JPS6212782A - １−オキサ−３−オキソ−４、８−ジアザ−スピロ−〔４、５〕−デカン化合物、それらの製造方法およびそれらの用途 - Google Patents
１−オキサ−３−オキソ−４、８−ジアザ−スピロ−〔４、５〕−デカン化合物、それらの製造方法およびそれらの用途Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
はプラスチック添加剤の製造のだめの中間生成物として
使用されうる１−オキサー３−オキソ ・−４，
８−ジアザ−スピロ−（４．５）一デカン化合物、なら
びにそれらの製造方法に関する。
使用されうる１−オキサー３−オキソ ・−４，
８−ジアザ−スピロ−（４．５）一デカン化合物、なら
びにそれらの製造方法に関する。
Ｔ＊ｂｌｈＬ（ｌ−＊”・６１−〇“”ｆ ７％
ｊ。
ｊ。
許出願公開第８，１４９，４５８号公報参照）。しかし
ｇヵ，８ら、そゎら。製造方法は複雑アあ．。何
，ｌ鴇 なれば、反応中に反応媒質が数回取換えられる ；
が、それには追加的な抽出および蒸留が必要と
Ｉ′されるからである。
１；この度、新規な１−オキサ−３−オキソ−４
，８−ジアザ−スピロ−（４，５）−デカン化合物が見
出された。
ｇヵ，８ら、そゎら。製造方法は複雑アあ．。何
，ｌ鴇 なれば、反応中に反応媒質が数回取換えられる ；
が、それには追加的な抽出および蒸留が必要と
Ｉ′されるからである。
１；この度、新規な１−オキサ−３−オキソ−４
，８−ジアザ−スピロ−（４，５）−デカン化合物が見
出された。
従って、本発明の対象は、下記の式Ｉで表わされる１−
オキサ−３−オキソ−４，８，−ジアザ−スピロ−［４
，５〕−デカン化合物およびそれらの簡単化された製造
方法である。
オキサ−３−オキソ−４，８，−ジアザ−スピロ−［４
，５〕−デカン化合物およびそれらの簡単化された製造
方法である。
上式中、
ｎは１ないし４の整数であり、
Ｒ１ハ水素、Ｃ１−Ｃジアルキル、ベンジル、アリル、
Ｃ２”−Ｃ３０−アルカノイル、Ｃ５−Ｃ２０−アルケ
ノイル、Ｃ７−Ｃ１１−アロイル、ｃａ−Ｃ１４−アリ
ールアルカノイルまたはｃｓ−ｃ２ｏ−アルキルフェニ
ルを意味し、 Ｒ２は水素またはＣ１−Ｃジアルキルを意味し、Ｒ３は
水素、ｃｌ−Ｃ１８−アルキル、Ｃ３−Ｃ１□−シクロ
アルキル；フェニル基またはナフチル基（これらの基は
塩素またはＣ１−Ｃ４−アルキルによって置換されてい
てもよい）、または場合によってはＣ１−Ｃ４−アルキ
ルによって置換されりＣ７−Ｃ１２−フェニルアルキレ
ン基を意味し、Ｒ４は水素、ｃｌ−Ｃ４−アルキル、Ｃ
５−Ｃ１２−７クロアルキル：−ＣＯＯＨ，カルボ−ｃ
ｌ−Ｃ４−アルコキシまたはカルバモイルによって置換
されたＣ１− Ｃ３−フルケニル：フェニルー、＋７−
ｆ−ルーまたはピリジル基（これらの基はｃｌ−Ｃ４−
アルコキシまたはｃｌ−Ｃ４−アルキルによって置換さ
れていてもよい）、またはＣ７−Ｃ１２−フェニルアル
キル基（この基はｃｌ−Ｃ４−アルキルによって置換さ
れていてもよい）を意味するか、あるいは Ｒ３およびＲ４は、それらと結合している炭素原子と一
緒で、１ないし４個のＣ１−Ｃジアルキル′ 基で置
換されていてもよいＣ５−０１２−シクロアルキル基、
あるいは式■ （上式中 Ｒ１およびＲ２は前記の意味を有する）で表
わされる残基を形成し、 Ｒ５は水素、メチル、フェニルまたはカルボ−Ｃ１−Ｃ
２１−アルコキシを意味し、 Ｒ６は水素またはメチルを意味し、 Ｒ７はｎ ＝ １である場合には、 水素、Ｃ１−Ｃ２１−アルキル、Ｃ２−Ｃ２２−アルケ
ニル、Ｃ７−Ｃ１８−フェニルアルキル、Ｃ５−Ｃ１２
−シクロアルキル、フェニル、ナフチル、Ｃ７−Ｃｌ８
−アルキルフェニル、式 （上式中、ＲおよびＲ２は、前記の意味を有すれ、そし
て／または式■ ５Ｒ６ ”、； で表わされる残基により、またはＣ１−Ｃ２１−アルキ
ルカルボキシルにより置換されていてもよく、ここでこ
れらの式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およ
びＸに前記の意味を有し、そしてＲ８は水素、Ｃ１−Ｃ
１ｏ−アルキルまたは式で表わされる残基を意味する
を意味し、Ｒ７はｎ ＝ ２である場合には、 直鎖状または分校鎖状のＣｌ−Ｃ３０−アルキレン、Ｃ
２−Ｃ３０−アルケニレン、フェニルジアルキレンを意
味し、その際これらの残基は、−０−Ｎ− または 表、（ここにＲ８は前記の意味を有する）によ
り中断されていてもよく、 Ｒ７はｎ ＝ ３または４である場合には、式ＩＶ、Ｖ
、 ＶＩまだは■ −ＣＨ２−ＣＨ−ＣＨ２−（ＩＶ）、 ＣＨ２ Ｃ２Ｒ５−Ｃ−ＣＨ２−（Ｖ）、 ＣＨ２ −ＣＨ２ＣＨ２−Ｎ−ＣＨ２ＣＨ２−（ＶＩ）、ＣＨ２
ＣＨ２− ＣＨ２ 夏 −ＣＨ２−Ｃ−ＣＨ２−（■） ＣＨ２ ■ 味を有するを意味する〕 ｎは好ましくは１または２である。
Ｃ２”−Ｃ３０−アルカノイル、Ｃ５−Ｃ２０−アルケ
ノイル、Ｃ７−Ｃ１１−アロイル、ｃａ−Ｃ１４−アリ
ールアルカノイルまたはｃｓ−ｃ２ｏ−アルキルフェニ
ルを意味し、 Ｒ２は水素またはＣ１−Ｃジアルキルを意味し、Ｒ３は
水素、ｃｌ−Ｃ１８−アルキル、Ｃ３−Ｃ１□−シクロ
アルキル；フェニル基またはナフチル基（これらの基は
塩素またはＣ１−Ｃ４−アルキルによって置換されてい
てもよい）、または場合によってはＣ１−Ｃ４−アルキ
ルによって置換されりＣ７−Ｃ１２−フェニルアルキレ
ン基を意味し、Ｒ４は水素、ｃｌ−Ｃ４−アルキル、Ｃ
５−Ｃ１２−７クロアルキル：−ＣＯＯＨ，カルボ−ｃ
ｌ−Ｃ４−アルコキシまたはカルバモイルによって置換
されたＣ１− Ｃ３−フルケニル：フェニルー、＋７−
ｆ−ルーまたはピリジル基（これらの基はｃｌ−Ｃ４−
アルコキシまたはｃｌ−Ｃ４−アルキルによって置換さ
れていてもよい）、またはＣ７−Ｃ１２−フェニルアル
キル基（この基はｃｌ−Ｃ４−アルキルによって置換さ
れていてもよい）を意味するか、あるいは Ｒ３およびＲ４は、それらと結合している炭素原子と一
緒で、１ないし４個のＣ１−Ｃジアルキル′ 基で置
換されていてもよいＣ５−０１２−シクロアルキル基、
あるいは式■ （上式中 Ｒ１およびＲ２は前記の意味を有する）で表
わされる残基を形成し、 Ｒ５は水素、メチル、フェニルまたはカルボ−Ｃ１−Ｃ
２１−アルコキシを意味し、 Ｒ６は水素またはメチルを意味し、 Ｒ７はｎ ＝ １である場合には、 水素、Ｃ１−Ｃ２１−アルキル、Ｃ２−Ｃ２２−アルケ
ニル、Ｃ７−Ｃ１８−フェニルアルキル、Ｃ５−Ｃ１２
−シクロアルキル、フェニル、ナフチル、Ｃ７−Ｃｌ８
−アルキルフェニル、式 （上式中、ＲおよびＲ２は、前記の意味を有すれ、そし
て／または式■ ５Ｒ６ ”、； で表わされる残基により、またはＣ１−Ｃ２１−アルキ
ルカルボキシルにより置換されていてもよく、ここでこ
れらの式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およ
びＸに前記の意味を有し、そしてＲ８は水素、Ｃ１−Ｃ
１ｏ−アルキルまたは式で表わされる残基を意味する
を意味し、Ｒ７はｎ ＝ ２である場合には、 直鎖状または分校鎖状のＣｌ−Ｃ３０−アルキレン、Ｃ
２−Ｃ３０−アルケニレン、フェニルジアルキレンを意
味し、その際これらの残基は、−０−Ｎ− または 表、（ここにＲ８は前記の意味を有する）によ
り中断されていてもよく、 Ｒ７はｎ ＝ ３または４である場合には、式ＩＶ、Ｖ
、 ＶＩまだは■ −ＣＨ２−ＣＨ−ＣＨ２−（ＩＶ）、 ＣＨ２ Ｃ２Ｒ５−Ｃ−ＣＨ２−（Ｖ）、 ＣＨ２ −ＣＨ２ＣＨ２−Ｎ−ＣＨ２ＣＨ２−（ＶＩ）、ＣＨ２
ＣＨ２− ＣＨ２ 夏 −ＣＨ２−Ｃ−ＣＨ２−（■） ＣＨ２ ■ 味を有するを意味する〕 ｎは好ましくは１または２である。
Ｒ１は好ましくは水素、Ｃ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ２−
Ｃ１８−アルカノイル、例えばメチル、エチル、プロピ
ル、ブチル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、ラウ
ロイル、ステアロイル、特に好ましくは水素または上記
の酸残基のうちの一つである。特にＲ１は水素である。
Ｃ１８−アルカノイル、例えばメチル、エチル、プロピ
ル、ブチル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、ラウ
ロイル、ステアロイル、特に好ましくは水素または上記
の酸残基のうちの一つである。特にＲ１は水素である。
Ｒ２は好ましくは水素またばＣ１−Ｃジアルキル、例、
ｔ ハフチル、エチル、プロピル、ブチルである。特に
Ｒ２は水素である。
ｔ ハフチル、エチル、プロピル、ブチルである。特に
Ｒ２は水素である。
Ｒ３およびＲ４は互いに独立してＣ１−Ｃ１８−アルキ
ル、Ｃ５−０１２−シクロアルキル１ ｋ ハフ ｘ
＝ ル、例えばエチル、ブチル、オクチル、ラウリル、
ステアリル、シクロヘキシル、シクロデシル、特に好ま
しくはＣ１−Ｃ７−アルキルである。特にＲ３およびＲ
４は、Ｃ１−Ｃジアルキル、例えばメチルである。
ル、Ｃ５−０１２−シクロアルキル１ ｋ ハフ ｘ
＝ ル、例えばエチル、ブチル、オクチル、ラウリル、
