JPS62132301A - 厚膜抵抗体ペ−ストの製造方法 - Google Patents

厚膜抵抗体ペ−ストの製造方法

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JPS62132301A
JPS62132301A JP60272489A JP27248985A JPS62132301A JP S62132301 A JPS62132301 A JP S62132301A JP 60272489 A JP60272489 A JP 60272489A JP 27248985 A JP27248985 A JP 27248985A JP S62132301 A JPS62132301 A JP S62132301A
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JP
Japan
Prior art keywords
paste
thick film
film resistor
ruthenium
resistor paste
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Pending
Application number
JP60272489A
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English (en)
Inventor
久保川 輝芳
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Alps Alpine Co Ltd
Original Assignee
Alps Electric Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、厚膜抵抗体ペーストの製造方法に係り、特に
4電成分である酸化ルテニウム又はルテニウム化合物と
ガラスフリットと無機粉末と有性ビヒクルとを含む厚膜
抵抗体ペーストの製造方法に関する。
〔従来の技術〕
従来、抵抗体ペーストについては、その特性や安定性を
改善するための種々の研究が行われている。特に導電成
分である酸化ルテニウム又はルテニウム化合物を用い、
無機質結合剤であるガラスフリットと無機粉末とを混合
し、有機質ビヒクル中に分散させたペーストを焼成した
抵抗体では、導電成分とガラスフリットの分散が均一で
ないため、初期抵抗値が変化しやすい。そこで従来は、
初期抵抗値が安定するまでのペースト熟成期間として約
20〜30日間の日数を経て印刷焼成していた。
このような問題点を解決するために酸化ルテニウム又は
ルテニウム化合物とガラスフリット又はガラスフリット
原材料を混合した後、溶融し、冷却した後、微粉砕して
抵抗体ペーストを製造する方法がある。この方法による
抵抗体ペーストを用いて得られる抵抗体は初期抵抗値は
安定するが、抵抗体ペーストの製造方法は熔融、冷却、
粉砕の名工を有するため製造工程が多くなり、コスト高
・の要因ともなる。
このため、製造工程を増加させることなく、抵抗体の初
期抵抗値を安定化されるために従来の製造工程中の混練
時間を長くすることが考えられる。
しかしながら、混練工程は一般に三本ロールからなる混
練機でペースト組成物を混練するものであるため、混練
時間を長くすると、ペースト組成物中の溶剤が蒸発し、
十分な混練を行うことができない。また開放系の混練機
を密封系にすることは、混練機にロールを冷却するため
の装置等が設置されている点から混練装置全体が複雑、
かつ大型化する。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明は、上記した従来技術の問題点を解消し、製造装
置を複雑、かつ大型化することなく、しかも製造工程を
多くすることなく抵抗体ペーストによる抵抗体の初期抵
抗値を安定化させることができる厚膜抵抗体ペーストの
製造方法を提供することを目的とする。
(問題を解決するための手段) 本発明は、酸化ルテニウム又はルテニウム化合物とガラ
スフリットと無機粉末と有機質ビヒクルとを含むペース
ト組成物を混練し、粘度調整した後、混練したペースト
を密封容器内で初期抵抗値が安定化するに必要な時間回
転流動させる厚膜抵抗体ペーストの製造方法である。
本発明において、酸化ルテニウム又はルテニウム化合物
は導電成分として用いられる。ルテニウム化合物として
は水酸化ルテニウムが好適に用いられる。ガラスフリッ
トは導電成分である酸化ルテニウム又はルテニウム化合
物を結合させるための無機質結合剤であり、ホウケイ酸
鉛ガラス等が用いられるが、導電成分が水酸化ルテニウ
ムの場合、特にホウケイ酸鉛ガラスが有効である。無機
粉末は、酸化銅、酸化錫等の金属酸化物が用いられる。
有機質ビヒクルにはエチルセルロース等の有機質バイン
ダーが用いられ、またこれらの有機質バインダーをペー
スト状にするために溶剤として、ターピネオール、ブチ
ルカルピトール等が用いられる。
本発明において、上記した酸化ルテニウム又はルテニウ
ム化合物とガラスフリットと無機粉末の各粉末に所定量
の有機質ビヒクルが配合される。
この配合された組成物を少量の場合、メノー乳鉢又はラ
イカイ器で混練し、多量の場合、動力磁気ギャップの混
合撹拌機で混練してペースト状とする。次に3本ロール
式の混練機にて溶剤の蒸発によりペーストが乾燥しない
程度の時間まで十分にlR練する。この混練後、ペース
ト粘度を測定し、スクリーン印刷粘度に適した粘度に調
整するためにターピネオール、ブチルカルピトール等の
溶剤が添加される。
このようにして粘度が調整されたペーストは、密封容器
内で回転流動される。この操作は、初期抵抗値が安定化
するに必要な時間行われる。第1図〜第3図は密封容器
1を回転させたときの容器内のペースト2の挙動を示す
説明図である。第1図は密封容器1の回転速度が速い場
合を示し、ペースト2が十分に流動していない。第2図
は密封容231の回転速度が適度な場合を示し、ペース
ト2の流動が十分に達成される。第3図は密封容器lの
回転速度が遅いためペースト2は流動するが、抵抗値の
