JPS62127708A - レ−ザ走査装置 - Google Patents

レ−ザ走査装置

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JPS62127708A
JPS62127708A JP61271651A JP27165186A JPS62127708A JP S62127708 A JPS62127708 A JP S62127708A JP 61271651 A JP61271651 A JP 61271651A JP 27165186 A JP27165186 A JP 27165186A JP S62127708 A JPS62127708 A JP S62127708A
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curved
laser
film
forming
curved space
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JP61271651A
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ジエラルド・ダナ・リー
ジヨン・グリーアー・エリアス
ベネツト・ハンソン・ロツクニー
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EIDP Inc
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EI Du Pont de Nemours and Co
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明はラジオグラフィ用のフィルム、すなわちラジ
オグラ７を走査するレーザ走査装置、特にラジオグラフ
が彎曲空間に支持され、曲線状に形成された光検出部を
有するレーザ走査装置に関する。
ラジオグラフを走査して得られた信号を解析して送るよ
うにｙイノタル化するレーザ走査装置はすでに仰られて
いる。たとえば、このような装置の例は、デュポン社で
製造されたフィルム・ラジオグラフィ装置である。
上記のような装置はラジオグラ７の面をビームが走査す
るために振動する鏡を用いたガルバノメータ方式が用い
られ、ラジオグラフは平らな表面又はプラテンの上に配
置されている。該プラテンの上方にはラジオグラフを通
って送られたビームを受けるために、適切な位置にリニ
ヤ−な半導体からなる光検出部が設けられている。光検
出部は平面的に配置され端縁同志当接された複数個のＰ
ＩＮｑ半導体ダイオ−トス）　ＩＪツブから形成さルる
。父上記グイオードストリップとプラテンとの間には光
学的拡散部材が神式さｔしる。
しかしこのような走査装置には性ＩＪ目上限界が存在す
る。それはビームが平らなラジオグラフｆＣ横切って走
査されるとき、ラジオグラフに至るビームの光路長が変
化し、投射されたビームのスポットの大きさが変化する
ことで２ある。又ラジオグラフの走査に用いる鏡が一足
角速度で回転するので平面的に置かれたラジオグラフに
沿りて走行するスポットの速度が変化し、得られる映像
に歪を生ずることとなる。又ビームがラジオグラフに入
射する角度が走査中変化するのも映像の形を歪ませ又分
解能を低下させる原因となる。又ラジオグラフの縁部を
通るビームの光路長は他に比べて長いので、該縁部を通
るビームが多く吸収を受けることも知られている。これ
等の影響が重なって横方向ニックに於て、暗くて低解像
力の映像が生ずることになる。これは好ましい映像でな
い。父上記不都合に加えて、従来のレーザ走査装置は１
枚の映像を完結する時間が長いという欠点がある。これ
は主とじてがルバノメータ式の境の振動速度が高くとれ
ない事によるもので、１枚の映像の几めに約１分間の時
間を必要とする。
変曲空間の使用は、ファクシミリに関する技術に於てす
でに知らｎてお９、九とえば米国特許３．３７０，５０
４号明細書に開示されている。上記米国特許はファクシ
ミリ装置に関するもので、その中に形成され九彎曲空間
の後に？ｉ彎曲して配置され次光ファイバーのアレーが
配置され、各光ファイバーは対応する１個の光検出器（
通常光電子倍増管）に光を導く几めに用いられる。上記