ステアリル、シクロヘキシル、シクロデシル、特に好ま
しくはＣ１−Ｃ７−アルキルである。特にＲ３およびＲ
４は、Ｃ１−Ｃジアルキル、例えばメチルである。
Ｒ３およびＲ４は、それらと結合している炭素原子と一
緒で好ましくはｃｓ−Ｃ１２−シクロアルキレン、特に
好ましくはＣ６−ないしＣ１２−シクロアルキレン特に
シクロアルキレンである。
緒で好ましくはｃｓ−Ｃ１２−シクロアルキレン、特に
好ましくはＣ６−ないしＣ１２−シクロアルキレン特に
シクロアルキレンである。
Ｒ５は好ましくは水素、メチルまだはフェニル、特に好
ましくは水素である。
ましくは水素である。
Ｒ６は好ましくは水素またはメチルである。特にＲ６は
水素である。
水素である。
Ｒ７は好ましくはｃ、 ＋ Ｃ２１−アルキル、直鎖状
ま ：たは分枝鎖状のＣＩ””Ｃ３０−アルキレ
ン、例えばメ 。
ま ：たは分枝鎖状のＣＩ””Ｃ３０−アルキレ
ン、例えばメ 。
チル、ブチル、オクチル、ラウリル、ミリスチ
ニル、ステアリル、エチリデン、プチルデン、ヘキシリ
デン、特に好ましくはＣ１−Ｃ１５−アルキルまたはＣ
２−Ｃ６−アルキレンである。特にＲ７は、 Ｉ
Ｃ１２− Ｃ１４−アルキル、例えばラウリルまたはＣ
２− ｉないしＣ６−アルキレン、例えばヘキ
シレンであ ！６。 ｊ Ｒ８は好ましくは水素または２， ２， ６． ６−テ
トラ ］ト アルキルピペリド−４−イル、特に２， ２， ６．
６ − ｊテトラメチルピペリド−４−イルで
ある。
ニル、ステアリル、エチリデン、プチルデン、ヘキシリ
デン、特に好ましくはＣ１−Ｃ１５−アルキルまたはＣ
２−Ｃ６−アルキレンである。特にＲ７は、 Ｉ
Ｃ１２− Ｃ１４−アルキル、例えばラウリルまたはＣ
２− ｉないしＣ６−アルキレン、例えばヘキ
シレンであ ！６。 ｊ Ｒ８は好ましくは水素または２， ２， ６． ６−テ
トラ ］ト アルキルピペリド−４−イル、特に２， ２， ６．
６ − ｊテトラメチルピペリド−４−イルで
ある。
式■で表わされる化合物は、式■
で表わされる化合物を式■
びＲ７ならびにＸは前記の意味を有する）で表わされる
化合物と、不活性溶媒中で３０ないし１５０℃の温度に
おいて塩基性触媒の存在下に反応せしめることによって
得られ、その際反応は、本発明によれば、化合物■に関
して０．０５ないし２０モル％の相間移動触媒の存在下
に、室温で液状の芳香族炭化水素中で行なわれることを
特徴とする。
化合物と、不活性溶媒中で３０ないし１５０℃の温度に
おいて塩基性触媒の存在下に反応せしめることによって
得られ、その際反応は、本発明によれば、化合物■に関
して０．０５ないし２０モル％の相間移動触媒の存在下
に、室温で液状の芳香族炭化水素中で行なわれることを
特徴とする。
式■で表わされる化合物は、例えば、有機溶媒中で２０
ないし１００℃の温度において脱水剤の存在下に、式 で表わされる２、６−シメチルー２．６−ジアルキルピ
ペリドンまたはそのようなピペリド／の塩を等モル量の
式 で表ワされるα−ヒドロキシアミドまたは等モル量の式 で表わされるシアンヒドリンと反応させることによって
得られる。その製造方法は、文献によって公知となって
いる。
ないし１００℃の温度において脱水剤の存在下に、式 で表わされる２、６−シメチルー２．６−ジアルキルピ
ペリドンまたはそのようなピペリド／の塩を等モル量の
式 で表ワされるα−ヒドロキシアミドまたは等モル量の式 で表わされるシアンヒドリンと反応させることによって
得られる。その製造方法は、文献によって公知となって
いる。
式■で表わされる適当な化合物は、例えば下記のとおり
である： ２、７．７．９．９−ペンタメチル−１−オキサ−３−
オキソ−４，８−ジアザースピロ−［４，５〕−デカン ２−エチル・−７，７，９，９−テトラメチル−１−オ
キソ−４，８−ジアザ−スピロ−［４，５］−デカン ２−プロピル−７、７，９，９−テトラメチル−１−オ
キサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−［：４，
５］−デカン ２−ブチル−７、７，９，９−テトラメチル−１−オキ
サ−３−オキソ−４，８−ジアザースピロ−１：４，５
）−デカン ２−イン−ブチル−７、７，９，９−テトラメチル−１
−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−［４
，５］−デカン ２−ベンチルーフ、 ７．９．９−テトラメチル−１−
オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−（４，
５：ｌ−デカン ２−イソ−ベンチルーフ、 ７．９．９−テトラメチル
−１−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−
（４，５）−デカン ２−イソ−ヘプチル−７、７，９，９−テトラメチル
□。
である： ２、７．７．９．９−ペンタメチル−１−オキサ−３−
オキソ−４，８−ジアザースピロ−［４，５〕−デカン ２−エチル・−７，７，９，９−テトラメチル−１−オ
キソ−４，８−ジアザ−スピロ−［４，５］−デカン ２−プロピル−７、７，９，９−テトラメチル−１−オ
キサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−［：４，
５］−デカン ２−ブチル−７、７，９，９−テトラメチル−１−オキ
サ−３−オキソ−４，８−ジアザースピロ−１：４，５
）−デカン ２−イン−ブチル−７、７，９，９−テトラメチル−１
−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−［４
，５］−デカン ２−ベンチルーフ、 ７．９．９−テトラメチル−１−
オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−（４，
５：ｌ−デカン ２−イソ−ベンチルーフ、 ７．９．９−テトラメチル
−１−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−
（４，５）−デカン ２−イソ−ヘプチル−７、７，９，９−テトラメチル
□。
−１−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−□スピロ
ー［”４．５］−デカン ２−フェニル−７、７，９，９−テトラメチル−１−１
、オキサ−８−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ
・−［４，５］−デカン ２、２．７．７．９．９−へキサメチル−１−オキサ−
３′−オキソー４．８−ジアザースピロ−（４，５）−
デカン １２、２
．７．７．８．９．９−へブタメチル−１−オキサ−５
・・・ １ ３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−（４，５）−２
，２−ジエチル−７、７，９，９−テトラメチル−１−
オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザースピ “ロ
ー［：４．５］−デカン ２．２−ジエチル−７、７，８，９，９−ペンタメチル
−゛１−オキサー３−オキソー４．８−ジアザースピロ
ー［４，５）−デカン ２．２−ジプロピル−７、７，９，９−テトラメチル−
１−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−［
：４．５］−デカン ２．２−ジプチル−７、７，９，９−テトラメチル−１
−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−（４
，５）−デカン ２．２−ジペンチル−７，７，９，９−テトラメチル−
１−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−［
４，５］−デカン ２−エチル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１−
オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−［：４
．５］−デカン ２−プロピル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１
−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−［４
，５〕−デカン ２−イソ−プロピル−２，７，７，９，９−ペンタメチ
ル−１−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ
−（４，５）−デカン ２−ブチル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１−
オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−（４，
５）−デカン ２−イソ−ブチル−２，７，７，９，９−ペンタメチル
−１−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−