安定fヒに時間がかがることを示している。
したがってペースト2の流動によって抵抗値の安定化を
出来る限り短時間で達成させるためには第2図のような
状態になるように操作条件を設定すべきである。
−IIに酸化ルテニウム又はルテニウム化合物とガラス
フリットを使用した厚膜抵抗体は、第4図に示すように
酸化物半導体(ここでは酸化ルテニウム又はルテニウム
化合物を示す)粉末3がガラスフリット4内で接触した
状態で並んだ構造による導電機構を有し、その抵抗値は
半導体のキャリア濃度に依存する抵抗弁と粒子間の接触
抵抗とを含む。
本発明における初3IJl抵抗値の安定化のためのペー
ストの回転流動操作は、前記した粒子間の接触抵抗(す
なわち酸化ルテニウム又はルテニウム化合物のネットワ
ーク)を強制的に安定な状態まで加工する方法である。
因に従来のペーストの熟成期間は約20日〜30日間で
あるが、本発明によるペーストの回転流動操作では3〜
4日間程度の期間で初期抵抗値を安定できる。
〔実施例〕
実施例1 水酸化ルテニウム      3.5ffiffi%ホ
ウケイ酸鉛ガラス    49.7重量%酸化銅   
        2.1重量%酸化錫        
   2゜1重量%エチルセルロース      4.
3重量%ターピネオール      19.2重量%ブ
チルカルピトール    19.2mfi%上記各成分
を配合し、ライカイ器で混練し、次に三本ロール式混練
機により混練した。この混練後、ペースト粘度を測定し
、スクリーン印刷粘度となるようにターピネオールを添
加し、ペーストの粘度をjJil!した。次に粘度調整
されたペーストをポリエチレン製ポットに入れ、このポ
ットを1回転72秒で割合で3[1間回転させ、ポット
内のペーストを回転流動させた。
実施例2 水酸化ルテニウム      6.2重量%ホウケイ酸
鉛ガラス    48.2重量%酸化銅       
    1. 1重量%酸化錫           
1. 1重量%エチルセルロース      4.4重
量%ターピネオール      19.5重量%ブチル
カルピトール    19.5ffiffi%上記各成
分を配合し、以下実施例1と同様にしてペーストを製造
した。
実施例3 水酸化ルテニウム     11.9重量%ホウケイ酸
鉛ガラス    37.6重量%酸化銅       
    1.  o重量%酸化錫          
 1. 0重量%エチルセルロース      4.5
重量%ターピネオール      20.0重量%ブチ
ルカルピトール    20.0重量%オレイン酸マン
ガン     4.0重量%上記各成分を配合し、以下
実施例1と同様にしてペーストを製造した。
比較例1 実施例1と同様の配合例でポリエチレン製ポットによる
ペーストの回転流動操作工程を経ることなく、三本ロー
ル式混練機による工程後、ペーストを30日間保存した
比較例2 実施例2と同様の配合例でポリエチレン製ボ。
トによるペーストの回転流動操作工程を経ることなく、
三本ロール式混練機による工程後、ペーストを30日間
保存した。
比較例3 実施例3と同様の配合例でポリエチレン製ポットによる
ペーストの回転流動操作工程を経ることなく、三本ロー
ル式混練機による工程後、ペーストを30日間保存した
実施例1〜実施例3および比較例1〜比較例3で得られ
たペーストをそれぞれスクリーン印刷し、焼成した抵抗
体の特性を第1表に示す。
第1表から明らかなように実施例1〜実施例3はいずれ
も初期抵抗値の再現性がよく、製造ばらつきの少ないこ
とを示している。また実施例1〜実施例3は電気特性T
、C,Rを変化させることなく、また抵抗体の外観も従
来と同じであった。
〔発明の効果〕
以上のように本発明によれば、ペースト組成物を混練し
、粘度調整した後、ペーストを密封容器内で初期抵抗値
が安定化するに必要な時間回転流動させるものであるか
ら、溶融、冷却、粉砕等の工程を要することなく、溶剤
の蒸発を防止しつつ、簡単な装置で初期抵抗値の安定な
ペーストを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図、および第3図は密封容器の回転と容器
内のペーストの挙動を示す説明図、第4図は厚膜抵抗体
における導電機構を示すための模式図である。 l・・・・・・密封容器、 2・・・・・・ペースト、 3・・・・・・酸化物半導体、 (酸化ルテニウム又はルテニウム化合物)4・・・・・
・ガラスフリット。 代理人  弁理士  武 顕次部で σ ■ l。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)酸化ルテニウム又はルテニウム化合物とガラスフ
    リットと無機粉末と有機質ビヒクルとを含むペースト組
    成物を混練し、粘度調整した後ペーストを密封容器内で
    初期抵抗値が安定するに必要な時間回転流動させること
    を特徴とする厚膜抵抗体ペーストの製造方法。
  2. (2)前記ルテニウム化合物は、水酸化ルテニウムであ
    る特許請求の範囲第(1)項記載の厚膜抵抗体ペースト
    の製造方法。
  3. (3)前記ガラスフリットは、ホウケイ酸鉛ガラスであ
    る特許請求の範囲第(1)項記載の厚膜抵抗体ペースト
    の製造方法。
JP60272489A 1985-12-05 1985-12-05 厚膜抵抗体ペ−ストの製造方法 Pending JPS62132301A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018049901A (ja) * 2016-09-21 2018-03-29 住友金属鉱山株式会社 抵抗ペースト及びその焼成により作製される抵抗体

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2018049901A (ja) * 2016-09-21 2018-03-29 住友金属鉱山株式会社 抵抗ペースト及びその焼成により作製される抵抗体

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