JPS6213357B2 - - Google Patents
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Description
W.パトノード(Patnode)及びD.F.ウイルコツ
ク(Wilcock)は、ジヤーナル・オブ・ジ・アメ
リカン・ケミカル・ソサイエテイ(Journal of
the American Chemical Society)、Vol.68
(1946)、360/361頁に、高分子ジメチルポリシロ
キサンを350℃に加熱してヘキサメチルシクロト
リシロキサンを製造する方法を記載している。そ
こでヘキサメチルシクロトリシロキサンを前記方
法の場合に得られるよりも良好な収量で製造する
という課題が生じた。この課題が本発明によつて
解決される。 本発明は、少なくとも50mol%がジメチルシロ
キサン単位から成る線状の、枝分れの又は架橋さ
れたオルガノポリシロキサンを少なくとも350℃
に加熱し、同時にこの加熱で形成された環状ジメ
チルポリシロキサンを留出してヘキサメチルシク
ロトリシロキサンを製造するに当り前記加熱がシ
ロキサン基に作用する物質の不在で行なわれるこ
とを特徴とするヘキサメチルシクロトリシロキサ
ンの製造方法に関する。 さて周知のようにアルカリはシロキサン基に作
用する物質に属する。これに対してシロキサン基
に作用する物質の存在がヘキサメチルシクロトリ
シロキサンの形成よりも、より高級な環状ジメチ
ルポリシロキサンの形成を増大することは知られ
ておらず、従来予期することもできなかつたので
ある。 少なくとも50mol%がジメチルシロキサン単位
から成る線状の、枝分れの又は架橋されたオルガ
ノシロキサンとしては、本発明の範囲内では、少
なくとも50mol%がジメチルシロキサン単位から
成り、従つてまた従来シロキサン基の付加によつ
て環状ジメチルシロキサンをそれから製造するこ
とのできたすべての線状の、枝分れの又は架橋さ
れたオルガノポリシロキサンを使用することがで
きる。好ましくは、少なくとも95mol%がジオル
ガノシロキサン単位から成り、少なくとも95mol
%がメチル基である有機基を有する線状の又は事
実上線状の又は架橋されたオルガノポリシロキサ
ンである。メチル基の他に本発明の範囲で使用さ
れるオルガノポリシロキサン中に場合によつては
存在する他の有機基は、好ましくはエチル基、ビ
ニル基又はフエニル基又は少なくとも2個のこの
ような他の基から成る混合基である。ジオルガノ
シロキサン単位の他に場合により存在する他のシ
ロキサン単位は特にトリオルガノシロキサン単
位、モノオルガノシロキサン単位又はSiO4/2
単位又は少なくとも2種の他のこのような単位の
混合単位である。 本発明による方法で使用されるオルガノポリシ
ロキサンは、程度の差こそあれ純粋な形で存在す
るが、しかし少なくとも350℃でシロキサン基に
作用する物質を大体において含まずに存在する。
しかしまた本発明方法で使用されるオルガノポリ
シロキサンは、例えば、架橋可能な又は架橋され
たオルガノポリシロキサンの他に大抵、常用のエ
ラストマー製造用の充填剤、顔料のような助剤、
有機錫化合物のような架橋触媒又は架橋触媒の分
解生成物を含有するエラストマーに架橋可能で、
部分的又は完全に架橋される材料の形で存在して
いてもよく、この場合には前記材料は少なくとも
大体において350℃でシロキサン基に作用する物
質を含まない。 もちろん本発明方法の場合には、一種類のオル
ガノポリシロキサンのみならず、異なる種類のオ
ルガノポリシロキサンから成る混合物を使用する
こともできる。 本発明方法の場合の加熱は好ましくはせいぜい
800℃で実施される。 シロキサン基、従つて式: ≡SiOSi≡ で示される基に作用する物質、従つてオルガノポ
リシロキサンの転位、重合又は解重合をもたらす
物質は、例えば少なくとも350゜の温度では例え
ば有機錫化合物から形成される酸化錫ではない
が、しかし例えば500℃では例えば常用のゾーダ
ガラスのアルカリ分である。ところで本発明では
シロキサン基に作用する物質の存在は回避されな
ければならない。従つて本発明方法で使用される