米国特許の装置について見出され九機能の限界は、ビー
ムがある光ファイバーから他の光ファイバーに順次与る
際の不規則動作によって生ずる信号対雑音比に基づく限
界である。
上述の機能上の限界によって、光ファイバーのアレーを
用いる走査装置は極めて精密な映像を必要とする医療用
には不適当であると考えられている。
高電子倍増管に関する機能の限界もすでに知られている
。すなわち、機械的振動に対する過敏性、年とともに生
ずる機能低下、及び過大な光レベルに対する機能喪失等
による限界である。
この発明の目的は従来のレーザ走査装置が有する上述の
欠点を除去したレーザ走査装置を提供することにある。
上記目的を達成するために、この発明のレーザ走査装置
は、レーザ光源から送出され之レーザ光によって走査さ
れるラジオグラフを受は入ｎる、互に離隔した状態で同
軸に配置され定板の間に形成さｗｅ彎曲空間を有してい
る。上記板の一方は光学的に拡散する機能を有する材料
で形成される。
又回転する多面鏡及びビームを形成する光学手段は、レ
ーザ光をラジオグラフ上に焦点を結ぶ集光ビームに変換
するために設けられている。レーザ光源及び上記集光ビ
ームを形成する手段は、上記集光ビームが上記彎曲空間
をラスタの如く走査するように、彎曲空間に対して移動
する基台の上に載置されている。上記彎曲空間に関して
、ラジオグラフを通過した集光ビームが入射するように
配置され次光検出部が設けられておシ、上記光検出部は
電気的に並列に、位置的に端縁同志当接する状態に配置
された複数個の光半導体素子を具備している。上記光半
導体素子はラジオグラフからほぼ同じ距離をへだてて片
持梁形式に配列されている。又彎曲空間と光検出部の中
間位置にはス１ノットを有するマスクが配置されている
。
次にこの発明の詳細な説明する。第１図はこの発明のレ
ーザ走査装置１０の概略を説明する斜視図である。レー
ザ走査装置１０はラジオグラフ用フィルムを導く案内部
１６ｔ−載置した基ｍ１４を有し、案内部１６は彎曲し
た上記フィルム用の支持装置２０及びこれと協働する供
給台１８を有している。支持装置２０は同軸的に配置さ
れ＆１対の彎曲板すなわち内側彎曲板２２と外側彎曲板
２４を具備し、内側彎曲板２２は両面に反射防止用被覆
を施した透明ガラスで形成され、外側彎曲板２４は乳白
がラス等の光を拡散する材料で形成される。
内側彎曲板２２及び外側彎曲板２４は所定の間隔をへだ
てて配置され、その間１ｃｌｉｉ曲され念フィルムを移
動する彎曲空間、すなわち移送路２６（第２Ａ図）が形
成される。移送路２６は供給台１８と連通し、該供給台
１８の反対側の端部は停止部材２８によって間欠的に開
閉される。停止部材２８にはストラーンが設けられ、該
ストン・？ＶＣは走査されるラジオグラフィ用のフィル
ムすなわちラジオグラ７３０が所定の位置に支持され、
上記移送路２６の出口は適当な容器（図示せず）に連通
さ九ている。
基台３２に取付けられたレーザ光源３４はレーザ光を送
出し、該レーザ光は光学装置ｔ４２を介してレーザビー
ム３６に変換され、１対の反射部材３８及び４０に向か
って、投射される。
レーザ光源の出力変動を補償するのに適する位置に参照
用の光検出素子が配置されている。上記の光検出素子を
用いた参照装置は図面のａ雑化を避けるために図示は省
略されているが、米国特許３．７４１，６６４ｔ−見れ
ば詳細な説明を見ることができる。レーザビーム３６は
基台３２に取付けられた反射部材３８及び４０によって
方向を変換され、基台３２上に装着されたハウソング４
６に取付けられて回転する多面鏡４４に投射される。レ
ーザビーム３６は多面鏡４４の反射面で反射されて内側
彎曲板１２と外側彎曲板２４を備えたフィルム指示装置
２０に向かい、該装置２０に支持されたフィルム３０を
走査する。
レーザ光源３４から送出されたレーザ光は上述の光学装
置４２を通りてレーザビーム３６に変換され、更に反射
部材３８．４０及び多面鏡４４を通る間にフィルム３θ
に焦点を結ぶビームすなわち集光ビーム４８に変換され
る。集光ビーム４８を形成する光学的手段は上記説明に
限ることなく、走査中宮にフィルム３０に焦点を結ばせ
ることができる手段であればどのような手段でもよい。
このような光学手段の例は音響・光学装置、ホログラフ
ィ装置、その他の電気・光学装置又はこれらを組合せ之
装置である。