［４，５］−デカン ２−ペンチル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１
−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−［４
，５］−デカン ２−イソ−ペンチル−２，７，７，９，９−ペンタメチ
ル−１−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ
−（４，５，：ｌ−デカン ２−へキシル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１
−オキサ−８−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−［４
，５］−デカン ２−へブチル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１
−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−（４
，５）−デカン ２−ノニル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１−
オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−（４，
５）−デカン ２−ウンデシル−２，７，７，、９，９−ペンタメチル
−１−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−
（４，５：］−デカン ２−エチル−２−ブチル−？、 ７．９．９−テトラメ
チル−１−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピ
ロ−［４，５］−デカン ２−エチル−２−ベンチルーフ、 ７．９．９−テトラ
メチル−１−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−ス
ピロ−Ｃ４，５−一デカン ２−エチルー２−イソーベンチルーフ、 ７．９．９−
テトラメチル−１−オキサ−８−オキソ−４，８−ジア
ザ−スピロ−（４，５）−デカン２、２．７．７．９．
９−へキサメチル−１−オキサ−３−オキソ−４，８−
ジアザ−８−アセチル−スピロ−（：４．５）−デカン ２．２．−ジエチル−７、７，９，９−テトラメチル−
１−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザー８−アセチ
ル−スピロ−［４，５］−デカン２、２．４．４−テト
ラメチル−７−オキサ−１３−オキソ−３，１４−ジア
ザ−ジスピロー［５，１，４，２］−テトラデーｈ：） ２、２．４．４−テトラメチル−７−オキサ−１４−オ
キソ−３，１５−ジアザ−ジスピロー［５，１，５，２
〕−ペンタデカン ２、２．４．４−テトラメチル−７−オキサ−２０−オ
キソ−３，２１−ジアザージスビロー［５，１，１１，
２］−ヘンエイコサン 式■で表わされる適当な化合物の例としては、下記のも
のがあるニ アクリル酸メチル アクリル酸エチル アクリル酸−ｎ−ブチル アクリル酸オクチル アクリル酸ラウリル アクリル酸ミリスチル アクリル酸−２−ジエチルアミノエチルメタクリル酸メ
チル メタクリル酸エチル メタクリル酸−ｎ−ブチル メタクリル酸−イソ−ブチル メタクリル酸−第二一ブチル メタクリル酸ラウリル メタクリル酸シクロヘキシル メタクリル酸アリル メタクリル酸−２−エトキシエチル メタクリル酸−２−ジメチルアミノエチルクロトン酸メ
チル クロトン酸エチル １．４−ブタンジオールジアクリレート１．６−ヘキサ
ンジオールジアクリレート２−エチル−２−ヒドロキシ
メチル−１，３プロパンジオール−トリアクリレート １．４−ブタンジオールジメタクリレートアクリル酸ア
ミド Ｎ、Ｎ−メチレン−ビス（アクリル酸アミド）Ｎ、Ｎ’
−エチレン−ビス（アクリル酸アミド）Ｎ、Ｎ−へキサ
メチレン−ビス（アクリル酸アミド）グリオキサル−ビ
ス（アクリル酸アミド）アクリル酸−２，２，６，６−
テトラメチルピペリド−４−イル クロトン酸−２，２，６，６−テトラメチルピベリドー
４−イル メタクリル酸−２，２，６，６−テトラメチルビペリド
ー４−イル アクリル酸−２，２，６，６−テトラメチルピペリド−
４−イル−アミド クロトン酸−２，２，６，６−テトラメチルピペリド−
４−イル−アミド メタクリル酸−２，２，６，６−テトラメチルピペリド
−４−イル−アミド Ｎ、Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリ
ド−４−イル）−Ｎ、Ｎ’−ビス（アクリル酸アミド）
Ｎ、Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチルビペリ
ドー４−イル）−Ｎ、Ｎ’−へキサメチレン−ビス（ア
クリル酸アミ ド） もう一つの製造方法は、Ｘ＝−Ｏ−およびｎ ＝ １で
ある式■の化合物の合成および引続いての式 ％式％ で表わされるアミンとの反応である。
ー［”４．５］−デカン ２−フェニル−７、７，９，９−テトラメチル−１−１
、オキサ−８−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ
・−［４，５］−デカン ２、２．７．７．９．９−へキサメチル−１−オキサ−
３′−オキソー４．８−ジアザースピロ−（４，５）−
デカン １２、２
．７．７．８．９．９−へブタメチル−１−オキサ−５
・・・ １ ３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−（４，５）−２
，２−ジエチル−７、７，９，９−テトラメチル−１−
オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザースピ “ロ
ー［：４．５］−デカン ２．２−ジエチル−７、７，８，９，９−ペンタメチル
−゛１−オキサー３−オキソー４．８−ジアザースピロ
ー［４，５）−デカン ２．２−ジプロピル−７、７，９，９−テトラメチル−
１−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−［
：４．５］−デカン ２．２−ジプチル−７、７，９，９−テトラメチル−１
−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−（４
，５）−デカン ２．２−ジペンチル−７，７，９，９−テトラメチル−
１−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−［
４，５］−デカン ２−エチル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１−
オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−［：４
．５］−デカン ２−プロピル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１
−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−［４
，５〕−デカン ２−イソ−プロピル−２，７，７，９，９−ペンタメチ
ル−１−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ
−（４，５）−デカン ２−ブチル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１−
オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−（４，
５）−デカン ２−イソ−ブチル−２，７，７，９，９−ペンタメチル
−１−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−
［４，５］−デカン ２−ペンチル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１
−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−［４
，５］−デカン ２−イソ−ペンチル−２，７，７，９，９−ペンタメチ
ル−１−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ
−（４，５，：ｌ−デカン ２−へキシル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１
−オキサ−８−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−［４
，５］−デカン ２−へブチル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１
−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−（４
