JPS6212844A - 真空中で使用可能な表面異物検査装置 - Google Patents
真空中で使用可能な表面異物検査装置Info
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- JPS6212844A JPS6212844A JP15003385A JP15003385A JPS6212844A JP S6212844 A JPS6212844 A JP S6212844A JP 15003385 A JP15003385 A JP 15003385A JP 15003385 A JP15003385 A JP 15003385A JP S6212844 A JPS6212844 A JP S6212844A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser beam
- vacuum
- window
- inspected
- foreign substance
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- Granted
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/94—Investigating contamination, e.g. dust
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- General Health & Medical Sciences (AREA)
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- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、例えば半導体製造用真空装置のような真空プ
ロセス装置に使用され得る真空中で使用可能な表面異物
検査装置に関するものである。
ロセス装置に使用され得る真空中で使用可能な表面異物
検査装置に関するものである。
従 来 の 技 術
例えば、半導体製造技術等において、ウェハ等の基板表
面上に付着しているダスト粒子等の異物を観察、検査す
ることは、歩留り向上の観点からも重要なことである。
面上に付着しているダスト粒子等の異物を観察、検査す
ることは、歩留り向上の観点からも重要なことである。
従来用いられてきた基板表面上の異物を検査する方法と
しては、 （１）レーザ光線等の光を利用してその散乱光により異
物の粒径等を検出する方法； （２）顕微鏡を利用して検査する方法；（３）走査型電
子顕微鏡を用いて異物の形を観察する方法 等がある。
しては、 （１）レーザ光線等の光を利用してその散乱光により異
物の粒径等を検出する方法； （２）顕微鏡を利用して検査する方法；（３）走査型電
子顕微鏡を用いて異物の形を観察する方法 等がある。
この中でラインで速やかに検査できる光散乱法が広く用
いられており、その中でも、検出感度が高く、小さな粒
子まで検出できるという理由で、レーザを光源としたも
のが利用されている。これらのものは完成された装置と
して市販されているが、そのために製造工程中に検査工
程を別個に加える必要があり、その分だけ、時間的にも
マイナスとなる。
いられており、その中でも、検出感度が高く、小さな粒
子まで検出できるという理由で、レーザを光源としたも
のが利用されている。これらのものは完成された装置と
して市販されているが、そのために製造工程中に検査工
程を別個に加える必要があり、その分だけ、時間的にも
マイナスとなる。
最近の真空プロセスの発展に伴ない、 異物検査装置を
製造装置に組み込むという要求があり、特に、真空プロ
セス装置に組み込み、インラインで測定したいという要
望が益々強まっている。
製造装置に組み込むという要求があり、特に、真空プロ
セス装置に組み込み、インラインで測定したいという要
望が益々強まっている。
ところで、人気中で使用される従来のレーザダストモニ
タと異なり、レーザ光線を真空装置内へ導入する場合、
あるいはウェハ上で鏡面反射した光を真空装置外へ出す
場合には、必ず真空窓が必要となり、真空窓部分での反
射光がバックグラウンドを上げる等の問題となる。
タと異なり、レーザ光線を真空装置内へ導入する場合、
あるいはウェハ上で鏡面反射した光を真空装置外へ出す