基台３２は同期電動機５５によって、第１図に矢印５８
の方向に延びる１対の案内レールの上を移動するように
駆動される。上記モータ５５及び案内レールは、たとえ
ば基台３２でかつ基盤１４よシ上の位置等レーザ走査装
置１０のどのような位置に配置されてもよい。案内部１
６は基盤１４に立設された柱６０に取付けられた棒体５
６に支持されている。上記機構を有するために、集光ビ
ーム４８は内側彎曲板２２と外側彎曲板２４との間に置
かれたフィルムをテレピノ、ンのラスタの場合と同様に
走査を行なうことができる。
光検出装置として用いられるアーム６２は、支持柱６４
を介して基台３２に支持されている。アーム６２は外側
彎曲板２４の上に延びる片持梁形状をなし、光検出部６
６を有してｈる。アーム６２には第２Ａ図に示すように
、フィルム３ｏとほぼ平行に彎曲した内表面６８が設け
られている。
光検出部６６は、第２図に示すように上記内表面６８と
、該内表面に対してほぼ平行に形成され、光を拡散する
外側彎曲板２４とのほぼ中心位置に彎曲して配置され、
外側彎曲板２４はフィルム３０を通して送られた集光ビ
ーム４８を、横Ｘ構造を有する光検出部６６に向けて送
り出す。上記光検出部６６の低部の層すなわちアーム６
２０内表面６８側の層は、回路板又はその他の固体で形
成された基礎板７４からなり、所定間隔毎に切り欠きを
有している。従って基礎板７４は彎曲する内周面６８に
極めて類似した形に悔′曲させることができる。
第２Ａ図に示すように、基礎板７４の上には電気導体か
らなる第１の導電路７６が設けられ、該導電路７６の上
には光を受けて作動する７８Ａから７８ＮＫ至る光半導
体素子の列が配置されている。隣接配置されたそれぞれ
２個の上記光半導体素子は、第２Ａ図に示すように、隣
接する端部の縁で接触する。たとえば光半導体素子７８
′の図の左側先端縁りは隣接する光半導体素子７ｆの後
端縁工と機械的に当接している・ 各光半導体素子７ｇ（７Ｂ’、７Ｂ’等を総合して記す
ときは７８で表わす）はＰＩＮ型半導体のボデ−８０Ｖ
Ｃよって形成され（第３図）、デデー８０の低面は第１
の導電路７６と電気的に接触するメタライソング被覆８
４によって恍われている。又上記ボデー８０の基礎板７
４と反対側の自由表面８８には、メタライソングを施さ
れた１対の導１路９０ｋ及び９０Ｂが、対向して延びる
縁ｉＣ；ｉ：！って設けられており、第３図に示すよう
に、第１の導電路７６とほぼ平行に延びる第２の導電路
９２が基礎板７４上て設けられている。メタライソング
された導電路９０にと第２の導電路９２とは接続線９６
によって、電気的に接続されている。
上記の光検出部６６は、たとえばエポキシ耐脂９８等の
適宜の接続手段によって、アーム６２の彎曲した内表面
６８に取付けられている。
外側彎曲板２４と光半導体素子７８の自由表面８８との
間には、アーム６２に取付けられたマスク１０２が配置
されている。マスク１０２にはスリット状開口１０４が
形成され、不透明な材料で製造されている。上記マスク
１０２は集光ビーム４８が光半導体素子７８に投射され
る立体角の僅かの変化を補償するのに用いられ、該マス
ク１θ２には、フィルム３０ｔ−通った集光レーザビー
ムが所定の一定立体角の範囲内で光半導体素子７８に投
射されるように定める直線状に延びる開口が設けられて
いる。
光検出部６６は、感度、暗電流及びキャパシタンスに関
して交換性を有する光半導体素子７８を用いれば、種々
の周知の回路及び構造に形成されてもよく、この場合上
記感度は一様に高く、上記暗電流及びキヤ・！シタンス
は一様に低いものを選ぶのが好ましい。
第１及び第２の導′心路７６及び９２を有する１ｗｉ長
いプリント配線板には、彎曲可能であるように、横方向
の切欠きが設けられていて、上記プリント配線板は容易
に曲げら瓦、たとえばエポキシ樹脂９８を用いて、アー
ム６２の内表面６８に取付けることができる。元検寸′
、用の光半導体素子７８ば、メタライソング８４と電気
的に接触するように、導電性を有するセメントを用いて
第１の導電路７６に取付けられる。接続線９６は各九半
導体素索子は既に説明したように端部と端做同志で当接
されている。
第１の導電路７６と第２の導電路９２は第２図にブロッ
ク図で示された前置増巾器１１θに接続され、アーム６
２のごく近くに周知の方法で取付けられている。前置増
巾回路１１θは周知のたとえばプレシジョン・モノリシ