，５）−デカン ２−ノニル−２，７，７，９，９−ペンタメチル−１−
オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−（４，
５）−デカン ２−ウンデシル−２，７，７，、９，９−ペンタメチル
−１−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−
（４，５：］−デカン ２−エチル−２−ブチル−？、 ７．９．９−テトラメ
チル−１−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−スピ
ロ−［４，５］−デカン ２−エチル−２−ベンチルーフ、 ７．９．９−テトラ
メチル−１−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ−ス
ピロ−Ｃ４，５−一デカン ２−エチルー２−イソーベンチルーフ、 ７．９．９−
テトラメチル−１−オキサ−８−オキソ−４，８−ジア
ザ−スピロ−（４，５）−デカン２、２．７．７．９．
９−へキサメチル−１−オキサ−３−オキソ−４，８−
ジアザ−８−アセチル−スピロ−（：４．５）−デカン ２．２．−ジエチル−７、７，９，９−テトラメチル−
１−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザー８−アセチ
ル−スピロ−［４，５］−デカン２、２．４．４−テト
ラメチル−７−オキサ−１３−オキソ−３，１４−ジア
ザ−ジスピロー［５，１，４，２］−テトラデーｈ：） ２、２．４．４−テトラメチル−７−オキサ−１４−オ
キソ−３，１５−ジアザ−ジスピロー［５，１，５，２
〕−ペンタデカン ２、２．４．４−テトラメチル−７−オキサ−２０−オ
キソ−３，２１−ジアザージスビロー［５，１，１１，
２］−ヘンエイコサン 式■で表わされる適当な化合物の例としては、下記のも
のがあるニ アクリル酸メチル アクリル酸エチル アクリル酸−ｎ−ブチル アクリル酸オクチル アクリル酸ラウリル アクリル酸ミリスチル アクリル酸−２−ジエチルアミノエチルメタクリル酸メ
チル メタクリル酸エチル メタクリル酸−ｎ−ブチル メタクリル酸−イソ−ブチル メタクリル酸−第二一ブチル メタクリル酸ラウリル メタクリル酸シクロヘキシル メタクリル酸アリル メタクリル酸−２−エトキシエチル メタクリル酸−２−ジメチルアミノエチルクロトン酸メ
チル クロトン酸エチル １．４−ブタンジオールジアクリレート１．６−ヘキサ
ンジオールジアクリレート２−エチル−２−ヒドロキシ
メチル−１，３プロパンジオール−トリアクリレート １．４−ブタンジオールジメタクリレートアクリル酸ア
ミド Ｎ、Ｎ−メチレン−ビス（アクリル酸アミド）Ｎ、Ｎ’
−エチレン−ビス（アクリル酸アミド）Ｎ、Ｎ−へキサ
メチレン−ビス（アクリル酸アミド）グリオキサル−ビ
ス（アクリル酸アミド）アクリル酸−２，２，６，６−
テトラメチルピペリド−４−イル クロトン酸−２，２，６，６−テトラメチルピベリドー
４−イル メタクリル酸−２，２，６，６−テトラメチルビペリド
ー４−イル アクリル酸−２，２，６，６−テトラメチルピペリド−
４−イル−アミド クロトン酸−２，２，６，６−テトラメチルピペリド−
４−イル−アミド メタクリル酸−２，２，６，６−テトラメチルピペリド
−４−イル−アミド Ｎ、Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリ
ド−４−イル）−Ｎ、Ｎ’−ビス（アクリル酸アミド）
Ｎ、Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチルビペリ
ドー４−イル）−Ｎ、Ｎ’−へキサメチレン−ビス（ア
クリル酸アミ ド） もう一つの製造方法は、Ｘ＝−Ｏ−およびｎ ＝ １で
ある式■の化合物の合成および引続いての式 ％式％ で表わされるアミンとの反応である。
本発明による方法に使用される溶媒は、室温において液
状の芳香族炭化水素、好ましくはトルエンまたはキシレ
ンでアル。
状の芳香族炭化水素、好ましくはトルエンまたはキシレ
ンでアル。
相間移動触媒としては、好ましくは、ポリエチレングリ
コールジアルキルエーテル、置換ホスホニウム塩、例え
ばテトラアルキルホスホニウムブロマイドまたは置換ア
ンモニウム塩、例えばテトラアルキルアンモニウムハラ
イドまたハトリアルキルベンジルアンモニウムハライト
が添加される。特にトリエチルベンジルアンモニウムク
ロライドまたはテトラアルキルホスホニウムブロマイド
が添加される。その量は、式■で表わされる化合物に関
して０．０５ないし２０モル％、好ましくは０．１ない
し１０モル％、特に工ないし１０モル％でアル。
コールジアルキルエーテル、置換ホスホニウム塩、例え
ばテトラアルキルホスホニウムブロマイドまたは置換ア
ンモニウム塩、例えばテトラアルキルアンモニウムハラ
イドまたハトリアルキルベンジルアンモニウムハライト
が添加される。特にトリエチルベンジルアンモニウムク
ロライドまたはテトラアルキルホスホニウムブロマイド
が添加される。その量は、式■で表わされる化合物に関
して０．０５ないし２０モル％、好ましくは０．１ない
し１０モル％、特に工ないし１０モル％でアル。
化合物■は、化合物■の１モルに対して１／ｎないしＩ
Ｑ／ｎ％好ましくはｌ／ｎないし３／ｎ１特にｌ／ｎな
いし１，５／ｎモル（ここでｎは前記の意味を有する）
の量で使用される。
Ｑ／ｎ％好ましくはｌ／ｎないし３／ｎ１特にｌ／ｎな
いし１，５／ｎモル（ここでｎは前記の意味を有する）
の量で使用される。
反応温度は、３０ないし１５０℃、好ましくは５０ない
し１２０℃、特に７０ないし１２０℃であ □る。
し１２０℃、特に７０ないし１２０℃であ □る。
反応は、塩基性触媒の存在下に行なわれる。
そのようなものとしてアルカリ金属、好ましく □
はナトリウムが、化合物■に関して１ないし８０モル％
、好ましくは２ないし１０モル％の量で使用される。
はナトリウムが、化合物■に関して１ないし８０モル％
、好ましくは２ないし１０モル％の量で使用される。
本発明による方法は、従来技術に比較してかなりの利点
を示す。まず、唯一の、技術的に取扱いの容易な溶媒ま
たは溶媒混合物のみが使用されるのみである。驚くべき
ことには、相間移動触媒によって、反応が実質的によシ
急速に、そしてとシわけより完全に進行し、従って化合
物■は、もはや何倍も過剰に使用する必要はな ン
。
を示す。まず、唯一の、技術的に取扱いの容易な溶媒ま
たは溶媒混合物のみが使用されるのみである。驚くべき
ことには、相間移動触媒によって、反応が実質的によシ
急速に、そしてとシわけより完全に進行し、従って化合
物■は、もはや何倍も過剰に使用する必要はな ン
。
く、僅かな過剰で十分であるという効果が実現 ｉ
する。それにもかかわらず、より高い収、量が得られ、
しかも副生成物の量は減少する。
する。それにもかかわらず、より高い収、量が得られ、
しかも副生成物の量は減少する。
本発明に従って製造された式（Ｉ）で表わされる化合物
は、とりわけ光安定剤として、例えばポリオレフィン、
特にポリエチレンおよびポリプロピレン、エチレン／プ
ロピレン共重合体、ポリブチレン、ならびにポリスチレ
ン、塩素化ポリエチレン、ならびにポリ塩化ビニル、ポ
リエステル、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレ
ート、ポリフェニレンオキサイド、ポリアミド、ポリウ
レタン、ポリプロピレンオキサイド、ポリアセタール、
フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リアクリルニトリルおよび対応する共重合体およびＡＢ
Ｓ−三元重合体のための光安定剤として使用される。
は、とりわけ光安定剤として、例えばポリオレフィン、
特にポリエチレンおよびポリプロピレン、エチレン／プ
ロピレン共重合体、ポリブチレン、ならびにポリスチレ
ン、塩素化ポリエチレン、ならびにポリ塩化ビニル、ポ
リエステル、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレ
ート、ポリフェニレンオキサイド、ポリアミド、ポリウ
レタン、ポリプロピレンオキサイド、ポリアセタール、
フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リアクリルニトリルおよび対応する共重合体およびＡＢ
Ｓ−三元重合体のための光安定剤として使用される。
好ましくは、本発明に従って製造された化合物は、ポリ
プロピレン、低分子量および高分子量のポリエチレン、
エチレン−プロピレン−共重合体、ポリ塩化ビニル、ポ
リエステル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリアクリル
ニトリル、ＡＢＳ 、アクリルエステルとスチレンとア
クリルニトリルの三元重合体、スチレンとアクリルニト
リルとの、またはスチレンとブタジェンとの共重合体の
安定化に、殊にポリプロピレン、ポリエチレン、エチレ
ン／プロピレン共重合体またはＡＢＳの安定化に使用さ
れる。
プロピレン、低分子量および高分子量のポリエチレン、