場合には、必ず真空窓が必要となり、真空窓部分での反
射光がバックグラウンドを上げる等の問題となる。
一方、レーザ光線の反射光を極力低く抑えるために、ブ
リュースタ窓を用いることは公知である。
リュースタ窓を用いることは公知である。
しかしながら、ウェハ等の表面をスキトンする必要があ
る場合には、ブリュースタ窓は適さない。
る場合には、ブリュースタ窓は適さない。
というのは、ブリュースタ窓は、特定の入射角度でのみ
効果があり、少しでも角度がずれると、反射率が高くな
るため レーザをスキャンする場合には使用できない。
効果があり、少しでも角度がずれると、反射率が高くな
るため レーザをスキャンする場合には使用できない。
またブリュースタ窓の場合には、偏光したレーザ光線を
用い、そのレーザ光線の偏光面をブリュースタ窓に固有
な角度に合わせる必要があるため、レーザを装置に取り
付ける際に、偏向角の調整が必要である。
用い、そのレーザ光線の偏光面をブリュースタ窓に固有
な角度に合わせる必要があるため、レーザを装置に取り
付ける際に、偏向角の調整が必要である。
発明が解決しようとする問題点
このように、レーザ光線を真空装置内に導入する場合に
は、一般的には反射率を抑えるためにブリュースタ窓を
真空窓に用いているが、レーザを装置に取り付ける際に
、偏向角の調整が必要であるという問題があるだけでな
く、レーザをスキャンすることができない。そのため、
レーザをスキャンせずにウェハをステージごと動かすこ
とが考えられるが、ステージを動かすことは、インライ
ン装置に組み込むことを考えると、非現実的であり、ま
たステージが動くことによりダストが発生する恐れがあ
り、好ましくない。さらに、通常の真空窓では反射率が
大きいためにバックグラウンドが大きくなり、小さな粒
子を検出することがでないという問題がある。
は、一般的には反射率を抑えるためにブリュースタ窓を
真空窓に用いているが、レーザを装置に取り付ける際に
、偏向角の調整が必要であるという問題があるだけでな
く、レーザをスキャンすることができない。そのため、
レーザをスキャンせずにウェハをステージごと動かすこ
とが考えられるが、ステージを動かすことは、インライ
ン装置に組み込むことを考えると、非現実的であり、ま
たステージが動くことによりダストが発生する恐れがあ
り、好ましくない。さらに、通常の真空窓では反射率が
大きいためにバックグラウンドが大きくなり、小さな粒
子を検出することがでないという問題がある。
そこで、本発明の目的は、真空窓にブリュースタ窓を用
いずに反射光によるバックグラウンドの増大の問題を解
決すると共に真空プロセスライン中に容易に組み込むこ
とのできる表面異物検査装置を提供することにある。
いずに反射光によるバックグラウンドの増大の問題を解
決すると共に真空プロセスライン中に容易に組み込むこ
とのできる表面異物検査装置を提供することにある。
問題点を解決するための手段
上記の目的を達成するために、本発明による真空中で使
用可能な表面異物検査装置は、異物検査すべき被検査物
を収容する真空容器にレーデ光線導入用真空窓と上記真
空容器内の被検査物上で鏡面反射したレーザ光線を外部
へ導出するレーザ光線導出用真空窓とを設【プ、上記真
空容器内の被検査物表面上に導入されるレーザ光線を上
記被検査物表面上で少なくとも一つの方向に走査させる
レーザスキャナおよび被検査物上の異物によって乱反射
したレーザ光線を検出できる位置に配置された検出器を
有し、上記レーザ光線導入用真空窓およびレーザ光線導
出用真空窓を反射防止膜を備えたガラスで構成したこと
を特徴としている。
用可能な表面異物検査装置は、異物検査すべき被検査物
を収容する真空容器にレーデ光線導入用真空窓と上記真
空容器内の被検査物上で鏡面反射したレーザ光線を外部
へ導出するレーザ光線導出用真空窓とを設【プ、上記真
空容器内の被検査物表面上に導入されるレーザ光線を上
記被検査物表面上で少なくとも一つの方向に走査させる
レーザスキャナおよび被検査物上の異物によって乱反射
したレーザ光線を検出できる位置に配置された検出器を
有し、上記レーザ光線導入用真空窓およびレーザ光線導
出用真空窓を反射防止膜を備えたガラスで構成したこと
を特徴としている。
作 用
このように構成した木４明による真空中で使用可能な表
面異物検査装置においては、レーザスキャナは、真空装
