop a ceramic material that has high hardness, high wear resistance, and does not grind the other material, the inventor of the present application has developed a ceramic material that is mainly made of silicon or boron. It has been found that the ceramic component satisfies these requirements. In addition, such ceramic materials can be applied to the base material by sputtering, plasma CVD, ion blating, etc., but since the processing humidity is relatively low at 200 to 300°C,
Deformation of the base material during processing can be suppressed, and these ceramics can also be applied to members that require high precision.
しかしながら、これらのセラミックスは、母材との接着
性がTiN及びTiCよりも劣るという欠点がある。特
に、母材がコンプレッサシャフト等のように鋳鉄である
場合に、これらのセラミックスを成膜することは事実上
困難である。However, these ceramics have the disadvantage that their adhesion to the base material is inferior to TiN and TiC. In particular, when the base material is cast iron such as a compressor shaft, it is practically difficult to form a film with these ceramics.
本願発明者は、鉄を主成分とする母材に、これらのセラ
ミックスを安定して容易に被着させるべく種々実験研究
を繰返した結果、減圧下のAr含有ガス雰囲気中で、母
材の表面と1!穫との間に、高周波電力又は直流電力を
印加してプラズマを生起させ、プラズマ処理しておくこ
とによって、これらのセラミックスを高接着性で母材に
被着させることができることを見出した。本願発明は、
このような研究結果に基いてなされたものである。The inventor of the present application repeatedly conducted various experimental studies in order to deposit these ceramics stably and easily on a base material whose main component is iron, and as a result, the surface of the base material was And 1! It has been found that these ceramics can be adhered to a base material with high adhesion by applying high frequency power or direct current power to generate plasma and performing plasma treatment during the process. The present invention is
This study was based on these research results.
なお、耐摩耗性が高いと共に、相手方の摺動部材を研削
してしまうことがないセラミックスとしては、窒化珪素
(S i N) 、窒化硼素(BN)、炭化珪素(S
i C) 、炭化硼素(BC) 、酸化珪素(Sin)
、炭窒化珪素(S i CX NY ) 、炭窒化硼素
(BCx NY ) 、炭酸化珪素(S ! Cx O
y ) 、又は炭酸化硼素(BCXOY)等がある。例
えば、SiN及びSiCはビッカース硬度が1800乃
至2000であり、SiCはビッカース硬度が2000
乃至2500であり、BNのビッカース硬度は2500
乃至3000である。このようにこれらのセラミックス
は、硬度が高く、浸れた耐磨耗性を有していると共に、
相手方の摺動部材が鉄系のものである場合は、相手方を
研削してしまうことがない。このようなセラミックスは
、スパッタリング、イオンブレーティング、プラズマC
VD、熱CVD、光CVD、等の方法により製造するこ
とができるが、母材との接層性及び一層の低温処理が可
能という点を考慮すると、プラズマCVDが好ましい。Ceramics that have high wear resistance and do not grind the opposing sliding member include silicon nitride (S i N), boron nitride (BN), and silicon carbide (S
i C), boron carbide (BC), silicon oxide (Sin)
, silicon carbonitride (S i CX NY ), boron carbonitride (BCx NY ), silicon carbonate (S ! Cx O
y) or boron carbonate (BCXOY). For example, SiN and SiC have a Vickers hardness of 1800 to 2000, and SiC has a Vickers hardness of 2000.
The Vickers hardness of BN is 2500.
3000 to 3000. These ceramics thus have high hardness, excellent wear resistance, and
If the other sliding member is made of iron, the other sliding member will not be ground. Such ceramics can be manufactured by sputtering, ion blasting, plasma C
Although it can be manufactured by methods such as VD, thermal CVD, and photo-CVD, plasma CVD is preferable in view of its good contact with the base material and the possibility of lower temperature treatment.
