JPS6212828A - 真空装置におけるリ−クテスト方法および装置 - Google Patents
真空装置におけるリ−クテスト方法および装置Info
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- JPS6212828A JPS6212828A JP15003185A JP15003185A JPS6212828A JP S6212828 A JPS6212828 A JP S6212828A JP 15003185 A JP15003185 A JP 15003185A JP 15003185 A JP15003185 A JP 15003185A JP S6212828 A JPS6212828 A JP S6212828A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ガスクロマトグラフィーを用いた、プラズマ
OVD等の真空装置におけるリークテスト方法、および
その方法を実施するための装置に関するものである。
OVD等の真空装置におけるリークテスト方法、および
その方法を実施するための装置に関するものである。
容器内のあるいは雰囲気中の微量のガス奢分析するため
、従来種々の方法が用いら1ている。
、従来種々の方法が用いら1ている。
例えばデンペ内のガスの分析等、大気圧以上の元圧のあ
るガスの場&nm a−ガスクロマトグラフィー(G
O)Kよる微量分析、b、ガスクロマトグラフィーと質
量分析計を組み仕わせたGo/MS法による微量分析が
行わnでいる。
るガスの場&nm a−ガスクロマトグラフィー(G
O)Kよる微量分析、b、ガスクロマトグラフィーと質
量分析計を組み仕わせたGo/MS法による微量分析が
行わnでいる。
真空装置の場合#:C,一般に質量分析計によっている
。さらに、真空容器の場合は& a、X空排気系とガ
ス分析計にLるものが普通であり、ごく稀に、b、真空
容器(サンプリング容器)にヘリウムを充填し、ガスク
ロマトグラフィーにかける方法が行われている。
。さらに、真空容器の場合は& a、X空排気系とガ
ス分析計にLるものが普通であり、ごく稀に、b、真空
容器(サンプリング容器)にヘリウムを充填し、ガスク
ロマトグラフィーにかける方法が行われている。
本発明が対象とするプラズマ0VD等の真空装置におけ
るリークテストにおいては、ガス分析にガスクロマトグ
ラフィーを利用することに従来提案されていない。その
理由は1例えばシランガス中にリークした微量のガスの
検出にガスクロマトグラフィーが用いらnることがある
が、真空装置にシランガスを導入し穴場付は、装置内部
のガス圧が低いため1通常ガスクロマトグラフィーによ
る分析に必要な大気圧程度の圧力上宿するl−程度のガ
スを得ることができないからである。
るリークテストにおいては、ガス分析にガスクロマトグ
ラフィーを利用することに従来提案されていない。その
理由は1例えばシランガス中にリークした微量のガスの
検出にガスクロマトグラフィーが用いらnることがある
が、真空装置にシランガスを導入し穴場付は、装置内部
のガス圧が低いため1通常ガスクロマトグラフィーによ
る分析に必要な大気圧程度の圧力上宿するl−程度のガ
スを得ることができないからである。
一方、中程度の真空(10〜0./ Tart)の雰囲
気の圧力を大気圧まで上昇するには、使用中のポンプの
後段を使えば大気圧のガス勿サンプリングすることがで
きる。しかしながら、油回転ポンプを用いると、排出す
るガスは(装置内のガスノ+(油蒸気を含むガスノとな
り、リークガスの検出に不可能となる。
気の圧力を大気圧まで上昇するには、使用中のポンプの