エチレン−プロピレン−共重合体、ポリ塩化ビニル、ポ
リエステル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリアクリル
ニトリル、ＡＢＳ 、アクリルエステルとスチレンとア
クリルニトリルの三元重合体、スチレンとアクリルニト
リルとの、またはスチレンとブタジェンとの共重合体の
安定化に、殊にポリプロピレン、ポリエチレン、エチレ
ン／プロピレン共重合体またはＡＢＳの安定化に使用さ
れる。
本発明による化合物は、また天然物質、例えばゴム、な
らびにまた潤滑油の安定化のためにも使用されうる。更
にそれらは、塗料類の安定化のためにも好適である。
らびにまた潤滑油の安定化のためにも使用されうる。更
にそれらは、塗料類の安定化のためにも好適である。
塗料としては、工業用塗装に使用されるすべての型のも
の、好ましくは焼付は塗料が使用される。
の、好ましくは焼付は塗料が使用される。
焼付は塗料は、最適の性質を得るために、比較的高い温
度で焼付けされる。好ましいものは湿式塗料であシ、そ
れらは結合剤として下記のものを含有する：油変性ポリ
エステル樹脂（油変性アルキド樹脂）とメラミンーホル
ムアルテヒドー樹脂との組合せまたは非自己架橋性ポリ
アクリル樹脂とメラミン−ホルムアルデヒド樹脂との組
合せあるいは飽和ポリエステルとメラミン−ホルムアル
デヒド樹脂との組合せまたは自己架橋性ポリアクリル樹
脂あるいはまたポリアクリル樹脂と共重合化スチレン。
度で焼付けされる。好ましいものは湿式塗料であシ、そ
れらは結合剤として下記のものを含有する：油変性ポリ
エステル樹脂（油変性アルキド樹脂）とメラミンーホル
ムアルテヒドー樹脂との組合せまたは非自己架橋性ポリ
アクリル樹脂とメラミン−ホルムアルデヒド樹脂との組
合せあるいは飽和ポリエステルとメラミン−ホルムアル
デヒド樹脂との組合せまたは自己架橋性ポリアクリル樹
脂あるいはまたポリアクリル樹脂と共重合化スチレン。
更に、ヒドロキシル基含有アクリル樹脂と脂肪族または
芳香族イソシアネートよりなる２成分系アクリル樹脂塗
料ならびに熱可塑性ポリアクリル樹脂塗料もまた挙げる
べきである。更に、ヒドロキシル基含有ポリエステル樹
脂および／またはポリエーテル樹脂よりなる、脂肪族ま
たは芳香族イソシアネートによって硬化された２成分系
ポリウレタン樹脂塗料もまた挙げられる。メタリック塗
料については、熱可塑性ポリアクリル樹脂または非自己
架橋性ポリアクリル樹脂とブタノール−エーテル化メラ
ミン樹脂との組合せならびに脂肪族インシアネートで硬
化されたヒドロキシル基含有ポリアクリル樹脂がとシわ
け重要である。同様に、例えば、本発明による化合物の
溶液で処理されたそれ自体公知の粉末塗料もまた使用さ
れる。
芳香族イソシアネートよりなる２成分系アクリル樹脂塗
料ならびに熱可塑性ポリアクリル樹脂塗料もまた挙げる
べきである。更に、ヒドロキシル基含有ポリエステル樹
脂および／またはポリエーテル樹脂よりなる、脂肪族ま
たは芳香族イソシアネートによって硬化された２成分系
ポリウレタン樹脂塗料もまた挙げられる。メタリック塗
料については、熱可塑性ポリアクリル樹脂または非自己
架橋性ポリアクリル樹脂とブタノール−エーテル化メラ
ミン樹脂との組合せならびに脂肪族インシアネートで硬
化されたヒドロキシル基含有ポリアクリル樹脂がとシわ
け重要である。同様に、例えば、本発明による化合物の
溶液で処理されたそれ自体公知の粉末塗料もまた使用さ
れる。
保護されるべき材料中への本発明による化合物の導入は
、それ自体公知の方法によって行なわれるが、その際単
量体、プレポリマーまたは前縮合物にこれらの安定剤を
添加することもできる。
、それ自体公知の方法によって行なわれるが、その際単
量体、プレポリマーまたは前縮合物にこれらの安定剤を
添加することもできる。
式１で表わされる化合物に加うるに、更に他の化合物を
プラスチックに添加することもできる。そのような他の
化合物は、例えば、立体障害フェノール類を基礎とした
酸化防止剤、あるいはイオウまたはリンを含有する副安
定剤または適当な立体障害フェノール類とイオウおよび
／またはリン含有化合物との混合物である。そのような
化合物は、例えば、ベンゾフラノン（２）−および／ま
たはインドリノン（２）化合物、立体障害フェノール類
、例えばβ−（４−ヒドロキシ−８，５−ジ−ｔ−ブチ
ルフェニル）−フ □ロピオン酸ステアリル、
テトラキス−〔メチン ：シーａ （ａ： ｓ／
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ ′シーフェニ
ル〕−フロビオネート〕−メタン、１．１．１−）リス
−（２−メチル−４−ヒドロキ ；シー５−ｔ−
ブチルフェニル）−ブタン、１，３゜５−トリス−（４
−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−シメチルペン
ジル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６−（ＩＨ
，８Ｈ，５Ｈ）−トリオン、ビス−（４−ｔ−ブチル−
３−ヒドロキシ−２，６−シメチルペンジル）−ジチオ
ールテレフタレート、トリス−（８，５−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、β−（
４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−
プロピオン酸の１．３．４−１−リス−（２−ヒドロキ
シエチル）−５−トリアジン２．４．６−（ＩＨ。
プラスチックに添加することもできる。そのような他の
化合物は、例えば、立体障害フェノール類を基礎とした
酸化防止剤、あるいはイオウまたはリンを含有する副安
定剤または適当な立体障害フェノール類とイオウおよび
／またはリン含有化合物との混合物である。そのような
化合物は、例えば、ベンゾフラノン（２）−および／ま
たはインドリノン（２）化合物、立体障害フェノール類
、例えばβ−（４−ヒドロキシ−８，５−ジ−ｔ−ブチ
ルフェニル）−フ □ロピオン酸ステアリル、
テトラキス−〔メチン ：シーａ （ａ： ｓ／
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ ′シーフェニ
ル〕−フロビオネート〕−メタン、１．１．１−）リス
−（２−メチル−４−ヒドロキ ；シー５−ｔ−
ブチルフェニル）−ブタン、１，３゜５−トリス−（４
−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−シメチルペン
ジル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６−（ＩＨ
，８Ｈ，５Ｈ）−トリオン、ビス−（４−ｔ−ブチル−
３−ヒドロキシ−２，６−シメチルペンジル）−ジチオ
ールテレフタレート、トリス−（８，５−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、β−（
４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−
プロピオン酸の１．３．４−１−リス−（２−ヒドロキ
シエチル）−５−トリアジン２．４．６−（ＩＨ。
３Ｈ，５Ｈ））リオンとのトリエステル、ビス−〔３，
３−ビス−（４−ヒドロキシ−ａ−ｔ−ブチルフェニル
）−ブタン酸〕−グリコール、２．８．５−トリメチル
−２，４，６−ドリスー（３，５−ジ−ｔ−フチルー４
−ヒドロキシベンジル）−ベンゼン、２．２−メチレン
−ビス−（４′−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル）−
テレフタレート、４．４−メチレン−ビス−（２，６−
ジーも一ブチルフェノール）、４．４′−ブチリデン−
ビス−（１−ブチル−メタ−クレゾール）、４．４−チ
オ−ビス−（２−ｔ−ブチル−５−メチルフェノール）
、２．２′−メチレン−ビス−（４−メチル−６−を−
ブチル−フェノール）である。酸化防止作用を有する副
安定剤、例えばイオウ含有化合物、例えばジステリ了り
ルチオジプロピオネート、ジラウリルチオジプロピオネ
ート、テトラキス−（メチレン−３−ヘキシル−チオプ
ロピオネート）−メタン、テトラキス−（メチレン−３
−ドデシル−チオプロピオネート）−メタンおよびジオ
クタデシルジサルファイドまたはリン含有化合物、例え
ばトリノニルフェニルホスファイト；４，９−ジステア
リル−３，５，８，１０−テトラオキサジホスファスピ
ロ−ウンデカン、トリス−（２，４−ｔ −７−チルフ
ェニル）−ホスファイトまたはテトラキス−（２，４−
ジーＬ−ブチルフェニル） −４，４’−ブチルフェニ
ル） −４，４’−ビフエニレンージホスホナイトのよ
うな副安定剤もまた添加されうる。
３−ビス−（４−ヒドロキシ−ａ−ｔ−ブチルフェニル
）−ブタン酸〕−グリコール、２．８．５−トリメチル
−２，４，６−ドリスー（３，５−ジ−ｔ−フチルー４
−ヒドロキシベンジル）−ベンゼン、２．２−メチレン
−ビス−（４′−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル）−