オルガノポリシロキサンのみならず、本発明方法
の範囲内で使用される装置もその表面が少なくと
も350℃の温度を有する限り、工業的に実施可能
の規模では350℃でシロキサン基に作用する物質
を含有してはならない。 本発明方法では好ましくは、少なくとも50mol
%がジメチルシロキサン単位から成る線状の、枝
分れの又は架橋されたオルガノポリシロキサン
を、鉄又は鋼、銅、ニツケル又はクロム又はこれ
らの金属のアルカリ不含合金から成る容器で少な
くとも350℃に加熱する。 少なくとも350℃へのオルガノポリシロキサン
の加熱の間に、このオルガノポリシロキサン中に
このものに対して不活性のガス、例えば窒素を通
してもよい。 これは極めて僅かな費用を要するために、本発
明方法は好ましくは環境大気の圧力で、つまり1
バール又は約1バールで実施する。しかし所望な
らばより高いか又はより低い圧力を適用してもよ
い。 所望ならば、少なくとも50mol%がジメチルシ
ロキサン単位から成る線状の、枝分れの又は架橋
されたオルガノポリシロキサンの少なくとも350
℃への加熱は、撹拌又は循環下で行つてよい。本
発明方法はバツチ式に、半連続的に又は完全連続
的に実施することができる。 本発明により製造されたヘキサメチルシクロト
リシロキサンは、香料用キヤリヤーとして抜群に
適しており、この際同キヤリヤーはテトラメチル
シクロブタンジオンのような他のキヤリヤーの混
合物の形で存在していてもよい。 次に実施例及び比較例で本発明を詳述するが、
例中の「%」及び「部」はそれぞれ「重量%」及
び「重量部」を表わす。例中に記載したV4A鋼
は、クロム18重量%、ニツケル11重量%、モリブ
デン2重量%、炭素0.07重量%及び残りの鉄から
成る。 例1及び比較例a〜d 内径90mm及び高さ180mmを有し、600℃に電気的
に加熱されたV4A鋼製容器中に、窒素160ml/
min.(標準条件で測定)及び末端単位中に各1
個のSi結合ヒドロキシル基を有する粘度100mPa.
s(25℃)のジメチルポリシロキサン510ml/hrを
2個の異なる導管によつて上から同時に導入す
る。同容器に取付けられた下降冷却管で加熱時に
形成されかつ留出された環状ジオルガノポリシロ
キサンが凝縮される。 比較実験の場合には、その中でオルガノポリシ
ロキサンが加熱される容器は、該オルガノポリシ
ロキサン及び窒素の他にシロキサン基に作用する
アルカリ化合物(表1記載)をその都度0.5g含
有する。 次の結果が得られる。
ク(Wilcock)は、ジヤーナル・オブ・ジ・アメ
リカン・ケミカル・ソサイエテイ(Journal of
the American Chemical Society)、Vol.68
(1946)、360/361頁に、高分子ジメチルポリシロ
キサンを350℃に加熱してヘキサメチルシクロト
リシロキサンを製造する方法を記載している。そ
こでヘキサメチルシクロトリシロキサンを前記方
法の場合に得られるよりも良好な収量で製造する
という課題が生じた。この課題が本発明によつて
解決される。 本発明は、少なくとも50mol%がジメチルシロ
キサン単位から成る線状の、枝分れの又は架橋さ
れたオルガノポリシロキサンを少なくとも350℃
に加熱し、同時にこの加熱で形成された環状ジメ
チルポリシロキサンを留出してヘキサメチルシク
ロトリシロキサンを製造するに当り前記加熱がシ
ロキサン基に作用する物質の不在で行なわれるこ
とを特徴とするヘキサメチルシクロトリシロキサ
ンの製造方法に関する。 さて周知のようにアルカリはシロキサン基に作
用する物質に属する。これに対してシロキサン基
に作用する物質の存在がヘキサメチルシクロトリ
シロキサンの形成よりも、より高級な環状ジメチ
ルポリシロキサンの形成を増大することは知られ
ておらず、従来予期することもできなかつたので
ある。 少なくとも50mol%がジメチルシロキサン単位
から成る線状の、枝分れの又は架橋されたオルガ
ノシロキサンとしては、本発明の範囲内では、少
なくとも50mol%がジメチルシロキサン単位から
成り、従つてまた従来シロキサン基の付加によつ
て環状ジメチルシロキサンをそれから製造するこ
とのできたすべての線状の、枝分れの又は架橋さ