後段を使えば大気圧のガス勿サンプリングすることがで
きる。しかしながら、油回転ポンプを用いると、排出す
るガスは(装置内のガスノ+(油蒸気を含むガスノとな
り、リークガスの検出に不可能となる。
ガスクロマトグラフィーは、シラン(81)T4ノ、0
2、N2等全分離するのに最適な装置であり、とnらの
ガスの分析にガスクロマトグラフィーを利用することは
きわめて望ましいことである。
2、N2等全分離するのに最適な装置であり、とnらの
ガスの分析にガスクロマトグラフィーを利用することは
きわめて望ましいことである。
本発明は、プラズマ0VD等の真空装置に対してガスク
ロマトグラフィーの使用を可能とする、リークテスト方
法、およびその方法を実施する装置i提供することを目
的としている。
ロマトグラフィーの使用を可能とする、リークテスト方
法、およびその方法を実施する装置i提供することを目
的としている。
真空装置の排気系においては、装置とメカニカルブース
タおよび油回転ポンプが管にエリ順次に連結さn、最後
にノぐ−ジ用N2管が連結さ几る。前記排気系において
1例えば、真空装置とメカニカルブースタの間の管路(
AJの圧力はθ、/ Torr、メカニカルブースタと
油回転ポンプの間の管路(8)の圧力(4/ OTor
r *排気管Co)の圧力は大気圧以上となる。
タおよび油回転ポンプが管にエリ順次に連結さn、最後
にノぐ−ジ用N2管が連結さ几る。前記排気系において
1例えば、真空装置とメカニカルブースタの間の管路(
AJの圧力はθ、/ Torr、メカニカルブースタと
油回転ポンプの間の管路(8)の圧力(4/ OTor
r *排気管Co)の圧力は大気圧以上となる。
そこで、ガスクロマトグラフィーを利用する場−fi考
えると゛、上記0の点からサンプリングしょうとすると
、ガスt−N2ノぐ一ジするため排気さtt7cガスは
ほとんどN2のみであって、分析はできないことになる
。
えると゛、上記0の点からサンプリングしょうとすると
、ガスt−N2ノぐ一ジするため排気さtt7cガスは
ほとんどN2のみであって、分析はできないことになる
。
し穴がって、ガスをサンプリングする点は上記8点しか
ないことになる。そしてサンプリングするガスに、ガス
クロマトグラフィーによる分析には一定圧力のかつ一定
量のガスと、一定の時間が必要であることから、ガスが
所定量かつ所定圧に達するまで(ポンプの排気能力が不
足の場@−vcは。
ないことになる。そしてサンプリングするガスに、ガス
クロマトグラフィーによる分析には一定圧力のかつ一定
量のガスと、一定の時間が必要であることから、ガスが
所定量かつ所定圧に達するまで(ポンプの排気能力が不
足の場@−vcは。
数台のポンプを直列に接続しても工い、)適当な場所に
一時蓄積しておくことが必要になる。
一時蓄積しておくことが必要になる。
し罠がって、本発明は、上記の問題点を解決する手段と
して。
して。
t 真空装置の排気系の中間部からガスを吸入。
加圧し、該加圧さnたガスを定期的に弁を有する密閉空
間に導入、蓄積し、該蓄積さfLにガスが一定圧力に達
し罠とき、弁を開いてこn會ガスクロマトグラフィーに
導入して分析すること勿特徴とする。真空装置における
リークテスト方法。
間に導入、蓄積し、該蓄積さfLにガスが一定圧力に達
し罠とき、弁を開いてこn會ガスクロマトグラフィーに
導入して分析すること勿特徴とする。真空装置における
リークテスト方法。
ユ 真空装置の排気系の中間部にドライビングま?c#
′;rオイルミストトラップを備えた油回転ポンプを連
結し、その排気口を弁を備え*tl!f閉空間に接続し
、さらに該密閉空間にガスクロマトグラフィー會接続し
