JPS6213331A - 化学めつき用積層板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、紫外線の透過防止に極めて優れた効果をもつ
化学めっき用積層板の製造方法に関するものである。

〔従来技術〕

化学めっき用積層板を周知のアディティブゾロセスによ
シブリント配線板に加工する場合、高精度微細パターン
の製造方法の１つとして、特開昭５９−１５１４９５に
詳細に説明されているように、次のような工程がある。

Ａ化学めっき用積層板のＮＣドリルによる穴あけＢ接着
剤表面の化学エツチ７グ Ｃ接着剤表面及び穴内全てに対する化学めりき用触媒付
与 り接着剤表面への液状めっきレジストの塗工Ｅめりきレ
ジストの露光、現儂、ノ２ターンニング Ｆ化学めっき Ｇプリント配線板 前記工程において、工程りの液状めっきレジストの塗工
時、工程Ａで形成した穴内くめつきレジストが入シ、工
程Ｅの露光によシ穴内に入っためつきレジストが感光、
硬化し、工程Ｆの化学めりき時に穴内のめっきレジスト
上にめっきが析出しないことがある。

この原因、機構については、めっきレジスト層を通過し
た光が、化学めっき用積層板の基材であるガラスクロス
のガラスフィラメントによシ屈折し、穴壁上のめつきレ
ジストを感光、硬化させることが考えられる。

〔発明の目的〕

本発明者らは、前記のような穴壁に付着しためっきレジ
ストが感光、硬化しないように鋭意研究した結果、接着
剤層に紫外線透過防止の機能を付与することによｐ、前
記目的を達成できることを見い出し本発明を完成したも
のである。

〔発明の構成〕

本発明は、合成ゴムを含む硬化性樹脂よりなる接着剤層
を絶縁性基板の両表面に形成した化学めっき用積層板の
製造方法において、前記接着剤中に１０ｎｍ〜４５０ｎ
ｍに吸収ピークを示す有機の紫外線吸収物質を０．１〜
５．０重ｉ％と最大粒径２０μｍ以下の無機酸化物を０
．１〜５０重量％とを併用して配合することを特徴とす
る化学めっき用積層板の製造方法である。

本発明に用いられる有機の紫外線吸収物質は、ヒドロキ
シベンゾフェノン類、ヒドロキシフェニルベンゾトリア
ゾール類であシ、例えば、２−ヒドロキシ−４−オクト
キシベンゾフェノン、２−（２′−ヒドロキシ−５′−
メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−
ヒドロキシ−３′−ｔ−フチルー５′−メチルフェニル
’）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒ
ドロキシ−５′−七−オクチルフェニル）−ベンツトリ
アゾール、２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒ
ドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾールな
どをあげることができる。これらはいずれも１０’ｎｆ
ｆ１〜４５０ｎｍの波長領域で光吸収ピークを示すもの
である。本発明に使用するのに特に適したものは、２−
（２’−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−）ｆル
フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール及び２−（
３−ｔ−・ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニ
ル）−５−クロロベンツトリアゾールである。

また、本発明に用いられる無機酸化物は、酸化マグネシ
ウム、酸化アルミニウム、酸化鉄、酸化チタン、酸化亜
鉛、酸化鉛、酸化珪素などをあげることができる。これ
らのうち本発明に使用するのに適したものは酸化チタン
である。

有機紫外線吸収剤が５．０重量％を超えると、接゛雫剤
層の耐溶剤性、耐熱性が不良になり、０．１重′ｉ慢未
満では、紫外線の遍蔽効果が小さくなる。

また、酸化物を５０重量％を超えて配合すると、接着剤
の粘度上昇、後工程でのめつき密着性不良を発生する。

さらに、酸化物が０．１１ｉｑ６未満では、紫外線の遮
蔽効果が小さい。酸化物の配合について、好ましくは１
，０〜１０重量％である。

酸化物の粒径については、高精度微細ノミターン形成上
、２０＃ｌ以上の粒子が存在すると、化学エツチング工
程で酸化物粒子が接着剤表面に露出し、めりきで形成し
た回路に凹凸が生じ、回路の平滑性を損なう。酸化物の
粒径は好ましくは５＃１以下である。

〔発明の効果〕

本発明によると、めっきレジスト層を通過した紫外線は
接着剤層で遮蔽され、化学めっき用積層板の層内深く透
過することがないため、穴壁に付着しためっきレジスト
を感光、硬化させることを防止することができる。

さらに、紫外線吸収剤と無機酸化物を併用していること
により、紫外線の遮蔽効果が大きいと共に、有機紫外線
吸収物質の添加量は少ないので、プリント配線板として
の電気特性、化学特性、耐熱性を劣下させることがない
。

〔実施例〕

本発明の化学めっき用積層板の製造方法について、以下
に実施例及び比較例によシ説明する。

実施例１ 下記配合で接着剤を調合し、ガラス・エポキシ積層板に
塗工し、１６０℃で１２０分加熱して両面に接着剤層を
形成することにょシ化学めっき用積層板を得た。接着剤
層の厚みは３０＃ｌであった。