れたオルガノポリシロキサンを使用することがで
きる。好ましくは、少なくとも95mol%がジオル
ガノシロキサン単位から成り、少なくとも95mol
%がメチル基である有機基を有する線状の又は事
実上線状の又は架橋されたオルガノポリシロキサ
ンである。メチル基の他に本発明の範囲で使用さ
れるオルガノポリシロキサン中に場合によつては
存在する他の有機基は、好ましくはエチル基、ビ
ニル基又はフエニル基又は少なくとも2個のこの
ような他の基から成る混合基である。ジオルガノ
シロキサン単位の他に場合により存在する他のシ
ロキサン単位は特にトリオルガノシロキサン単
位、モノオルガノシロキサン単位又はSiO4/2
単位又は少なくとも2種の他のこのような単位の
混合単位である。 本発明による方法で使用されるオルガノポリシ
ロキサンは、程度の差こそあれ純粋な形で存在す
るが、しかし少なくとも350℃でシロキサン基に
作用する物質を大体において含まずに存在する。
しかしまた本発明方法で使用されるオルガノポリ
シロキサンは、例えば、架橋可能な又は架橋され
たオルガノポリシロキサンの他に大抵、常用のエ
ラストマー製造用の充填剤、顔料のような助剤、
有機錫化合物のような架橋触媒又は架橋触媒の分
解生成物を含有するエラストマーに架橋可能で、
部分的又は完全に架橋される材料の形で存在して
いてもよく、この場合には前記材料は少なくとも
大体において350℃でシロキサン基に作用する物
質を含まない。 もちろん本発明方法の場合には、一種類のオル
ガノポリシロキサンのみならず、異なる種類のオ
ルガノポリシロキサンから成る混合物を使用する
こともできる。 本発明方法の場合の加熱は好ましくはせいぜい
800℃で実施される。 シロキサン基、従つて式: ≡SiOSi≡ で示される基に作用する物質、従つてオルガノポ
リシロキサンの転位、重合又は解重合をもたらす
物質は、例えば少なくとも350゜の温度では例え
ば有機錫化合物から形成される酸化錫ではない
が、しかし例えば500℃では例えば常用のゾーダ
ガラスのアルカリ分である。ところで本発明では
シロキサン基に作用する物質の存在は回避されな
ければならない。従つて本発明方法で使用される
オルガノポリシロキサンのみならず、本発明方法
の範囲内で使用される装置もその表面が少なくと
も350℃の温度を有する限り、工業的に実施可能
の規模では350℃でシロキサン基に作用する物質
を含有してはならない。 本発明方法では好ましくは、少なくとも50mol
%がジメチルシロキサン単位から成る線状の、枝
分れの又は架橋されたオルガノポリシロキサン
を、鉄又は鋼、銅、ニツケル又はクロム又はこれ
らの金属のアルカリ不含合金から成る容器で少な
くとも350℃に加熱する。 少なくとも350℃へのオルガノポリシロキサン
の加熱の間に、このオルガノポリシロキサン中に
このものに対して不活性のガス、例えば窒素を通
してもよい。 これは極めて僅かな費用を要するために、本発
明方法は好ましくは環境大気の圧力で、つまり1
バール又は約1バールで実施する。しかし所望な
らばより高いか又はより低い圧力を適用してもよ
い。 所望ならば、少なくとも50mol%がジメチルシ
ロキサン単位から成る線状の、枝分れの又は架橋
されたオルガノポリシロキサンの少なくとも350
℃への加熱は、撹拌又は循環下で行つてよい。本
発明方法はバツチ式に、半連続的に又は完全連続
的に実施することができる。 本発明により製造されたヘキサメチルシクロト
リシロキサンは、香料用キヤリヤーとして抜群に
適しており、この際同キヤリヤーはテトラメチル
シクロブタンジオンのような他のキヤリヤーの混
合物の形で存在していてもよい。 次に実施例及び比較例で本発明を詳述するが、
例中の「%」及び「部」はそれぞれ「重量%」及
び「重量部」を表わす。例中に記載したV4A鋼
は、クロム18重量%、ニツケル11重量%、モリブ
デン2重量%、炭素0.07重量%及び残りの鉄から
成る。 例1及び比較例a〜d 内径90mm及び高さ180mmを有し、600℃に電気的
に加熱されたV4A鋼製容器中に、窒素160ml/
min.(標準条件で測定)及び末端単位中に各1
個のSi結合ヒドロキシル基を有する粘度100mPa.