、前記弁を定期的に開閉して前記空間に蓄積さt″L′
fc一定量かつ一定圧力のガスをガスクロマトグラフィ
ーに送って分析することを特徴とする。真空装置におけ
るリークテスト方法置。
′;rオイルミストトラップを備えた油回転ポンプを連
結し、その排気口を弁を備え*tl!f閉空間に接続し
、さらに該密閉空間にガスクロマトグラフィー會接続し
、前記弁を定期的に開閉して前記空間に蓄積さt″L′
fc一定量かつ一定圧力のガスをガスクロマトグラフィ
ーに送って分析することを特徴とする。真空装置におけ
るリークテスト方法置。
を提供することにより、ガス分析にきわめて有効なガス
クロマトグラフィーの利用を可能とし、#記プラズマO
VD等の真空装置へのリークを確実に検出することがで
きる。
クロマトグラフィーの利用を可能とし、#記プラズマO
VD等の真空装置へのリークを確実に検出することがで
きる。
以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第1図において、/はプラズマCVD等の真空装置テ、
メカニカルブースタポンプλ、油回転ポンプ3を通る排
気管gKよって常時排気さnている。4灯油回転ポンプ
で、弁v1お工びビラニ真空計G、′に有する管!に工
9メ々ニカルブースタボンプコと油回転ポンプ3の間で
排気管μに接続さnている。油回転ポンプ乙の排気側に
は排気管♂が連結さfi、管r [H,ヘリウムタイト
型のオイルミストトラップ7、弁V2お工び弁v3ヲ備
えたパージガス(N、27管りがその順に取り付けられ
ている。
メカニカルブースタポンプλ、油回転ポンプ3を通る排
気管gKよって常時排気さnている。4灯油回転ポンプ
で、弁v1お工びビラニ真空計G、′に有する管!に工
9メ々ニカルブースタボンプコと油回転ポンプ3の間で
排気管μに接続さnている。油回転ポンプ乙の排気側に
は排気管♂が連結さfi、管r [H,ヘリウムタイト
型のオイルミストトラップ7、弁V2お工び弁v3ヲ備
えたパージガス(N、27管りがその順に取り付けられ
ている。
管rのオイルミストトラップ7と弁v2の間には。
弁V42!i−備えた管10が接続さ1ている。管10
の端部には弁v5ヲ備え次排気管//、弁v6を備えた
管12お工び弁V、2備えた管/3が接続さnてイテ、
コfiらの弁v4. v5. v6. v、 r囲ま
n72管路10.//、/2./Jの部分は開閉可能な
密閉空間/IAを形成している。
の端部には弁v5ヲ備え次排気管//、弁v6を備えた
管12お工び弁V、2備えた管/3が接続さnてイテ、
コfiらの弁v4. v5. v6. v、 r囲ま
n72管路10.//、/2./Jの部分は開閉可能な
密閉空間/IAを形成している。
管//の他端は油回転ポン1フ51通して大気に連通し
ている。管lコおよび管13の他端は。
ている。管lコおよび管13の他端は。
ヘリウム用ゼンベ/4からガスクロマトグラフィー/J
’に達する弁v8t−備えた管路/7に、弁v8の両側
において接続さnている。
’に達する弁v8t−備えた管路/7に、弁v8の両側
において接続さnている。
つぎに作用を説明する。
真空装置が運転中でガスをサンプリングしていないとき
はメカニカルブースタポンプコおよヒ油回転ポンプ3だ
けが作動し、真空装置l内のガスは排気管弘全通って排
気される。油回転ポンプt。
はメカニカルブースタポンプコおよヒ油回転ポンプ3だ
けが作動し、真空装置l内のガスは排気管弘全通って排
気される。油回転ポンプt。
/jガスクロマトグラフィー/7は停止し、真空計01
は働かない。弁V1. V3〜v8は閉じている。
は働かない。弁V1. V3〜v8は閉じている。
(第1図ツ