[実施例]
以下、添附の図面を参照してこの発明の実施例について
説明する。この実施例に係るセラミックスが被着された
部材は、以下のようにして製造される。先ず、鋳鉄又は
快削1等のブロックからロータリコンプレッサのシャツ
i〜又はプリンタのキャリッジガイド等の所定の形状に
カロエ成形して母材を得る。次いで、この母材の表面を
Arガスを含有するガス中でプラズマを発生させて処理
する。[Embodiments] Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The ceramic-covered member according to this example is manufactured as follows. First, a base material is obtained by forming a block of cast iron or free-cutting grade 1 into a predetermined shape such as a shirt for a rotary compressor or a carriage guide for a printer. Next, the surface of this base material is treated by generating plasma in a gas containing Ar gas.
その侵、SiN等のセラミックスを母材の表面にコーテ
ィングする。このようにして製造されたシャフト又はキ
ャリッジガイドは、鉄を主成分とする母材の表面がSi
N等のセラミックスで被1されている。このため、この
ような部材に活動部材が^速で活動しても、摩耗が抑制
されると共に、摺動部材を研削してしまうこともない。Then, a ceramic such as SiN is coated on the surface of the base material. The shaft or carriage guide manufactured in this way has a base material whose main component is iron and whose surface is made of Si.
It is covered with ceramic such as N. Therefore, even if the active member acts on such a member at a high speed, wear is suppressed and the sliding member is not ground.
次に、第1図及び第2図を参照して、この実施例に係る
セラミックスが被着された部材をプラズマCVD法によ
り製造する方法について説明する。Next, with reference to FIGS. 1 and 2, a method of manufacturing a member coated with ceramics according to this embodiment by a plasma CVD method will be described.
円筒状の反応室1は適宜の支持台上にその軸り向を鉛直
にして支持されていると共に、絶縁体2を介して電気的
に浮かせである。反応室1内は、メカニカルブースタポ
ンプ及び油回転ポンプ(図示せず)等により排気され、
約10−3 トルの真空度に保持されるようになってい
る。反応室1内には、ガス導入口3を介して種々の原料
ガスが導入される。円筒状の電極4が反応室1内にその
周壁に対して同軸的に設置されており、反応室1と同一
の電位に設定されている。この電極4には、複数個のガ
ス通流孔(図示せず)が開設されていて、ガス導入口3
を介して反応室1内に導入されたガスは、電極4のガス
通流孔を通過して反応!1の中心部にほぼ均一に供給さ
れる。円筒状のシールド5は接地されており、反応室1
を囲むように配設されている。A cylindrical reaction chamber 1 is supported on a suitable support with its axis vertically aligned, and is electrically suspended via an insulator 2. The inside of the reaction chamber 1 is evacuated by a mechanical booster pump, an oil rotary pump (not shown), etc.
The vacuum level is maintained at approximately 10-3 torr. Various raw material gases are introduced into the reaction chamber 1 through a gas inlet 3 . A cylindrical electrode 4 is installed in the reaction chamber 1 coaxially with respect to its peripheral wall, and is set to the same potential as the reaction chamber 1. This electrode 4 is provided with a plurality of gas flow holes (not shown), and the gas inlet 3
The gas introduced into the reaction chamber 1 through the gas passage hole of the electrode 4 reacts! It is almost uniformly supplied to the center of the 1. The cylindrical shield 5 is grounded and the reaction chamber 1
It is arranged to surround the
反応室1の中心には、円筒状の母材10が、その軸方向
を鉛直にして電極4の軸心に配設されている。反応″i
!1の天板上には、絶縁体2を介して支持部材11が設
置されており、母材10はこの支持部材11に懸架され
て反応室1内に装入されている。母材10は、その中心
部に、抵抗発熱線のヒータ12が挿入されている。この
ヒータ12は電11113に接続されており、電源13
から給電されて発熱し、母材10を加熱するようになっ
ている。第1図においては、母材10及び支持部材11
が、マツチングボックス15を介して高周波1114が
接続されており、第2図においては、マツチングボック
ス15が反応室1に接続されていて、反応室1に高周波
電力が印加されるようになっている。このように、第1
図及び第2図に示すように、母材10又は反応室1に高
周波電力が印加され、母材10と反応室1との間に、プ
ラズマ放電が生起される。At the center of the reaction chamber 1, a cylindrical base material 10 is disposed at the axial center of the electrode 4 with its axial direction being vertical. reaction "i"
! A support member 11 is installed on the top plate 1 via an insulator 2, and the base material 10 is suspended from the support member 11 and charged into the reaction chamber 1. A heater 12 made of a resistance heating wire is inserted into the center of the base material 10 . This heater 12 is connected to the power source 11113, and the power source 13
Electric power is supplied from the base material 10 to generate heat, thereby heating the base material 10. In FIG. 1, a base material 10 and a support member 11 are shown.