テレフタレート、４．４−メチレン−ビス−（２，６−
ジーも一ブチルフェノール）、４．４′−ブチリデン−
ビス−（１−ブチル−メタ−クレゾール）、４．４−チ
オ−ビス−（２−ｔ−ブチル−５−メチルフェノール）
、２．２′−メチレン−ビス−（４−メチル−６−を−
ブチル−フェノール）である。酸化防止作用を有する副
安定剤、例えばイオウ含有化合物、例えばジステリ了り
ルチオジプロピオネート、ジラウリルチオジプロピオネ
ート、テトラキス−（メチレン−３−ヘキシル−チオプ
ロピオネート）−メタン、テトラキス−（メチレン−３
−ドデシル−チオプロピオネート）−メタンおよびジオ
クタデシルジサルファイドまたはリン含有化合物、例え
ばトリノニルフェニルホスファイト；４，９−ジステア
リル−３，５，８，１０−テトラオキサジホスファスピ
ロ−ウンデカン、トリス−（２，４−ｔ −７−チルフ
ェニル）−ホスファイトまたはテトラキス−（２，４−
ジーＬ−ブチルフェニル） −４，４’−ブチルフェニ
ル） −４，４’−ビフエニレンージホスホナイトのよ
うな副安定剤もまた添加されうる。
式■で表わされる化合物および前記のそれらの混合物は
、他の添加剤の存在下においても使用されうる。そのよ
うな添加剤は、それ自体公知であり、例えばアミノアク
リル化合物、ＵＶ−吸収剤および光保護剤、例えば２−
Ｃ２／−ヒドロキシフェニル）−ベンズトリアゾール
、２−ヒドロキシベンゾフェノン、１，３−ビス−（２
′−ヒドロキシベンゾイル）−ベンゼン、サリチル酸塩
、ケイ皮酸エステル、場合によっては置換されている安
息香酸のエステル、立体障害アミンおよびシュウ酸ジア
ミドよりなる群に属する。
、他の添加剤の存在下においても使用されうる。そのよ
うな添加剤は、それ自体公知であり、例えばアミノアク
リル化合物、ＵＶ−吸収剤および光保護剤、例えば２−
Ｃ２／−ヒドロキシフェニル）−ベンズトリアゾール
、２−ヒドロキシベンゾフェノン、１，３−ビス−（２
′−ヒドロキシベンゾイル）−ベンゼン、サリチル酸塩
、ケイ皮酸エステル、場合によっては置換されている安
息香酸のエステル、立体障害アミンおよびシュウ酸ジア
ミドよりなる群に属する。
本発明によシ製造された弐Ｉの化合物の使用量は、プラ
スチックの場合には０．０１〜５重量％、安定剤濃縮物
の場合には２０ないし８０重量％そして塗料の場合には
０，０２〜５重量％である。
スチックの場合には０．０１〜５重量％、安定剤濃縮物
の場合には２０ないし８０重量％そして塗料の場合には
０，０２〜５重量％である。
４．８−ジアザ−スピロ−［４，５］−デカン（エダク
トＩ ’） ２４．０ｇ（０，１モル）、 トリエチル
ベンジルアンモニウムクロライド０．８ｇおよびナトリ
ウム０．２ｇを一緒に乾燥トルエン１００ｇに加え、そ
して８０℃に加熱した。アクリル酸メチルエステル１２
．９ｇ（０，１５モル）を３０分間で満願した。
トＩ ’） ２４．０ｇ（０，１モル）、 トリエチル
ベンジルアンモニウムクロライド０．８ｇおよびナトリ
ウム０．２ｇを一緒に乾燥トルエン１００ｇに加え、そ
して８０℃に加熱した。アクリル酸メチルエステル１２
．９ｇ（０，１５モル）を３０分間で満願した。
８０℃において６時間攪拌を続け、次いでこのバッチを
５０１１１Ａ！宛の水と共に振出し、有機相をＮａ２８
０４ 上で乾燥し、濾過しそしてトルエンを留去した。
５０１１１Ａ！宛の水と共に振出し、有機相をＮａ２８
０４ 上で乾燥し、濾過しそしてトルエンを留去した。
７５℃の融点を有する白色の固体８１．６ｇ （理論量
の９８％）が残留した。ガスクロマトグラフィー（ＣＣ
）によれば、この生成物は、２．２．７．７．９．９−
へキサメチル−１−オキサ−３−オキソ−４，８−ジア
ザ−スピロ−［４，５］−□′″′°°′″”゛“°“
°“″゛゛″、ｐ ＩＪ ／Ｌ／ 、。
の９８％）が残留した。ガスクロマトグラフィー（ＣＣ
）によれば、この生成物は、２．２．７．７．９．９−
へキサメチル−１−オキサ−３−オキソ−４，８−ジア
ザ−スピロ−［４，５］−□′″′°°′″”゛“°“
°“″゛゛″、ｐ ＩＪ ／Ｌ／ 、。
酸メチルは、含有していなかった。
例２
操作は例１の場合と同様に行なわれたが、ただしアクリ
ル酸メチルエステルの代シに、アク □リル酸ラウ
リル（Ｃ１２−エステル約５３〜５５％（！： Ｃ１４
−エステル約４２〜４５％の工業用紙混合物） ８８．
１ｇ（０，１５モル）が使用された。油状物質５２ｇが
得られ、それはガスクロマトグラフィーによればなお０
．０６重量％のエダクトＩを含有していた。
ル酸メチルエステルの代シに、アク □リル酸ラウ
リル（Ｃ１２−エステル約５３〜５５％（！： Ｃ１４
−エステル約４２〜４５％の工業用紙混合物） ８８．
１ｇ（０，１５モル）が使用された。油状物質５２ｇが
得られ、それはガスクロマトグラフィーによればなお０
．０６重量％のエダクトＩを含有していた。
例３
例１に記載されているように、エダクトエ２４．０ｇ（
０，１モル）ヲトリメチロールプロパントリアクリレー
ト１０．４ｇ（０，０８５モル）と反応せしめた。
０，１モル）ヲトリメチロールプロパントリアクリレー
ト１０．４ｇ（０，０８５モル）と反応せしめた。
８０〜９０℃の融点を有する固体２７．９ｇが得られた
。
。
例４
例１に従って製造された化合物８２．６ｇ（０，１モル
）をキシレン１００ｇ中に溶解し、水分離器で乾燥しそ
してヘキサメチレンジアミン５．８ ｇ （０，０５モ
ル）および水素化ナトリウム０．１ｇを添加した。２０
時間の間にカラムによりメタノール約８．２ｇ（０，１
モル）が留去された。冷却後、沈殿物を吸引濾過しそし
て沸騰へブタンで洗滌した。無色の生成物は、２０４℃
の融点を有していた。
）をキシレン１００ｇ中に溶解し、水分離器で乾燥しそ
してヘキサメチレンジアミン５．８ ｇ （０，０５モ
ル）および水素化ナトリウム０．１ｇを添加した。２０
時間の間にカラムによりメタノール約８．２ｇ（０，１
モル）が留去された。冷却後、沈殿物を吸引濾過しそし
て沸騰へブタンで洗滌した。無色の生成物は、２０４℃
の融点を有していた。
例５
２、２．７．７．９．９−へキサメチル−１−オキサ−
３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−（４，５）−デ
カン８．６ｇ（０，０８６モル）をトルエン１００．０
ｇ中に仕込み、そして水分離器において沸騰せしめるこ
とにより乾燥した。次いで８０℃においてトリエチルベ
ンジルアンモニウムクロライト０．４ｇ、ナトリウム０
．２ｇおよびＮ、Ｎ−へキサメチレン−ビス（アクリル
酸アミド） ４．０ｇ（０，０１８モル）を添加し、そ
してこの温度において約１２時間攪拌した。得られた沈
殿物を吸引濾過しそしてトルエンより再結晶した。無色
の生成物１０、５ ｇが得られた：融点＝２０４℃；分
子量（実測値）７１０、計算値７０４゜ ＣＨＮ分析値：
３−オキソ−４，８−ジアザ−スピロ−（４，５）−デ
カン８．６ｇ（０，０８６モル）をトルエン１００．０
ｇ中に仕込み、そして水分離器において沸騰せしめるこ
とにより乾燥した。次いで８０℃においてトリエチルベ
ンジルアンモニウムクロライト０．４ｇ、ナトリウム０
．２ｇおよびＮ、Ｎ−へキサメチレン−ビス（アクリル
酸アミド） ４．０ｇ（０，０１８モル）を添加し、そ
してこの温度において約１２時間攪拌した。得られた沈
殿物を吸引濾過しそしてトルエンより再結晶した。無色
の生成物１０、５ ｇが得られた：融点＝２０４℃；分
子量（実測値）７１０、計算値７０４゜ ＣＨＮ分析値：
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、式 I ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）、 上式中、 ｎは１ないし４の整数であり、 Ｒ＾１は水素、Ｃ＿１−Ｃ＿４−アルキル、ベンジル、
アリル、Ｃ＿２−Ｃ＿３＿０−アルカノイル、Ｃ＿３−
Ｃ＿２＿０−アルケノイル、Ｃ＿７−Ｃ＿１＿１−アロ
イル、Ｃ＿８−Ｃ＿１＿４−アリールアルカノイルまた
はＣ＿８−Ｃ＿２＿０−アルキルアリールを意味し、 Ｒ＾２は水素またはＣ＿１−Ｃ＿４−アルキルを意味し
、Ｒ＾３は水素、Ｃ＿１−Ｃ＿１＿８−アルキル、Ｃ＿
５−Ｃ＿１＿２−シクロアルキル；フェニル基またはナ
フチル基 （これらの基は塩素またはＣ＿１−Ｃ＿４−アルキルに
よつて置換されていてもよい）、また は場合によつてはＣ＿１−Ｃ＿４−アルキルによつて置
換されたＣ＿７−Ｃ＿１＿２−フェニルアルキレン基を
意味し、 Ｒ＾４は水素、Ｃ＿１−Ｃ＿４−アルキル、Ｃ＿５−Ｃ
＿１＿２−シクロアルキル；−ＣＯＯＨ、カルボ−Ｃ＿
１−Ｃ＿４−アルコキシまたはカルバモイルによつて置
換 されたＣ＿１−Ｃ＿３−アルケニル；フェニル−、ナフ
チル−またはピリジル基（これらの基 はＣ＿１−Ｃ＿４−アルコキシまたはＣ＿１−Ｃ＿４−
アルキルによつて置換されていてもよい）、ま たはＣ＿７−Ｃ＿１＿２−フェニルアルキル基（この基
はＣ＿１−Ｃ＿４−アルキルによつて置換されていても
よい）を意味するか、あるいは Ｒ＾３およびＲ＾４は、それらと結合している炭素原子