s(25℃)のジメチルポリシロキサン510ml/hrを
2個の異なる導管によつて上から同時に導入す
る。同容器に取付けられた下降冷却管で加熱時に
形成されかつ留出された環状ジオルガノポリシロ
キサンが凝縮される。 比較実験の場合には、その中でオルガノポリシ
ロキサンが加熱される容器は、該オルガノポリシ
ロキサン及び窒素の他にシロキサン基に作用する
アルカリ化合物(表1記載)をその都度0.5g含
有する。 次の結果が得られる。
【表】
例 2
架橋されたオルガノポリシロキサンの製造のた
めには、末端位の単位中に各1個のSi結合ヒドロ
キシル基を有する粘度500mPa.sのジメチルポリ
シロキサン100部を、SiO2分を40%含有するエチ
ルポリシリケート3部及びジブチル錫ジアシレー
ト1部と混合する。この際前記アシレート基は、
1分子当り9〜11個の炭素原子を有しかつ少なく
とも90%のカルボン酸ではカルボキシル基が第3
炭素原子に結合されたカルボン酸から成る混合物
から誘導される(所謂“ジブチル錫ジベルザテー
ト(Dibutylzinn diversatat)”)。混合された物質
を型に注入し、そこで室温で架橋する。 このようにして製造したオルガノポリシロキサ
ンエラストマーを8日後に例1で記載した装置で
他の物質を加えることなく500℃に加熱する。次
の結果が得られる: 次の数のシロキサン単位を有する環状ジメチル
ポリシロキサンの量(%) 3 4 5 6 7 73.6 16.2 2.2 1 1 トリシロキサン:テトラシロキサンの重量比は
4.54である。 例 3〜7 例1について記載した作業法を繰返すが次の点
が異なる: 1 オルガノポリシロキサンを入れて加熱する容
器と下降冷却管との間には、ジヤケツトによつ
て1.35℃に加熱される金属製の管が存在する。
下降冷却管は80℃で保つ。 2 窒素を加える速度は160ml/minの代りに250
ml/min(標準条件で測定)である。 3 例3ではジメチルポリシロキサンの粘度は同
様に100mPa.s(25℃)であるが、例4〜7の
場合にはその都度600mPa.s(25℃)である。 4 使用するジメチルポリシロキサンを加える速
度は表2に記載した値を有する。 5 使用するジメチルポリシロキサンを加熱する
温度は、表2に記載された値である。
めには、末端位の単位中に各1個のSi結合ヒドロ
キシル基を有する粘度500mPa.sのジメチルポリ
シロキサン100部を、SiO2分を40%含有するエチ
ルポリシリケート3部及びジブチル錫ジアシレー
ト1部と混合する。この際前記アシレート基は、
1分子当り9〜11個の炭素原子を有しかつ少なく
とも90%のカルボン酸ではカルボキシル基が第3
炭素原子に結合されたカルボン酸から成る混合物
から誘導される(所謂“ジブチル錫ジベルザテー
ト(Dibutylzinn diversatat)”)。混合された物質
を型に注入し、そこで室温で架橋する。 このようにして製造したオルガノポリシロキサ
ンエラストマーを8日後に例1で記載した装置で
他の物質を加えることなく500℃に加熱する。次
の結果が得られる: 次の数のシロキサン単位を有する環状ジメチル
ポリシロキサンの量(%) 3 4 5 6 7 73.6 16.2 2.2 1 1 トリシロキサン:テトラシロキサンの重量比は
4.54である。 例 3〜7 例1について記載した作業法を繰返すが次の点
が異なる: 1 オルガノポリシロキサンを入れて加熱する容
器と下降冷却管との間には、ジヤケツトによつ
て1.35℃に加熱される金属製の管が存在する。
下降冷却管は80℃で保つ。 2 窒素を加える速度は160ml/minの代りに250
ml/min(標準条件で測定)である。 3 例3ではジメチルポリシロキサンの粘度は同
様に100mPa.s(25℃)であるが、例4〜7の
場合にはその都度600mPa.s(25℃)である。 4 使用するジメチルポリシロキサンを加える速
度は表2に記載した値を有する。 5 使用するジメチルポリシロキサンを加熱する
温度は、表2に記載された値である。
【表】
比較例 e〜g
1のガラスフラスコで末端位の単位に各1個
のSi結合ヒドロキシル基を有する粘度500mPa.s
(25℃)のジメチルポリシロキサン500gを、表3
に記載した添加物と混合して表3に記載した温度
に加熱する。長さ約200mmの充填塔を介して環状
ジメチルポリシロキサンを留出する。
のSi結合ヒドロキシル基を有する粘度500mPa.s
(25℃)のジメチルポリシロキサン500gを、表3