リークチストのため装[’に始動する場合、測定に先立
って油回転ポンプj 、 / J’i始動し、弁v2゜
v5.v8ヲ開き、ピラニ真空計01ヲ作動させ、弁v
8t−通ってゼンベ/ Aのヘリウムガスをガスクロマ
トグラフィー/rに送り、とfLヲ作動状態とし。
って油回転ポンプj 、 / J’i始動し、弁v2゜
v5.v8ヲ開き、ピラニ真空計01ヲ作動させ、弁v
8t−通ってゼンベ/ Aのヘリウムガスをガスクロマ
トグラフィー/rに送り、とfLヲ作動状態とし。
密閉空間lμをさらに減圧する(第一図〕。
そこで、サンプリングが開始さnる。
まず弁V1. V3が開き、真空装置lから排気管≠全
通って排気されるガスの一部が弁v1,1回転ポンプt
、オイルミストトラップ7を通り、排気管tを通ってN
2ガスに1クツぞ−ジさnる(第3図)。
通って排気されるガスの一部が弁v1,1回転ポンプt
、オイルミストトラップ7を通り、排気管tを通ってN
2ガスに1クツぞ−ジさnる(第3図)。
つぎに、弁v2が閉じv4が開いて、油回転ポンプ4
カら排出す:n7tカス!ff、弁v4. v5. v
6. v7’t’限定された管状密閉空間/ダに弁v4
側から流入する。一方、排気管rVcは、N2ガスが引
続いて流れる(第μ図)。
カら排出す:n7tカス!ff、弁v4. v5. v
6. v7’t’限定された管状密閉空間/ダに弁v4
側から流入する。一方、排気管rVcは、N2ガスが引
続いて流れる(第μ図)。
約3秒後、弁v2が開きv4が閉じて、前記密閉空間l
≠へのガスの流入は停止する。そのときまでて、密閉空
間lμ内のガス(分析用ガスノの圧力は、所定の圧力に
達している。ポンプ6から出たガス汀、管r1に通って
N2パージさnる(第3図〕。
≠へのガスの流入は停止する。そのときまでて、密閉空
間lμ内のガス(分析用ガスノの圧力は、所定の圧力に
達している。ポンプ6から出たガス汀、管r1に通って
N2パージさnる(第3図〕。
つぎに、弁V6に開いて分析用ガス全ガスクロマトグラ
フィーl♂に送ることになるが1分析には約!分掛かる
ので、連続して分析1行う場合には。
フィーl♂に送ることになるが1分析には約!分掛かる
ので、連続して分析1行う場合には。
前回の弁v6の開放からそnだけの時間t−置く必要が
ある。弁Vが開くと同時に弁v7も開き、v6は閉シて
、ゼンペ16内のヘリウムt−前記密閉空間/μを通し
て流し、前記蓄積さfiπガスをガスクロマトグラフィ
ー/rに送り込む(第を図)。
ある。弁Vが開くと同時に弁v7も開き、v6は閉シて
、ゼンペ16内のヘリウムt−前記密閉空間/μを通し
て流し、前記蓄積さfiπガスをガスクロマトグラフィ
ー/rに送り込む(第を図)。
約3秒後、弁v5. v6. v、 ta閉じ、v8h
開いて、ヘリウムガスを直接管/7’((通して送り続
ける(第7図]。
開いて、ヘリウムガスを直接管/7’((通して送り続
ける(第7図]。
密閉空間14A内に蓄積さnたガスが排出し終ると、油
回転ポンプ/jが始動して密閉空間lj内の残留ガスを
排気し、内部を真空に保つ(第2図)。
回転ポンプ/jが始動して密閉空間lj内の残留ガスを
排気し、内部を真空に保つ(第2図)。
以上の操作を表にすると第1表のようになる。
そこで第1回の分析が終わり、その後は分析に必要な時
間間隔を置いて、第3図の状態からサイクルが反覆さn
る。その際、弁v1〜■6.v5は開@、V4.V6.
V、i閉じている。弁v5rx 、次回のサンプリング
が開始するとき閉じて、密閉空rVi/4を内を真空に
保つ。
間間隔を置いて、第3図の状態からサイクルが反覆さn
る。その際、弁v1〜■6.v5は開@、V4.V6.