ＮＢＲゴム（ＪＳＲ−Ｎ−２３０ＳＲ）　　　　１００
部レゾール型フェノール樹脂　　　　１００部ｓ　ｉｏ
２粉末（最大粒径５４ｍ）　　　　　　１０部ＴＩＯ□
粉末（最大粒径１踊）　　　　　　１０部２−　（２’
−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニ
ル）−５−クロロベンゾトリアゾール　　　　　　　　
　　　　　　　２部メチルエチルケトン　　　　　　　
５００部実施例２ 下記配合で接着剤を調合し、実施例１と同様にして化学
めっき用積層板を得た。

ＮＢＲゴムＣＪＳＲ−Ｎ　−５３０）　　　　１００部
しゾール型フェノール樹ｍ　　　　　ｌｏｏ部ＴｉＯ２
粉末（最大粒径１０μｍ）　　　　　　　５部２−（３
−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）
−５−クロロベンゾトリアゾール　　　　　　　　　　
　　　　　５部メチルエチルケトン　　　　　　　５０
０部比較例１ 下記配合で接着剤を調合し、実施例１と同様にして化学
めっき用積層板を得た。

ＮＢＲゴム（ＪＳＲ−Ｎ−２３０３８）　　　　１００
部レゾール型フェノール樹脂　　　　１００９ＴｉＯ□
粉末　（（り！辺斗（ｏＨへ９　　６０部メチルエチル
ケトン　　　　　　　５００部比較例２ 下記配合で接着剤を調合し、実施例１と同様にして化学
めっき用積層板を得た。

ＮＢＲゴム（ＪＳＲ−Ｎ−２３０５８）　　　　１００
部レゾール型フェノール樹脂　　　　１００部２−（３
−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）
−５−クロロベンゾトリアゾール　　　　　　　　　　
　　　　１０部メチルエチルケトン　　　　　　　５０
０部比較例３ 下記配合で接着剤を調合し、実施例１と同様にして化学
めっき用積層板を得た。

ＮＢＲゴム（ＪＳＲ−Ｎ−２３０３Ｈ）　　　　１００
部レゾール型フェノール樹脂　　　　１００部メチルエ
チルケトン　　　　　　　５００部実施例１．２及び比
較例１．２，３で得られた化学めっき用積層板を前記工
程Ａ−Ｇの順に処理し、プリント配線板を得た。一方、
実施例１．２及び比較例１．２．３で調合した接着剤を
アルミニウム箔に塗工し、１６０℃で１２０分加熱して
硬化させた後、アルミニウム箔を除去し、厚さ３０細の
接着剤フィルムを得た。

上記プリント配線板及び接着剤フィルムの評価結果を表
−１に示す。

この結果、透過率が０．１　％以下の場合に、スルホー
ル内のめつき析出不良をなくすことができることが判っ
た。

実施例１及び２はスルホール内のめつき析出による不良
は発生せず、めつき銅皮膜の７クレの発生もなく、プリ
ント配線板のはんだ付は耐熱性も良好であった。

一方、比較例１及び２はスルホール内のめっき析出によ
る不良は発生しなかったが、めりき銅皮膜のフクレ、あ
るいはプリント配線板のはんだ付は耐熱性不良が生じ九
。比較例３はスルホール内のめっき析出による不良が発
生した。

オ寄倉午律シ凭申スー 住友ベークライト株式会社 手続補正書（自発） １、事件の表示 昭和６０年特許願第１５２１７８号 ２、発明の名称 化学めっき用積層板の製造方法 ３、補正をする者 事件との関係　特許出願人 住　所　　　　東京都千代田区内幸町１丁目２番２号明
細書の特許請求の範囲及び発明の詳細な説明の欄。

６、補正の内容 （１）特許請求の範囲を別紙の通りに補正する。

（２）明細書第３頁第１７行及び第５頁第７行、１５０
重量％」を「２０重量％」に補正する。

・ｆ５Ｑ、　８．８　） 特許請求の範囲 「合成ゴムを含む硬化性樹脂よりなる接着剤層を絶縁性
基板の両表面上に形成した化学めっき用積層板の製造方
法において、前記接着剤中にＩｏｎ信〜４５０ｒ＋ｍに
吸収ピークを示す有機の紫外線吸収物質０．１〜５．０
重量％と最大粒径２０μ−以下の無機酸化物０．１〜旦
重量％とを併用して配合することを特徴とする化学めっ
き用積層板の製造方法。」

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 合成ゴムを含む硬化性樹脂よりなる接着剤層を絶縁性基
   板の両表面上に形成した化学めっき用積層板の製造方法
   において、前記接着剤中に１０ｎｍ〜４５０ｎｍに吸収
   ピークを示す有機の紫外線吸収物質を０．１〜５．０重
   量％と最大粒径２０μｍ以下の無機酸化物を０．１〜５
   ０重量％とを併用して配合することを特徴とする化学め
   っき用積層板の製造方法。