置内の基板表面上をＸ、Ｙ方向あるいはＸ方向のみにス
キャンすることができ、Ｘ。
面異物検査装置においては、レーザスキャナは、真空装
置内の基板表面上をＸ、Ｙ方向あるいはＸ方向のみにス
キャンすることができ、Ｘ。
Ｙ両方向にスキャンするときは被検査物は測定中動かさ
ない。一方、Ｘ方向のみにスキャンするときには、被検
査物をインラインの搬送系によって適当な速度でＹ方向
に送りながら検査を行なうことができる。真空容器に設
けたレーデ光線導入用真空窓を通って真空容器内の被検
査物表面上にレーザ光線が導入され、このレーザ光線に
より被検査物表面上をＸ、Ｙ方向に走査する。もしこの
被検査物表面上に何らかの異物が存在していると、導入
されたレープ光線は被検査物上で鏡面反射してレーザ光
線導出用真空窓を通って外部へ導出される他、その異物
に衝突したレーザ光線部分は乱反射して検出器に入射す
る。これにより、検出器は被検査物表面上の異物を検出
する。この場合、一連の異物検査操作は被検査物が真空
プロセスラインにある間に行なうことができる。
ない。一方、Ｘ方向のみにスキャンするときには、被検
査物をインラインの搬送系によって適当な速度でＹ方向
に送りながら検査を行なうことができる。真空容器に設
けたレーデ光線導入用真空窓を通って真空容器内の被検
査物表面上にレーザ光線が導入され、このレーザ光線に
より被検査物表面上をＸ、Ｙ方向に走査する。もしこの
被検査物表面上に何らかの異物が存在していると、導入
されたレープ光線は被検査物上で鏡面反射してレーザ光
線導出用真空窓を通って外部へ導出される他、その異物
に衝突したレーザ光線部分は乱反射して検出器に入射す
る。これにより、検出器は被検査物表面上の異物を検出
する。この場合、一連の異物検査操作は被検査物が真空
プロセスラインにある間に行なうことができる。
実 施 例
以下、添附図面を参照して本発明の実施例について説明
する。
する。
図面には本発明による表面異物検査装置の構成を示し、
１は真空容器で、この真空容３１にはＹ方向に動くこと
のできる可動テーブル２が設けられ、この可動テーブル
２上には基板ホルダ３が取付けられ、その上に被検査物
である基板４が装着されている。真空容器１には、基板
４に対して予定の入射角度でレーザ光線を導入できる位
置に設けられたレーザ光線導入用真空窓５と、このレー
デ光線導入用真空窓５を通って基板４に入射したレーザ
光線が鏡面反射して進む位置に設けられたレーザ光線導
出用真空窓６とが設けられている。
１は真空容器で、この真空容３１にはＹ方向に動くこと
のできる可動テーブル２が設けられ、この可動テーブル
２上には基板ホルダ３が取付けられ、その上に被検査物
である基板４が装着されている。真空容器１には、基板
４に対して予定の入射角度でレーザ光線を導入できる位
置に設けられたレーザ光線導入用真空窓５と、このレー
デ光線導入用真空窓５を通って基板４に入射したレーザ
光線が鏡面反射して進む位置に設けられたレーザ光線導
出用真空窓６とが設けられている。
７はレーザ光線導入用真空窓５に取付られたレーザ光線
発生導入装置で、レーザ光源７ａとレーデ光源７ａから
のレーザ光線を基板４上でＸ、Ｙ方向に走査させるスキ
ャナ７ｂとを備えている。一方、レーザ光線発生導入装
置７とレーザ光線導入用真空窓５とレーザ光線導出用真
空窓６どを通る平面に対して所要の角度を・成して検出
器を成す光電子増倍管８が真空容器１に取付けられてい
る。
発生導入装置で、レーザ光源７ａとレーデ光源７ａから
のレーザ光線を基板４上でＸ、Ｙ方向に走査させるスキ
ャナ７ｂとを備えている。一方、レーザ光線発生導入装
置７とレーザ光線導入用真空窓５とレーザ光線導出用真
空窓６どを通る平面に対して所要の角度を・成して検出
器を成す光電子増倍管８が真空容器１に取付けられてい
る。
検出器８としては任意の適当な型式のものが用いられ得
、その出力は例えばコンピュータ装置（図示してない）
に接続されている。
、その出力は例えばコンピュータ装置（図示してない）
に接続されている。
レーザ光線導入用真空窓５およびレーザ光線導出用真空
窓６は、それぞれ口部５ａ 、５ａに密封的に装着され
た反射防止膜を備えたガラス５１１゜６ｂを備えている
。
窓６は、それぞれ口部５ａ 、５ａに密封的に装着され
た反射防止膜を備えたガラス５１１゜６ｂを備えている
。
このように構成した図示装置において、まずシー１１光