ックス社（ＰｒｅｃｉｓｉｏｎＭｏｎｏｌｉｔｈｉｃｓ
、Ｉｎｃ、）の型番０Ｐ−３７の製品を用いて形成する
ことができる。第２図に示したフィードバック抵抗及び
キヤ・ぐシタは、走査ビームの移動速反に相当する最適
の周波数応答を有するように選択され、前置増巾器１１
θの出力と補償用の参照光検出装置の出力は補償された
出力信号を形成するように混合され、上記補償された出
力信号はこの発明のレーザ走査装置の以後の演算に使用
される。
この発明のレーザ走査装置はフィルムて至る一定の光路
長グと、フィルムを走査する集光ビームのスポットの一
定の速度と、フィルムへの一定の入射角と、フィルムを
通る集光ビームの一定の光路長を形成することができる
。回転する多面鏡と光検出装置の短かい応答時間とによ
って、装置は高い走査速度で作動することができ、その
結果本発明のレーザ走査装置は、従来ｇｅ置の有する不
工合をすべて解決することができる。
【図面の簡単な説明】
第１図はこの発明のレーザ走査装置の構造の大要を示す
斜視図、第２図は第１図に示した装置に用いられた光検
出装置の部分断面側面図、第２Ａ図は第２図の円により
囲まれた部分の詳細を示す拡大図、第３図は第２図の３
−３−ば視図である。 １０・・・レーザ走査装置、１４・・・基盤、２２・・
・内側彎曲板、２４・・・外側彎曲板、２６・・・彎曲
空間。 移送路、３０・・・ラジオグラフ、フィルム、３６・・
・レーザビーム、３４・・・レーザ光源、４４・・・回
転多面鏡、４８・・・集光ビーム、６６・・・光検出部
、７８・・・光半導体素子、１０２・・・マスク。 出自人代理人　　弁理士　鈴　江　武　彦Ｉ Ｆ／Ｇ、２Ａ

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）走査するラジオグラフイ用フィルムを受け入れる
    彎曲空間と、 走査用のレーザ光を送出するレーザ光源と、上記レーザ
    光からフィルム上に焦点を結ぶ焦点ビームを形成する手
    段と、 上記レーザ光源と上記集光ビームを形成する手段を取付
    けられた基台と、 上記集光ビームがラスタの場合と同様に彎曲した上記彎
    曲空間を走査するように、上記基台を該彎曲空間に対し
    て移動する手段と、 上記フィルムを通過した集光ビームを受けるように、上
    記彎曲空間の中に配置された光検出部を有するレーザ走
    査装置で、 上記光検出部は、互に平行にかつ端部の縁同志互に接触
    する状態で電気的に並列に接続された複数個の光半導体
    素子を有し、該光半導体素子はフィルムからそれぞれほ
    ぼ同様に離隔するように曲線状に配置されているレーザ
    走査装置。
  2. （２）上記彎曲空間は、互に同軸に配置された内側及び
    外側彎曲板を具備する特許請求の範囲第（１）項に記載
    のレーザ装置。
  3. （３）上記光検出部の中心部に配置された彎曲板は光学
    的に拡散できる材料によって形成されている、特許請求
    の範囲第（２）項に記載のレーザ走査装置。
  4. （４）上記の彎曲した彎曲空間と光検出部の間にスリッ
    トを有するマスクが設けられた、特許請求の範囲第（１
    ）項乃至第（３）項のいずれか１に記載のレーザ走査装
    置。
  5. （５）上記集光ビームを形成する手段は回転する多面鏡
    と該集光ビームを形成する光学手段を具備する、特許請
    求の範囲第（１）項乃至第（３）項のいずれか１に記載
    のレーザ走査装置。
  6. （６）上記集光ビームを形成する手段は回転する多面鏡
    と該ビームを形成する光学的手段を具備し、上記彎曲空
    間と光検出装置の間にスリットを有するマスクが設けら
    れた特許請求の範囲第（４）項及び第（５）項のいずれ
    か１に記載のレーザ走査装置。
JP61271651A 1985-11-15 1986-11-14 レ−ザ走査装置 Pending JPS62127708A (ja)

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JP (1) JPS62127708A (ja)
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