However, the high frequency power 1114 is connected through the matching box 15, and in FIG. 2, the matching box 15 is connected to the reaction chamber 1, and high frequency power is applied to the reaction chamber 1. ing. In this way, the first
As shown in the figure and FIG. 2, high frequency power is applied to the base material 10 or the reaction chamber 1, and plasma discharge is generated between the base material 10 and the reaction chamber 1.
このように構成される装置により、先ず、母材の表面を
Ar含有ガス雰囲気下でプラズマ処理する。つまり、第
1図に示すように、マツチングボックス15と支持部材
11とを接続すると共に、反応室1内を約10−] ト
ルに排気する。そして、ポンプによる排気を継続しつつ
、ガス導入口3を介して200SCCMのArガスを反
応室1内に導入し、反応フ1内を、例えば、1トルの圧
力に調節する。次いで、電#i13からヒータ12に電
力を供給してヒータ12を発熱させ、母材10を150
乃至300℃に加熱する。その後、母材10に300W
の高周波電力を印加して、1!穫4と母材10との間に
プラズマを生起させる。このプラズマ処理時間は、例え
ば、約30分間である。Using the apparatus configured as described above, first, the surface of the base material is subjected to plasma treatment in an Ar-containing gas atmosphere. That is, as shown in FIG. 1, the matching box 15 and the support member 11 are connected, and the inside of the reaction chamber 1 is evacuated to about 10 torr. Then, while continuing the pumping, 200 SCCM of Ar gas is introduced into the reaction chamber 1 through the gas inlet 3, and the pressure inside the reaction chamber 1 is adjusted to, for example, 1 Torr. Next, power is supplied from the power supply #i13 to the heater 12 to cause the heater 12 to generate heat, and the base material 10 is
Heat to 300°C. After that, apply 300W to the base material 10.
Applying high frequency power of 1! Plasma is generated between the grain 4 and the base material 10. This plasma treatment time is, for example, about 30 minutes.
この場合に、処理ガスはArガス単体に限らず、Arガ
スと、H2、He、又はN2等のガスとの混合ガスでも
よい。In this case, the processing gas is not limited to Ar gas alone, but may be a mixed gas of Ar gas and a gas such as H2, He, or N2.
なお、この実施例のように、母材を予め加熱しておいて
もよいが、プラズマが生起されると、このプラズマによ
って母材が加熱されるので、必ずしも格別の加熱手段を
設けることは必要ない。このように、ヒータ12を使用
して母材10を加熱しない場合には、母材10等に印加
する高周波電力を大きくするか、又は処理時間を長くす
ればよい。Note that, as in this example, the base material may be heated in advance, but when plasma is generated, the base material is heated by this plasma, so it is not necessarily necessary to provide a special heating means. do not have. In this way, when the base material 10 is not heated using the heater 12, the high frequency power applied to the base material 10 etc. may be increased or the processing time may be lengthened.
このプラズマ処理に続いて、反応室1内にコーティング
すべきセラミックスの構成元素を含有するガスを導入し
、表面がプラズマ処理された母材にセラミックスをコー
ティングする。コーティングすべきセラミックスが81
を主成分とする場合には、S i H4ガス又はSi2
H6ガス等のSlを含有するガスに、窒化物であるとき
はN2ガス又はNH3ガス等のNを含有するガスを混合
し、炭化物であるときはCH3ガス又はC2Hsガス等
のCを含有するガスを混合し、酸化物であるときは02
ガス又はN20ガス等のOを含有するガスを混合する。Following this plasma treatment, a gas containing constituent elements of the ceramic to be coated is introduced into the reaction chamber 1, and the ceramic is coated on the base material whose surface has been plasma treated. 81 ceramics to be coated
When the main component is S i H4 gas or Si2
A gas containing Sl such as H6 gas is mixed with a gas containing N such as N2 gas or NH3 gas when it is a nitride, and a gas containing C such as CH3 gas or C2Hs gas when it is a carbide. and when it is an oxide, 02
or a gas containing O, such as N20 gas.