線発生導入装置７のレーザ光源７ａとスキャナ７ｂによ
ってレーザ光線を発生させると其にスキャンし、レーザ
光線導入用真空窓５を通って可動テーブル２上の基板４
上をＸ方向に走査する。
線発生導入装置７のレーザ光源７ａとスキャナ７ｂによ
ってレーザ光線を発生させると其にスキャンし、レーザ
光線導入用真空窓５を通って可動テーブル２上の基板４
上をＸ方向に走査する。
レーザ光線で走査した基板４に異物がなければ、レーザ
光線はその基板４で鏡面反射してレーデ光線導出用真空
窓６を通って真空容器１外へ出て行く。もし基板に異物
があれば、その異物に衝突したレーザ光線部分は散乱さ
れ、この散乱光は検出器８り検出され、こうして基板上
の異物を検出すによることができる。
光線はその基板４で鏡面反射してレーデ光線導出用真空
窓６を通って真空容器１外へ出て行く。もし基板に異物
があれば、その異物に衝突したレーザ光線部分は散乱さ
れ、この散乱光は検出器８り検出され、こうして基板上
の異物を検出すによることができる。
なお、図示実施例において、検出器８の位置は基板上の
異物で乱反射した光を検出できる位置であればどの位置
でもよい。またスキャナ７ｂによるスキャン操作とＹ方
向への基板の移動とは同期させて行なわれるべきである
。さらに、図示実施例では、スキャナ７ｂはレーザ光線
をＸ方向にのみスキャンさせ、Ｙ方向には基板を勅かし
ながら検査するようにしているが、当然、スキャナ７ｂ
をＸ、Ｙ両方向にスキャンするように構成し、検査中は
基板を静止させるようにしてもよい。
異物で乱反射した光を検出できる位置であればどの位置
でもよい。またスキャナ７ｂによるスキャン操作とＹ方
向への基板の移動とは同期させて行なわれるべきである
。さらに、図示実施例では、スキャナ７ｂはレーザ光線
をＸ方向にのみスキャンさせ、Ｙ方向には基板を勅かし
ながら検査するようにしているが、当然、スキャナ７ｂ
をＸ、Ｙ両方向にスキャンするように構成し、検査中は
基板を静止させるようにしてもよい。
発 明 の 効 果
以上説明してきたように、本発明によれば、異物検査す
べき被検査物を収容する真空容器にレーザ光線導入用真
空窓と上記真空容器内の被検査物上で鏡面反射したレー
ザ光線を外部へ導出するレーザ光線導出用真空窓とを設
け、上記真空容器内の被検査物表面上に導入されるレー
ザ光線を上記被検査物表面上で少なくとも一つの方向に
走査させるレーザスキャナおよび被検査物上の異物によ
って乱反射したレーザ光線を検出できる位置に配置され
た検出器を有する真空中で使用可能な表面異物検査装置
において、レーザ光線導入用真空窓およびレーザ光線導
出用真空窓を、反射防止膜を備えたガラスで構成してい
るので、通常のガラスの真空窓の場合、反射光が約４％
あるのに対して、反射光を０．４％に押えることができ
、そのため、パックグラウンドを大幅に低下させること
ができる。その結果、通常のガラス窓を使用した場合に
最小検出粒径が約２μｍであったのに対して、本発明に
よる装置では０．５μｍの粒径まで検出することができ
る。また、本発明による装置は容易にインライン真空プ
ロセス装置に組み込むことかでき、検査工程の簡易化を
計ることができる。
べき被検査物を収容する真空容器にレーザ光線導入用真
空窓と上記真空容器内の被検査物上で鏡面反射したレー
ザ光線を外部へ導出するレーザ光線導出用真空窓とを設
け、上記真空容器内の被検査物表面上に導入されるレー
ザ光線を上記被検査物表面上で少なくとも一つの方向に
走査させるレーザスキャナおよび被検査物上の異物によ
って乱反射したレーザ光線を検出できる位置に配置され
た検出器を有する真空中で使用可能な表面異物検査装置
において、レーザ光線導入用真空窓およびレーザ光線導
出用真空窓を、反射防止膜を備えたガラスで構成してい
るので、通常のガラスの真空窓の場合、反射光が約４％
あるのに対して、反射光を０．４％に押えることができ
、そのため、パックグラウンドを大幅に低下させること
ができる。その結果、通常のガラス窓を使用した場合に
最小検出粒径が約２μｍであったのに対して、本発明に
よる装置では０．５μｍの粒径まで検出することができ
る。また、本発明による装置は容易にインライン真空プ
ロセス装置に組み込むことかでき、検査工程の簡易化を
計ることができる。
図面は本発明の一実施例による装置の構成を示す概略線
図である。