に記載した添加物と混合して表3に記載した温度
に加熱する。長さ約200mmの充填塔を介して環状
ジメチルポリシロキサンを留出する。
【表】
参考例 1
例1により製造し、粉砕したヘキサメチルシク
ロトリシロキサン20gを、香料油(“メーレスブ
リーゼ(Meeresbrise)”、Dragaco社製)2gを
十分に混合しかつ円形型で成形して円筒状物にす
る。このようにして得られた円筒状物を、その大
きさに相応する多数の小口を有するプラスチツク
容器に入れる。同容器の内容物はそれが完全に揮
発するまで25日以内は室内空気改善剤として有効
である。 参考例 2 例2により製造し、粉砕したヘキサメチルシク
ロトリシロキサン20gを、60℃でオレンジテルペ
ン2gと混合する。このようにして得られた溶融
物を円形型で凝固させる。得られた円筒状物をそ
の大きさに相応し、多数の小口を有するプラスチ
ツク容器に入れる。プラスチツク容器の内容物は
それが完全に揮発してしまうまで25日以内は室内
空間改善剤として有効である。 参考例 3 例3により製造し、粉砕したヘキサメチルシク
ロトリシロキサン18gを、60℃で香料油“フリー
デル(Flieder)”12g及び表面積約200m2/gを
有する熱分解的に製造した二酸化珪素1gと混合
し、得られた溶融物を、5個の長スリツトの打抜
かれた蓋を有するポリスチロール製ペトリシヤー
レで凝固させる。ペトリシヤーレの内容物は28日
間45m3の室内で芳香を放つ。 香料油“フリーデル”の組成: ヒドロキシシトロネラール 18.0% 桂皮アルコール 1.7% テルピネオール 8.0% ベンジルアルコール 18.0% フエニルエチルアルコール 20.0% リナロール 2.0% フエニルアセトアルデヒド 0.5% アニスアルデヒド 6.0% ヘリオトロピン 16.0% インドール(10%) 2.5% ジヤスミンベース 7.3% 参考例 4 例4により製造し、粉砕したヘキサメチルシク
ロトリシロキサン10g、テトラメチルシクロブタ
ンジオン30g及びスズラン配合物5gから成る混
合物を成形して立方体状物を作る。この立方体状
物を室内で自由懸垂すると、このものが完全に揮
発するまで23日間室内空気改善剤として有効であ
る。 スズラン配合物の組成: ヒドロキシシトロネラール 50部 α−ヘキシル桂皮アルデヒド 4〃 ベンジルアルコール 4〃 ゲラニオール 3〃 シトロネロール 3〃 リナロール 3〃 シトロネラール 3〃 酢酸リナリル 2〃 インドール(10%) 1〃 CiS−3−ヘキセノール(10%) 1〃 ラウリンアルデヒド(10%) 1〃
ロトリシロキサン20gを、香料油(“メーレスブ
リーゼ(Meeresbrise)”、Dragaco社製)2gを
十分に混合しかつ円形型で成形して円筒状物にす
る。このようにして得られた円筒状物を、その大
きさに相応する多数の小口を有するプラスチツク
容器に入れる。同容器の内容物はそれが完全に揮
発するまで25日以内は室内空気改善剤として有効
である。 参考例 2 例2により製造し、粉砕したヘキサメチルシク
ロトリシロキサン20gを、60℃でオレンジテルペ
ン2gと混合する。このようにして得られた溶融
物を円形型で凝固させる。得られた円筒状物をそ
の大きさに相応し、多数の小口を有するプラスチ
ツク容器に入れる。プラスチツク容器の内容物は
それが完全に揮発してしまうまで25日以内は室内
空間改善剤として有効である。 参考例 3 例3により製造し、粉砕したヘキサメチルシク
ロトリシロキサン18gを、60℃で香料油“フリー
デル(Flieder)”12g及び表面積約200m2/gを
有する熱分解的に製造した二酸化珪素1gと混合
し、得られた溶融物を、5個の長スリツトの打抜
かれた蓋を有するポリスチロール製ペトリシヤー
レで凝固させる。ペトリシヤーレの内容物は28日
間45m3の室内で芳香を放つ。 香料油“フリーデル”の組成: ヒドロキシシトロネラール 18.0% 桂皮アルコール 1.7% テルピネオール 8.0% ベンジルアルコール 18.0% フエニルエチルアルコール 20.0% リナロール 2.0% フエニルアセトアルデヒド 0.5% アニスアルデヒド 6.0% ヘリオトロピン 16.0% インドール(10%) 2.5% ジヤスミンベース 7.3% 参考例 4 例4により製造し、粉砕したヘキサメチルシク
ロトリシロキサン10g、テトラメチルシクロブタ
ンジオン30g及びスズラン配合物5gから成る混
合物を成形して立方体状物を作る。この立方体状
物を室内で自由懸垂すると、このものが完全に揮