コーティングすべきセラミックスがBを主成分とする場
合には、Siを含有するガスの替りに、BF3ガス又は
B2 H6ガス等のBを含有するガスを使用すればよい
。このような原料ガスを反応室1内に導入すると共に、
マツチングボックスの接続を支持部材11から反応室1
に切替え、シールド5の接続を反応室1から支持部材1
1に切替える。そして、高周波電源14から反応室1及
び電極4にA周波電力を印加して、電極4と母材10と
の簡にプラズマを生起させる。When the ceramic to be coated contains B as a main component, a B-containing gas such as BF3 gas or B2 H6 gas may be used instead of the Si-containing gas. While introducing such raw material gas into the reaction chamber 1,
Connecting the matching box from the support member 11 to the reaction chamber 1
and connect the shield 5 from the reaction chamber 1 to the support member 1.
Switch to 1. Then, A-frequency power is applied from the high-frequency power source 14 to the reaction chamber 1 and the electrode 4 to easily generate plasma between the electrode 4 and the base material 10.
これにより、原料ガス中の成分を構成元素とするセラミ
ックスが母材10の表面にコーティングされる。As a result, the surface of the base material 10 is coated with ceramics whose constituent elements are the components in the raw material gas.
次ぎに、このセラミックスのコーティング条件及び成膜
されたセラミックスの層厚の代表例について説明する。Next, typical examples of the ceramic coating conditions and the layer thickness of the ceramic film formed will be described.
(a)SiNの場合
SiH+ガス流1i:50SCCM
N 2 カスRJl : 800 S CCM反応圧カ
ニ1.0トル
高周波筒カニ300W
成膜時間:1時間
層厚:約4μm
(b) S i Cの場合
SiH+ガス流量:50SCCM
CH3ガス流量:300SCCM
反応圧カニ1.01−ル
高周波筒カニ300W
成膜時間:1時間
層厚:約4μm
(c)BNの場合
B2 Haガス流量: 50SCCM
N2ガス流ffi:800SCCM
反応圧カニ1.Ot−ル
高周波筒カニ300W
成膜時間=1時間
層厚:約4μm
(d)SiOの場合
S i H4iスPEII : 50SCCMO2ガス
ll:300sccM
反応圧カニ1.Oトル
高周波筒カニ300W
成膜時間:1時間
層厚:約4μm
上述の如くして製造されたセラミックスが被着された部
材は、セラミックスが高強度で被着されており、耐摩耗
性が高い。上述の各成膜条件で、ロータリコンプレッサ
用のシャフトを製造し、このシャフトに対し、1000
0R,P、Mの回転数で30分間連続運転し、次いで1
0分間停止した後、再度30分間運転するというモード
で1000時間の耐久試験を実施した。上記(a)乃至
(d)に示す各セラミックスをコーティングしたシャフ
トは、いずれも、摩耗による焼付を発生させず、層が剥
離することもなく、極めて耐久性が高いことが実証され
た。(a) For SiN SiH + gas flow 1i: 50 SCCM N 2 gas RJl: 800 S CCM reaction pressure 1.0 Torr High frequency cylinder 300 W Film forming time: 1 hour Layer thickness: Approximately 4 μm (b) For Si C SiH + gas flow rate: 50SCCM CH3 gas flow rate: 300SCCM Reaction pressure 1.01-L high frequency cylinder 300W Film forming time: 1 hour Layer thickness: Approximately 4 μm (c) For BN B2 Ha gas flow rate: 50SCCM N2 gas flow ffi: 800SCCM reaction pressure crab 1. Ot-ru high frequency tube crab 300W Film forming time = 1 hour Layer thickness: Approximately 4 μm (d) In case of SiO Si H4i space PEII: 50SCCMO2 gas 1:300sccM Reaction pressure crab 1. Otor High Frequency Tube Crab 300W Film Forming Time: 1 hour Layer Thickness: Approximately 4 μm The member to which the ceramics produced as described above is adhered has high strength ceramics and has high wear resistance. . A shaft for a rotary compressor was manufactured under each film forming condition described above, and 1000
Continuously operate for 30 minutes at rotation speeds of 0R, P, M, then 1
A 1000 hour durability test was conducted in a mode in which the machine was stopped for 0 minutes and then operated again for 30 minutes. It has been demonstrated that the shafts coated with each of the ceramics shown in (a) to (d) above do not cause seizure due to wear or peeling of the layers, and are extremely durable.