V、i閉じている。弁v5rx 、次回のサンプリング
が開始するとき閉じて、密閉空rVi/4を内を真空に
保つ。
ガスクロマトグラフィーを用いて分析する際スペクトル
に工って酸素濃度を検査するが、弁v6が開いた時点で
タイマを始動させ、カラムで02の出て来る時間に甘わ
せ、その時間帯の出力のみ全モニタすると、テスト全効
果的に行うことができる。
に工って酸素濃度を検査するが、弁v6が開いた時点で
タイマを始動させ、カラムで02の出て来る時間に甘わ
せ、その時間帯の出力のみ全モニタすると、テスト全効
果的に行うことができる。
そして、スペクトルがレベル以上に達した場合に警報を
出して注意を喚起する。
出して注意を喚起する。
なお、上記の実施例においては、オイルミストトラップ
を備えた油回転ポンプtを用いているが。
を備えた油回転ポンプtを用いているが。
かわりにドライポンプ全周いることもできる。また、分
析用のガス全蓄積するため、弁と管路で形成さnる密閉
空間/4(’i設けているが1例えば0.7 Torr
でプロセス中のガスをクリーンな状態のま\溜め込むこ
とのできる吐出側圧力が大気圧以上のボン″Q−使用し
、700以上のデッド設+7ユーム内がある圧力以上に
なったら弁を開けてガスクロマトグラフィーに導入する
Lうにしてもよい。
析用のガス全蓄積するため、弁と管路で形成さnる密閉
空間/4(’i設けているが1例えば0.7 Torr
でプロセス中のガスをクリーンな状態のま\溜め込むこ
とのできる吐出側圧力が大気圧以上のボン″Q−使用し
、700以上のデッド設+7ユーム内がある圧力以上に
なったら弁を開けてガスクロマトグラフィーに導入する
Lうにしてもよい。
その場のサンプリング時間は約3秒掛かる。
本発明にLfLば、インライン・プラズマ0VD等の真
空装置において、数分毎ではあるが、笑質的に連続して
11〜りを監視することができる。
空装置において、数分毎ではあるが、笑質的に連続して
11〜りを監視することができる。
本発明の方法は、マス・フィルタによるガス分 :
折重V安価に実施することができ、また装置自体
□比較的簡単であり、製作容易、かつ確実な運転を行う
ことができる。
折重V安価に実施することができ、また装置自体
□比較的簡単であり、製作容易、かつ確実な運転を行う
ことができる。
図面は本発明の方法全実施する装置の一例を示 ゛
し、第1図はサンプリング開始前の状態を示す説
□明図、第2図〜第r図にサンプリング開始後の異った
状態を示す説明図である。
し、第1図はサンプリング開始前の状態を示す説
□明図、第2図〜第r図にサンプリング開始後の異った
状態を示す説明図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、真空装置の排気系の中間部からガスを吸入、加圧し
、該加圧されたガスを定期的に弁を有する密閉空間に導
入、蓄積し、該蓄積されたガスが一定圧力に達したとき
、前記弁を開いてこれをガスクロマトグラフィーに導入
して分析することを特徴とする、真空装置におけるリー
クテスト方法。 2、真空装置の排気系の中間部にドライポンプまたはオ
イルミストトラップを備えた油回転ポンプを連結し、そ
の排気口を弁を備えた密閉空間に接続し、さらに該密閉
空間にガスクロマトグラフィーを接続し、前記弁を定期
的に開閉して一定量かつ一定圧力のガスをガスクロマト
グラフィーに送つて分析することを特徴とする真空装置
におけるリークテスト装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15003185A JPS6212828A (ja) | 1985-07-10 | 1985-07-10 | 真空装置におけるリ−クテスト方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15003185A JPS6212828A (ja) | 1985-07-10 | 1985-07-10 | 真空装置におけるリ−クテスト方法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6212828A true JPS6212828A (ja) | 1987-01-21 |
Family
ID=15487985
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15003185A Pending JPS6212828A (ja) | 1985-07-10 | 1985-07-10 | 真空装置におけるリ−クテスト方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6212828A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103645013A (zh) * | 2013-11-12 | 2014-03-19 | 北京卫星环境工程研究所 | 卫星总漏率测试用自动取放样系统及取放样方法 |
| CN104477403A (zh) * | 2014-11-19 | 2015-04-01 | 北京卫星环境工程研究所 | 航天器总漏率测试用检漏取放样循环系统控制台 |
-
1985
- 1985-07-10 JP JP15003185A patent/JPS6212828A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103645013A (zh) * | 2013-11-12 | 2014-03-19 | 北京卫星环境工程研究所 | 卫星总漏率测试用自动取放样系统及取放样方法 |
| CN104477403A (zh) * | 2014-11-19 | 2015-04-01 | 北京卫星环境工程研究所 | 航天器总漏率测试用检漏取放样循环系统控制台 |
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