発するまで23日間室内空気改善剤として有効であ
る。 スズラン配合物の組成: ヒドロキシシトロネラール 50部 α−ヘキシル桂皮アルデヒド 4〃 ベンジルアルコール 4〃 ゲラニオール 3〃 シトロネロール 3〃 リナロール 3〃 シトロネラール 3〃 酢酸リナリル 2〃 インドール(10%) 1〃 CiS−3−ヘキセノール(10%) 1〃 ラウリンアルデヒド(10%) 1〃
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 少なくとも50mol%がジメチルポリシロキサ
ン単位から成る線状の、枝分れの又は架橋された
オルガノポリシロキサンを、少なくとも350℃に
加熱し、同時にこの加熱で生成された環状ジメチ
ルポリシロキサンを留出することによつてヘキサ
メチルシクロトリシロキサンを製造するに当り、
前記加熱をシロキサン基に作用する物質の不在で
行なうことを特徴とするヘキサメチルシクロトリ
シロキサンの製造方法。 2 少なくとも350℃へのオルガノポリシロキサ
ンの加熱を、鉄又は鋼、銅、ニツケル又はクロム
又はこれらの金属のアルカリ不含合金から成る容
器で行なう特許請求の範囲第1項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP83105271.7 | 1983-05-27 | ||
| EP83105271A EP0126792B1 (de) | 1983-05-27 | 1983-05-27 | Verfahren zur Herstellung von Hexamethylcyclotrisiloxan und eine Verwendung des so hergestellten Cyclotrisiloxans |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59222495A JPS59222495A (ja) | 1984-12-14 |
| JPS6213357B2 true JPS6213357B2 (ja) | 1987-03-25 |
Family
ID=8190495
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58112981A Granted JPS59222495A (ja) | 1983-05-27 | 1983-06-24 | ヘキサメチルシクロトリシロキサンの製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4620023A (ja) |
| EP (1) | EP0126792B1 (ja) |
| JP (1) | JPS59222495A (ja) |
| AT (1) | ATE22896T1 (ja) |
| DE (1) | DE3366928D1 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4863723A (en) * | 1983-05-27 | 1989-09-05 | Consortium Fur Elektrochemische | Method for preparing hexamethylcyclotrisiloxane and uses for the same |
| US4764631A (en) * | 1988-01-15 | 1988-08-16 | Dow Corning Corporation | Preparation of cyclopolydiorganosiloxanes via vapor phase rearrangement |
| US4895967A (en) * | 1988-09-26 | 1990-01-23 | General Electric Company | Method for making cyclic poly(siloxane)s |
| DE4126319A1 (de) * | 1991-08-08 | 1993-02-11 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur pyrolyse von silikonkautschukvulkanisaten |
| EP0546747A1 (en) * | 1991-12-05 | 1993-06-16 | General Electric Company | Polymerisation process |