なお、この実施例は、母材表面の処理及びセラミックス
のコーティングをプラズマCVDにより実施しているが
、これに限らず、前述の如く、スパッタリング、イオン
ブレーティング、熱CVD又は光CV[)等の他の手段
を使用してもよい。更に、プラズマ生起用の電力は、上
記実施例のように高周波電力に限らず、直流電力を使用
してもよい。この場合には、マツチングボックスが不要
である。In this example, the surface treatment of the base material and the ceramic coating are carried out by plasma CVD, but the method is not limited to this. Other means may also be used. Furthermore, the power for plasma generation is not limited to high frequency power as in the above embodiments, but direct current power may also be used. In this case, a matching box is not required.
なお、このようにして成膜されたSiN。Note that the SiN film formed in this manner.
SiC,SiO又はBN等のセラミックス層は通常アモ
ルファスであるが、多結晶であったり、一部分で結晶化
していたり、微結晶の領域が存在することもある。しか
し、これらのいずれの場合であっても、耐摩耗性は良好
で同様の優れた効果を得ることができる。Ceramic layers such as SiC, SiO, or BN are usually amorphous, but may be polycrystalline, partially crystalline, or have microcrystalline regions. However, in any of these cases, the wear resistance is good and the same excellent effects can be obtained.
[発明の効果コ
この発明によれば、鉄を主成分とする母材に対してもセ
ラミックス層が高接着性で接着されており、耐摩耗性が
■れた部材を得ることができる。[Effects of the Invention] According to the present invention, the ceramic layer is adhered with high adhesiveness even to the base material whose main component is iron, and a member with excellent wear resistance can be obtained.
この部材は、摺動する相手部材を研削してしまうことが
なく、焼付の発生が防止される。This member does not grind the mating member on which it slides, and the occurrence of seizure is prevented.
第1図第2図はこの発明の実施例に係るセラミックスが
被着された部材の製造置型を示す断面図である。
1:反応室、2:絶縁体、4;?!情、5:シールド、
10:母材、12:ヒータ、141周波電源、15;マ
ツチングボックス。FIG. 1 and FIG. 2 are cross-sectional views showing a manufacturing mold of a member coated with ceramics according to an embodiment of the present invention. 1: Reaction chamber, 2: Insulator, 4;? ! Love, 5: Shield,
10: Base material, 12: Heater, 141 frequency power supply, 15: Matching box.
Claims (6)
ゴン含有ガスによりプラズマ処理した後母材に被着され
主成分が珪素又は硼素のセラミックス層とを有すること
を特徴とするセラミックスが被着された部材。(1) It is characterized by having a base material whose main component is iron, and a ceramic layer whose main component is silicon or boron and which is adhered to the base material after the surface of this base material is plasma-treated with an argon-containing gas. A member coated with ceramics.
珪素、炭化硼素、酸化珪素、炭窒化珪素、炭窒化硼素、
炭酸化珪素、又は炭酸化硼素から選択されたものである
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載のセラミ
ックスが被着された部材。(2) The ceramics include silicon nitride, boron nitride, silicon carbide, boron carbide, silicon oxide, silicon carbonitride, boron carbonitride,
A member coated with a ceramic according to claim 1, characterized in that the ceramic is selected from silicon carbonate and boron carbonate.