図である。
Claims (1)
- 異物検査すべき被検査物を収容する真空容器にレーザ光
線導入用真空窓と上記真空容器内の被検査物上で鏡面反
射したレーザ光線を外部へ導出するレーザ光線導出用真
空窓とを設け、上記真空容器内の被検査物表面上に導入
されるレーザ光線を上記被検査物表面上で少なくとも一
つの方向に走査させるレーザスキャナおよび被検査物上
の異物によつて乱反射したレーザ光線を検出できる位置
に配置された検出器を有する真空中で使用可能な表面異
物検査装置において、上記レーザ光線導入用真空窓およ
びレーザ光線導出用真空窓を、反射防止膜を備えたガラ
スで構成したことを特徴とする真空中で使用可能な表面
異物検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15003385A JPS6212844A (ja) | 1985-07-10 | 1985-07-10 | 真空中で使用可能な表面異物検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15003385A JPS6212844A (ja) | 1985-07-10 | 1985-07-10 | 真空中で使用可能な表面異物検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6212844A true JPS6212844A (ja) | 1987-01-21 |
| JPH0375056B2 JPH0375056B2 (ja) | 1991-11-28 |
Family
ID=15488029
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15003385A Granted JPS6212844A (ja) | 1985-07-10 | 1985-07-10 | 真空中で使用可能な表面異物検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6212844A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003021238A1 (en) * | 2001-09-05 | 2003-03-13 | Generation Technology Research Pty Ltd | Apparatus for presenting a sample of material for analysis |
| AU2002325081B2 (en) * | 2001-09-05 | 2006-11-23 | Xrf Scientific Limited | Apparatus for presenting a sample of material for analysis |
-
1985
- 1985-07-10 JP JP15003385A patent/JPS6212844A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003021238A1 (en) * | 2001-09-05 | 2003-03-13 | Generation Technology Research Pty Ltd | Apparatus for presenting a sample of material for analysis |
| US7092083B2 (en) | 2001-09-05 | 2006-08-15 | Xrf Scientific Limited | Apparatus for presenting a sample of material for analysis |
| AU2002325081B2 (en) * | 2001-09-05 | 2006-11-23 | Xrf Scientific Limited | Apparatus for presenting a sample of material for analysis |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0375056B2 (ja) | 1991-11-28 |
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