| US6262289B1 (en) | 1997-06-11 | 2001-07-17 | Kaneka Corporation | Process for preparing cyclic oligosiloxanes |
| GB2331992A (en) * | 1997-12-02 | 1999-06-09 | Dow Corning | Process for making cyclic organotrisiloxanes |
| JP4663838B2 (ja) | 2000-01-28 | 2011-04-06 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 環状シロキサンの製造方法 |
| EP2077123A1 (en) * | 2008-01-04 | 2009-07-08 | V. Mane Fils | Transparent anhydrous gel comprising perfume |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2438478A (en) * | 1942-02-26 | 1948-03-23 | Corning Glass Works | Method of preparing silicones and product thereof |
| US2618648A (en) * | 1951-08-28 | 1952-11-18 | Gen Electric | Preparation of hexamethylcyclotrisiloxane |
| BE537467A (ja) * | 1954-04-21 | |||
| US2860152A (en) * | 1956-04-26 | 1958-11-11 | Dow Corning | Method of producing cyclic diorganosiloxanes |
| JPS5250791B2 (ja) * | 1972-12-30 | 1977-12-27 | ||
| US3846464A (en) * | 1973-11-27 | 1974-11-05 | Gen Electric | Process for preparing cyclic methylvinylsiloxanes |
| US4111973A (en) * | 1977-12-01 | 1978-09-05 | General Electric Company | Process for producing a cyclotrisiloxane in a cracking reaction |
-
1983
- 1983-05-27 EP EP83105271A patent/EP0126792B1/de not_active Expired
- 1983-05-27 AT AT83105271T patent/ATE22896T1/de not_active IP Right Cessation
- 1983-05-27 DE DE8383105271T patent/DE3366928D1/de not_active Expired
- 1983-06-24 JP JP58112981A patent/JPS59222495A/ja active Granted
- 1983-08-17 US US06/524,009 patent/US4620023A/en not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| IEEE INT SYMP ELECTR INSUL=1980 * |
| JOURNAL OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY=1946 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59222495A (ja) | 1984-12-14 |
| US4620023A (en) | 1986-10-28 |
| ATE22896T1 (de) | 1986-11-15 |
| EP0126792A1 (de) | 1984-12-05 |
| EP0126792B1 (de) | 1986-10-15 |
| DE3366928D1 (en) | 1986-11-20 |
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