と一緒で、１ないし４個のＣ＿１−Ｃ＿４−アルキル基
で置換されていてもよいＣ＿５−Ｃ＿１＿２−シクロア
ルキル基、あるいは式II ▲数式、化学式、表等があります▼（II）、 （上式中、Ｒ＾１およびＲ＾２は前記の意味を有する）
で表わされる残基を形成し、 Ｒ＾５は水素、メチル、フェニルまたはカルボ−Ｃ＿１
−Ｃ＿２＿１−アルコキシを意味し、Ｒ＾６は水素また
はメチルを意味し、 Ｒ＾７はｎ＝１である場合には、 水素、Ｃ＿１−Ｃ＿２＿１−アルキル、Ｃ＿２−Ｃ＿２
＿２−アルケニル、Ｃ＿７−Ｃ＿１＿８−フェニルアル
キル、Ｃ＿５−Ｃ＿１＿２−シクロアルキル、フェニル
、ナフチル、 Ｃ＿７−Ｃ＿１＿８−アルキルフェニル、式▲数式、化
学式、表等があります▼ （上式中、Ｒ＾１およびＲ＾２は、前記の意味を有する
）で表わされる残基、Ｃ＿２−Ｃ＿２＿０−アルキル｛
これは−Ｏ−または▲数式、化学式、表等があります▼
によつて中 断され、そして／または式III ▲数式、化学式、表等があります▼（III）、 で表わされる残基により、またはＣ＿１−Ｃ＿２＿１−
アルキルカルボキシルにより置換されてい てもよく、ここでこれらの式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾
３、Ｒ＾４、Ｒ＾５、Ｒ＾６およびＸは前記の意味を有
し、そしてＲ＾８は水素、Ｃ＿１−Ｃ＿１＿０−アルキ
ルまたは残基 ▲数式、化学式、表等があります▼ （上式中、Ｒ＾１およびＲ＾２は前記の意味を有する）
を意味する｝を意味し、 Ｒ＾７はｎ＝２である場合には、 直鎖状または分枝鎖状のＣ＿１−Ｃ＿３＿０−アルキレ
ン、Ｃ＿２−Ｃ＿３＿０−アルケニレン、フェニルジア
ルキレンを意味し、その際これらの残基は、−Ｏ−また
は▲数式、化学式、表等があります▼（ここにＲ＾８は
前記の意味を有する）により中断されていてもよく、Ｒ
＾７はｎ＝３または４である場合には、 式IV、Ｖ、VIまたはVII ▲数式、化学式、表等があります▼（IV）、 ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ）、 ▲数式、化学式、表等があります▼（VI）、 ▲数式、化学式、表等があります▼（VII） で表わされる残基を意味し、そして Ｘは−Ｏ−または▲数式、化学式、表等があります▼（
ここにＲ＾８は前記の意味を有する）を意味する〕 で表わされる１−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ
−スピロ−〔４，５〕−デカン化合物。 ２、式 I において、 ｎが１または２を意味し、 Ｒ＾１が水素またはアセチルであり、 Ｒ＾２が水素であり、 Ｒ＾３およびＲ＾４が互いに独立してＣ＿１−Ｃ＿７−
アルキルを意味し、 Ｒ＾５およびＲ＾６が互いに独立して水素またはメチル
を意味し、 Ｒ＾７がＣ＿２−Ｃ＿２＿０−アルキル、Ｃ＿１−Ｃ＿
３＿０−アルキレン（これは残基−Ｏ−または▲数式、
化学式、表等があります▼によつて 中断されていてもよく、ここにＲ＾８は水素、Ｃ＿１−
Ｃ＿１＿０−アルキルまたは式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる残基である）を意味し、 そして Ｘが−Ｏ−または▲数式、化学式、表等があります▼（
ここにＲ＾８は上記の意味を有する）を意味する特許請
求の範囲 第１項記載の化合物。 ３、式 I ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）、 上式中、 ｎは１ないし４の整数であり、 Ｒ＾１は水素、Ｃ＿１−Ｃ＿４−アルキル、ベンジル、
アリル、Ｃ＿２−Ｃ＿３＿０−アルカノイル、Ｃ＿３−
Ｃ＿２＿０−アルケノイル、Ｃ＿７−Ｃ＿１＿１−アロ
イル、Ｃ＿８−Ｃ＿１＿４−アリールアルカノイルまた
はＣ＿８−Ｃ＿２＿０−アルキルアリールを意味し、 Ｒ＾２は水素またはＣ＿１−Ｃ＿４−アルキルを意味し
、Ｒ＾３は水素、Ｃ＿１−Ｃ＿１＿８−アルキル、Ｃ＿
５−Ｃ＿１＿２−シクロアルキル；フェニル基またはナ
フチル基 （これらの基は塩素またはＣ＿１−Ｃ＿４−アルキルに
よつて置換されていてもよい）、また は場合によつてはＣ＿１−Ｃ＿４−アルキルによつて置
換されたＣ＿７−Ｃ＿１＿２−フェニルアルキレン基を
意味し、 Ｒ＾４は水素、Ｃ＿１−Ｃ＿４−アルキル、Ｃ＿５−Ｃ
＿１＿２−シクロアルキル；−ＣＯＯＨ、カルボ−Ｃ＿
１−Ｃ＿４−アルコキシまたはカルバモイルによつて置
換 されたＣ＿１−Ｃ＿３−アルケニル；フェニル−、ナフ
チル−またはピリジル基（これらの基 はＣ＿１−Ｃ＿４−アルコキシまたはＣ＿１−Ｃ＿４−
アルキルによつて置換されていてもよい）、ま たはＣ＿７−Ｃ＿１＿２−フェニルアルキル基（この基
はＣ＿１−Ｃ＿４−アルキルによつて置換されていても
よい）を意味するか、あるいは Ｒ＾３およびＲ＾４は、それらと結合している炭素原子
と一緒で、１ないし４個のＣ＿１−Ｃ＿４−アルキル基
で置換されていてもよいＣ＿５−Ｃ＿１＿２−シクロア
ルキル基、あるいは式II ▲数式、化学式、表等があります▼（II）、 （上式中、Ｒ＾１およびＲ＾２は前記の意味を有する）
で表わされる残基を形成し、 Ｒ＾５は水素、メチル、フェニルまたはカルボ−Ｃ＿１
−Ｃ＿２＿１−アルコキシを意味し、Ｒ＾６は水素また
はメチルを意味し、 Ｒ＾７はｎ＝１である場合には、 水素、Ｃ＿１−Ｃ＿２＿１−アルキル、Ｃ＿２−Ｃ＿２
＿２−アルケニル、Ｃ＿７−Ｃ＿１＿８−フェニルアル
キル、Ｃ＿５−Ｃ＿１＿２−シクロアルキル、フェニル
、ナフチル、 Ｃ＿７−Ｃ＿１＿８−アルキルフェニル、式▲数式、化
学式、表等があります▼ （上式中、Ｒ＾１およびＲ＾２は、前記の意味を有する
）で表わされる残基、Ｃ＿２−Ｃ＿２＿０−アルキル｛
これは−Ｏ−または▲数式、化学式、表等があります▼
によつて中 断され、そして／または式III ▲数式、化学式、表等があります▼（III） で表わされる残基により、またはＣ＿１−Ｃ＿２＿１−
アルキルカルボキシルにより置換されてい てもよく、ここでこれらの式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾
３、Ｒ＾４、Ｒ＾５、Ｒ＾６およびＸは前記の意味を有
し、そしてＲ＾８は水素、Ｃ＿１−Ｃ＿１＿０−アルキ
ルまたは残基 ▲数式、化学式、表等があります▼ （上式中、Ｒ＾１およびＲ＾２は前記の意味を有する）
を意味する｝を意味し、 Ｒ＾７はｎ＝２である場合には、 直鎖状または分枝鎖状のＣ＿１−Ｃ＿３＿０−アルキレ
ン、Ｃ＿２−Ｃ＿３＿０−アルケニレン、フェニルジア
ルキレンを意味し、その際これらの残基は、−Ｏ−また
は▲数式、化学式、表等があります▼（ここにＲ＾８は
前記の意味を有する）により中断されていてもよく、Ｒ
＾７はｎ＝３または４である場合には、 式IV、Ｖ、VIまたはVII ▲数式、化学式、表等があります▼（IV）、 ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ）、 ▲数式、化学式、表等があります▼（VI）、 ▲数式、化学式、表等があります▼（VII）、 で表わされる残基を意味し、そして Ｘは−Ｏ−または▲数式、化学式、表等があります▼（
ここにＲ＾８は前記の意味を有する）を意味する〕 で表わされる化合物を製造すべく、１−オキサ−３−オ
キソ−４，８−ジアザ−スピロ−〔４，５〕−デカン化
合物をγ−δ−不飽和化合物と、不活性溶媒中で３０な
いし１５０℃の温度において塩基性触媒の存在下に反応
させることにより製造するにあたり、式VIII ▲数式、化学式、表等があります▼（VIII） （上式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾４は前記
の意味を有する）で表わされる化合物を式IX ▲数式、化学式、表等があります▼（IX） （上式中、ｎ、Ｒ＾５、Ｒ＾６およびＲ＾７は、前記の
意味を有する）で表わされる化合物と、化合物VIIIに関
して０．０５ないし２０モル％の相間移動触媒の存在下
に、室温で液状の芳香族炭化水素中で反応させることを
特徴とする前記式 I で表わされる化合物の製造方法。 ４、相間移動触媒として置換アンモニウム塩またはホス
ホニウム塩またはポリエチレングリコールジアルキルエ
ーテルを使用する特許請求の範囲第３項記載の方法。 ５、相間移動触媒としてテトラアルキル−またはトリア
ルキルベンジルアンモニウムクロライドを使用する特許
請求の範囲第４項記載の方法。 ６、相間移動触媒としてテトラアルキルホスホニウムプ
ロマイドを使用する特許請求の範囲第４項記載の方法。 ７、式 I ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）、 上式中、 ｎは１ないし４の整数であり、 Ｒ＾１は水素、Ｃ＿１−Ｃ＿４−アルキル、ベンジル、
アリル、Ｃ＿２−Ｃ＿３＿０−アルカノイル、Ｃ＿３−
Ｃ＿２＿０−アルケノイル、Ｃ＿７−Ｃ＿１＿１−アロ
イル、Ｃ＿８−Ｃ＿１＿４−アリールアルカノイルまた
はＣ＿８−Ｃ＿２＿０−アルキルアリールを意味し、 Ｒ＾２は水素またはＣ＿１−Ｃ＿４−アルキルを意味し