によるプラズマを発生させてプラズマ処理し、次いで、
珪素又は硼素を主成分とするセラミックス層を母材の上
に形成することを特徴とするセラミックスが被着された
部材の製造方法。(3) Plasma treatment is performed by generating plasma using argon-containing gas between the base material whose main component is iron, and then
A method for manufacturing a member coated with ceramics, comprising forming a ceramic layer containing silicon or boron as a main component on a base material.
ガスの雰囲気下でプラズマを生起させて形成することを
特徴とする特許請求の範囲第3項に記載の製造方法。(4) The manufacturing method according to claim 3, wherein the ceramic layer is formed by generating plasma in an atmosphere of a gas containing its constituent elements.
珪素、炭化硼素、酸化珪素、炭窒化珪素、炭窒化硼素、
炭酸化珪素、又は炭酸化硼素から選択されたものである
ことを特徴とする特許請求の範囲第3項に記載のセラミ
ックスが被着された部材の製造方法。(5) The ceramics include silicon nitride, boron nitride, silicon carbide, boron carbide, silicon oxide, silicon carbonitride, boron carbonitride,
4. The method for manufacturing a member coated with ceramics according to claim 3, wherein the ceramic is selected from silicon carbonate and boron carbonate.
を印加することにより形成することを特徴とする特許請
求の範囲第3項又は第4項に記載の製造方法。(6) The manufacturing method according to claim 3 or 4, wherein the plasma is formed by applying high frequency power or DC power to the base material.
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60267748A JPS62127467A (en) | 1985-11-28 | 1985-11-28 | Member deposited with ceramics and its production |
| KR1019860009820A KR890002162B1 (en) | 1985-11-28 | 1986-11-20 | Sliding members coated ceramic and a method for manufacture thereof |
| FR8616558A FR2590594B1 (en) | 1985-11-28 | 1986-11-27 | MECHANICAL ELEMENT CARRYING ANTI-WEAR CERAMIC COATING AND ITS MANUFACTURE. |
| DE19863640430 DE3640430A1 (en) | 1985-11-28 | 1986-11-27 | WORKPIECE COATED WITH A CERAMIC MATERIAL AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF |
| US08/064,749 US5300951A (en) | 1985-11-28 | 1993-05-18 | Member coated with ceramic material and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60267748A JPS62127467A (en) | 1985-11-28 | 1985-11-28 | Member deposited with ceramics and its production |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62127467A true JPS62127467A (en) | 1987-06-09 |
Family
ID=17449026
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60267748A Pending JPS62127467A (en) | 1985-11-28 | 1985-11-28 | Member deposited with ceramics and its production |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62127467A (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03243770A (en) * | 1990-02-21 | 1991-10-30 | Ngk Insulators Ltd | Composite member and its production |
| JPH03243767A (en) * | 1990-02-21 | 1991-10-30 | Ngk Insulators Ltd | Production of corrosion resistant vessel |
| JPH04375A (en) * | 1990-04-16 | 1992-01-06 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Production of hardened protective film on surface of plastic substrate |
| WO2006106716A1 (en) * | 2005-03-31 | 2006-10-12 | Kyushu Institute Of Technology | Surface treated metal product |
| JP2007232274A (en) * | 2006-03-01 | 2007-09-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Air conditioner |
-
1985
- 1985-11-28 JP JP60267748A patent/JPS62127467A/en active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03243770A (en) * | 1990-02-21 | 1991-10-30 | Ngk Insulators Ltd | Composite member and its production |
| JPH03243767A (en) * | 1990-02-21 | 1991-10-30 | Ngk Insulators Ltd | Production of corrosion resistant vessel |
| JPH04375A (en) * | 1990-04-16 | 1992-01-06 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Production of hardened protective film on surface of plastic substrate |
| WO2006106716A1 (en) * | 2005-03-31 | 2006-10-12 | Kyushu Institute Of Technology | Surface treated metal product |
| JP5091667B2 (en) * | 2005-03-31 | 2012-12-05 | 国立大学法人九州工業大学 | Surface-treated metal products |
| JP2007232274A (en) * | 2006-03-01 | 2007-09-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Air conditioner |
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