、Ｒ＾３は水素、Ｃ＿１−Ｃ＿１＿８−アルキル、Ｃ＿
５−Ｃ＿１＿２−シクロアルキル；フェニル基またはナ
フチル基 （これらの基は塩素またはＣ＿１−Ｃ＿４−アルキルに
よつて置換されていてもよい）、また は場合によつてはＣ＿１−Ｃ＿４−アルキルによつて置
換されたＣ＿７−Ｃ＿１＿２−フェニルアルキレン基を
意味し、 Ｒ＾４は水素、Ｃ＿１−Ｃ＿４−アルキル、Ｃ＿５−Ｃ
＿１＿２−シクロアルキル；−ＣＯＯＨ、カルボ−Ｃ＿
１−Ｃ＿４−アルコキシまたはカルバモイルによつて置
換 されたＣ＿１−Ｃ＿３−アルケニル；フェニル−、ナフ
チル−またはピリジル基（これらの基 はＣ＿１−Ｃ＿４−アルコキシまたはＣ＿１−Ｃ＿４−
アルキルによつて置換されていてもよい）、ま たはＣ＿７−Ｃ＿１＿２−フェニルアルキル基（この基
はＣ＿１−Ｃ＿４−アルキルによつて置換されていても
よい）を意味するか、あるいは Ｒ＾３およびＲ＾４は、それらと結合している炭素原子
と一緒で、１ないし４個のＣ＿１−Ｃ＿４−アルキル基
で置換されていてもよいＣ＿５−Ｃ＿１＿２−シクロア
ルキル基、あるいは式II ▲数式、化学式、表等があります▼（II）、 （上式中、Ｒ＾１およびＲ＾２は前記の意味を有する）
で表わされる残基を形成し、 Ｒ＾５は水素、メチル、フェニルまたはカルボ−Ｃ＿１
−Ｃ＿２＿１−アルコキシを意味し、Ｒ＾６は水素また
はメチルを意味し、 Ｒ＾７はｎ＝１である場合には、 水素、Ｃ＿１−Ｃ＿２＿１−アルキル、Ｃ＿２−Ｃ＿２
＿２−アルケニル、Ｃ＿７−Ｃ＿１＿８−フェニルアル
キル、Ｃ＿５−Ｃ＿１＿２−シクロアルキル、フェニル
、ナフチル、 Ｃ＿７−Ｃ＿１＿８−アルキルフェニル、式▲数式、化
学式、表等があります▼ （上式中、Ｒ＾１およびＲ＾２は、前記の意味を有する
）で表わされる残基、Ｃ＿２−Ｃ＿２＿０−アルキル｛
これは−Ｏ−または▲数式、化学式、表等があります▼
によつて中 断され、そして／または式III ▲数式、化学式、表等があります▼（III）、 で表わされる残基により、またはＣ＿１−Ｃ＿２＿１−
アルキルカルボキシルにより置換されてい てもよく、ここでこれらの式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾
３、Ｒ＾４、Ｒ＾５、Ｒ＾６およびＸは前記の意味を有
し、そしてＲ＾８は水素、Ｃ＿１−Ｃ＿１＿０−アルキ
ルまたは残基 ▲数式、化学式、表等があります▼ （上式中、Ｒ＾１およびＲ＾２は前記の意味を有する）
を意味する｝を意味し、 Ｒ＾７はｎ＝２である場合には、 直鎖状または分枝鎖状のＣ＿１−Ｃ＿３＿０−アルキレ
ン、Ｃ＿２−Ｃ＿３＿０−アルケニレン、フェニルジア
ルキレンを意味し、その際これらの残基は、−Ｏ−また
は▲数式、化学式、表等があります▼（ここにＲ＾８は
前記の意味を有する）により中断されていてもよく、Ｒ
＾７はｎ＝３または４である場合には、 式IV、Ｖ、VIまたはVII ▲数式、化学式、表等があります▼（IV）、 ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ）、 ▲数式、化学式、表等があります▼（VI）、 ▲数式、化学式、表等があります▼（VII） で表わされる残基を意味し、そして Ｘは−Ｏ−または▲数式、化学式、表等があります▼（
ここにＲ＾８は前記の意味を有する）を意味する〕 で表わされる１−オキサ−３−オキソ−４，８−ジアザ
−スピロ−〔４，５〕−デカン化合物を含有する、合成
重合体用または塗料用の安定剤。 ８、合成重合体を光の有害な影響に対して安定化させる
ために、場合によつては従来公知の安定作用物質のほか
に、上記重合体に関して０．０１ないし５重量部の式
I で表わされる化合物を添加する特許請求の範囲第７項
記載の光安定剤。 ９、光の有害な影響に対して塗料を安定化させるために
、上記塗料に、場合によつては従来公知の安定作用物質
のほかに、上記塗料に関して０．０２ないし５重量部の
式 I で表わされる化合物を添加する特許請求の範囲第
７項記載の光安定剤。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3524542.5 | 1985-07-10 | ||
| DE19853524542 DE3524542A1 (de) | 1985-07-10 | 1985-07-10 | 1-oxa-3-oxo-4,8-diaza-spiro-(4,5)decan- verbindungen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6212782A true JPS6212782A (ja) | 1987-01-21 |
| JP2573188B2 JP2573188B2 (ja) | 1997-01-22 |
Family
ID=6275353
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61159891A Expired - Lifetime JP2573188B2 (ja) | 1985-07-10 | 1986-07-09 | １−オキサ−３−オキソ−４、８−ジアザ−スピロ−〔４、５〕−デカン化合物、それらの製造方法およびそれらの用途 |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4745192A (ja) |
| EP (1) | EP0208264B1 (ja) |
| JP (1) | JP2573188B2 (ja) |
| AR (1) | AR247397A1 (ja) |
| AT (1) | ATE45741T1 (ja) |
| AU (1) | AU585367B2 (ja) |
| BR (1) | BR8603216A (ja) |
| CA (1) | CA1285948C (ja) |
| DE (2) | DE3524542A1 (ja) |
| ES (1) | ES2000320A6 (ja) |
| MX (1) | MX163112B (ja) |
| ZA (1) | ZA865122B (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| AU621082B2 (en) * | 1988-02-08 | 1992-03-05 | Ciba-Geigy Ag | Tetramethylpiperidino-s-triazines |
| US5116976A (en) * | 1990-07-17 | 1992-05-26 | Atochem North America, Inc | Hindered amine light stabilizer hydrazides |
| US5464871A (en) * | 1993-05-12 | 1995-11-07 | Octamer, Inc. | Aromatic nitro and nitroso compounds and their metabolites useful as anti-viral and anti-tumor agents |
| DE4423055A1 (de) * | 1994-07-01 | 1996-01-11 | Hoechst Ag | Polyalkylpiperidin-Verbindungen |
| US5585387A (en) * | 1994-10-07 | 1996-12-17 | Torcan Chemical Ltd. | Prepration of cisapride |
| CN101903025A (zh) * | 2007-10-19 | 2010-12-01 | 彼帕科学公司 | 利用苯并吡喃酮-型parp抑制剂治疗癌症的方法和组合物 |
| EP2440557B1 (en) * | 2009-06-08 | 2017-04-05 | Basf Se | Novel sterically hindered amine light stabilizers |
| US8669281B1 (en) | 2013-03-14 | 2014-03-11 | Alkermes Pharma Ireland Limited | Prodrugs of fumarates and their use in treating various diseases |
| KR102085557B1 (ko) | 2013-03-14 | 2020-03-06 | 엘커메스 파마 아일랜드 리미티드 | 푸마레이트의 프로드럭 및 다양한 질환을 치료하는데 있어서의 이들의 용도 |
| JP6337135B2 (ja) | 2014-02-24 | 2018-06-06 | アルカーメス ファーマ アイルランド リミテッド | フマル酸エステルのスルホンアミドプロドラッグ及びスルフィンアミドプロドラッグ並びに種々の疾患の治療におけるその使用 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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