JPS62142145A - ペプチド誘導体 - Google Patents
ペプチド誘導体Info
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- JPS62142145A JPS62142145A JP60268415A JP26841585A JPS62142145A JP S62142145 A JPS62142145 A JP S62142145A JP 60268415 A JP60268415 A JP 60268415A JP 26841585 A JP26841585 A JP 26841585A JP S62142145 A JPS62142145 A JP S62142145A
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- alkyl
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- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
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- Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)
- Furan Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(目的)
本発明はレニン阻害作用を有し、経口吸収性及び水浴性
が良好な新規品ペプチド誘導体及びその薬理上許容し得
る塩に関するものである。
が良好な新規品ペプチド誘導体及びその薬理上許容し得
る塩に関するものである。
レーン阻害作用を有するペプチド誘導体としては、従来
、テトラペプチド、トリペプチド誘導体等が知られてい
る(%開昭52−151166号等)。
、テトラペプチド、トリペプチド誘導体等が知られてい
る(%開昭52−151166号等)。
本願発明者等は、ペプチド誘導体の合成及びソルニン阻
害活性について、長年に亘って鋭意研北な行った結果、
従来知られていない新規な構造を有するペプチド誘導体
が優れたレニン阻害活性を有し、かつ経口吸収性及び水
溶性が良好であること及び当該誘導体を合成するだめの
重要中間体となりうろことを見出して、本願発明を完成
させた。
害活性について、長年に亘って鋭意研北な行った結果、
従来知られていない新規な構造を有するペプチド誘導体
が優れたレニン阻害活性を有し、かつ経口吸収性及び水
溶性が良好であること及び当該誘導体を合成するだめの
重要中間体となりうろことを見出して、本願発明を完成
させた。
(構成)
本願発明に係るペプチド誘導体は、式(1)を有する化
合物である。
合物である。
を有するペプチド誘導体及びその薬理上許容し得る塩。
上記式中、
R1及びR2は同−又は異なって、式−B−R’基(式
中、Bは、直鎖状若しくは分校状の低級アルキレン基を
示し、R7はアリール基又はヘテロアリール基を示す。
中、Bは、直鎖状若しくは分校状の低級アルキレン基を
示し、R7はアリール基又はヘテロアリール基を示す。
)又は式−E−駅基 (式中、Eは1個の酸素原子で中
断されていてもよい低級アルキレン基を示し、R8は低
級アルコキシ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、
アラルキルオキシ基又は窒素原子を含むヘテロシクリル
基を示す。)を示し、 R3は、水素原子、置換されていてもよいC1−C10
のアルキル基 (該置換分は1個又は2個でもよく、そ
れらはハロゲン原子、トリフルオロメチル基、トリクロ
ロメチル基、水酸基、低級アルコキシ基、アリールオキ
シ基、アラルキルオキシ基、低級脂肪族アシルオキシ基
、メルカプト基、低級脂肪族アシルアミノで置換されて
もよい低級アルキルチオ基、アリールチオ基、アラルキ
ルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、アリールスル
フィニル基、低級アル−キルスルホニル基、アリールス
ルホニル基、アミン基、モノ若しくはジー低級アルキル
アミノ基、了り−ルアミノ基、低級脂肪族アシルアミノ
基、了り−ルアシルアミノ基、低級アルコキシカルボニ
ルアミノ基、アラルキルオキシカルボニルアミノ基、カ
ルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、アリールオ
キシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、カ
ルバモイル基、モノ若しくはジー低級アルキルカルバモ
イル基、つレイド基、チオウレイド基、グアニジル基、
C3−07シクロアルキル基、C5−c8シクロC3−
C8シクロアルケニル基、 アリール基又はヘテロアリ
ール基を示し、 R4はイソプロピル基、C3−C7のシクロアルキル基
又はフェニル基を示し、 R5は、直鎖状又は分枝状のC4−C5のアルキル基を
示し、 R6は、スルホ低級アルキル基、アリール基、アラルキ
ル基、ヘテロアリール基(N−オキシドを含む)又はヘ
テロアリール(N−オキシドを含む)−低級アルキル基
(上記アラルキル基パ又はへテロアリール−低級アルキ
ル基の低級アルキル部分は、置換基を有してもよく、該
置換基は、アミン基、モノ若しくはジ低級アルキルアミ
ノ基、グアニジノ基又はモノ若しくはジ低級アルキルグ
アニジノ基を示す。)を示す。
断されていてもよい低級アルキレン基を示し、R8は低
級アルコキシ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、
アラルキルオキシ基又は窒素原子を含むヘテロシクリル
基を示す。)を示し、 R3は、水素原子、置換されていてもよいC1−C10
のアルキル基 (該置換分は1個又は2個でもよく、そ
れらはハロゲン原子、トリフルオロメチル基、トリクロ
ロメチル基、水酸基、低級アルコキシ基、アリールオキ
シ基、アラルキルオキシ基、低級脂肪族アシルオキシ基
、メルカプト基、低級脂肪族アシルアミノで置換されて
もよい低級アルキルチオ基、アリールチオ基、アラルキ
ルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、アリールスル
フィニル基、低級アル−キルスルホニル基、アリールス
ルホニル基、アミン基、モノ若しくはジー低級アルキル
アミノ基、了り−ルアミノ基、低級脂肪族アシルアミノ
基、了り−ルアシルアミノ基、低級アルコキシカルボニ
ルアミノ基、アラルキルオキシカルボニルアミノ基、カ
ルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、アリールオ
キシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、カ
ルバモイル基、モノ若しくはジー低級アルキルカルバモ
イル基、つレイド基、チオウレイド基、グアニジル基、
C3−07シクロアルキル基、C5−c8シクロC3−
C8シクロアルケニル基、 アリール基又はヘテロアリ
ール基を示し、 R4はイソプロピル基、C3−C7のシクロアルキル基
又はフェニル基を示し、 R5は、直鎖状又は分枝状のC4−C5のアルキル基を
示し、 R6は、スルホ低級アルキル基、アリール基、アラルキ
ル基、ヘテロアリール基(N−オキシドを含む)又はヘ
テロアリール(N−オキシドを含む)−低級アルキル基
(上記アラルキル基パ又はへテロアリール−低級アルキ
ル基の低級アルキル部分は、置換基を有してもよく、該
置換基は、アミン基、モノ若しくはジ低級アルキルアミ
ノ基、グアニジノ基又はモノ若しくはジ低級アルキルグ
アニジノ基を示す。)を示す。
Bの直鎖又は分校状の低級アルキレン基は、c、−04
のアルキレン基を示し、例えば、メチレン、エチレン、
メチルメチレン、トリメチレン、プロピレン、テトラメ
チレン、n−プロピルメチレン、2−エチルエチレン、
3−メチルトリメチレン、2−メチルトリメチレンをあ
げることができる。
のアルキレン基を示し、例えば、メチレン、エチレン、
メチルメチレン、トリメチレン、プロピレン、テトラメ
チレン、n−プロピルメチレン、2−エチルエチレン、
3−メチルトリメチレン、2−メチルトリメチレンをあ
げることができる。
R,R,R,R等のアリール基又は、アラルキル基、ア
リールオキシ基若しくはアリールチオ基等のアリール部
分は、置換されていてモヨいフェニル、インデニル又は
ナフチルを示す。その置換基としては、1個乃至3個存
在してもよく、R6については、例えは、アミノ基、モ
ノ若しくはジ低級アルキルアミノ基、アミノ、モノ低級
アルキルアミノ若しくはジ低級アルキルアミノで置換さ
れた低級アルキル基、グアニジノ基、モノ若しくはジ低
級アルキルグアニジノ基、グアニジノ、モノ低級アルキ
ルグアニジノ着しくはジ低級アルキルグアニジノで置換
された低級アルキル基を示し、R3,R7,R8等につ
いては、例えば、低級アルキル基、弗素、塩素、臭素、
沃素のようなハロゲン原子、低級アルコキシ基、低級ア
ルコキシカルボニル基、トリフルオロメチル基、アミノ
基、シアノ基又はニトロ基を示す。又、ここで、低級ア
ルキル基又は低級アルキルアミノ基、低級アルコキシ基
等の低級アルキル部分としては、例えば、メチル、エチ
ル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブ
チル、S−ブチル又はt−7’チルをあげることができ
る(以下同じ。)。
リールオキシ基若しくはアリールチオ基等のアリール部
分は、置換されていてモヨいフェニル、インデニル又は
ナフチルを示す。その置換基としては、1個乃至3個存
在してもよく、R6については、例えは、アミノ基、モ
ノ若しくはジ低級アルキルアミノ基、アミノ、モノ低級
アルキルアミノ若しくはジ低級アルキルアミノで置換さ
れた低級アルキル基、グアニジノ基、モノ若しくはジ低
級アルキルグアニジノ基、グアニジノ、モノ低級アルキ
ルグアニジノ着しくはジ低級アルキルグアニジノで置換
された低級アルキル基を示し、R3,R7,R8等につ
いては、例えば、低級アルキル基、弗素、塩素、臭素、
沃素のようなハロゲン原子、低級アルコキシ基、低級ア
ルコキシカルボニル基、トリフルオロメチル基、アミノ
基、シアノ基又はニトロ基を示す。又、ここで、低級ア
ルキル基又は低級アルキルアミノ基、低級アルコキシ基
等の低級アルキル部分としては、例えば、メチル、エチ
ル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブ
チル、S−ブチル又はt−7’チルをあげることができ
る(以下同じ。)。
R3,R6,R7等のへテロアリール基又はヘテロアリ
ール−低級アルキル基のヘテロアリール部分は、フェニ
ル環と縮環してもよく、酸素、硫黄又は/及び窒素原子
を含む5乃至6員環状芳香族基を示し、例えは、フリル
、チェニル、オキサシリル、チアゾリル、ピリジル、ベ
ンゾフリル、ベンゾチオフェニル、インドリル、ベンツ
チアゾリル、ペンツイミダゾリル、キノリル又はイソキ
ノリルをあげることができ、又環上には置換基を有して
もよく、置換基としては、R6については、例えば前記
B6におけるアリール基の置換基と同様の基を示し、R
5,R7等については、例えは、低級アルキル基、ハロ
ゲン原子又は低級アルコキシ基をあげることができる。
ール−低級アルキル基のヘテロアリール部分は、フェニ
ル環と縮環してもよく、酸素、硫黄又は/及び窒素原子
を含む5乃至6員環状芳香族基を示し、例えは、フリル
、チェニル、オキサシリル、チアゾリル、ピリジル、ベ
ンゾフリル、ベンゾチオフェニル、インドリル、ベンツ
チアゾリル、ペンツイミダゾリル、キノリル又はイソキ
ノリルをあげることができ、又環上には置換基を有して
もよく、置換基としては、R6については、例えば前記
B6におけるアリール基の置換基と同様の基を示し、R
5,R7等については、例えは、低級アルキル基、ハロ
ゲン原子又は低級アルコキシ基をあげることができる。
又、R6については、ピリジン−N−オキシド、キノリ
ン−N−オキシドのよ5なN−オキシド結合を有するヘ
テロアリール基をも示す。
ン−N−オキシドのよ5なN−オキシド結合を有するヘ
テロアリール基をも示す。
1個の酸素原子で中断されていてもよい低級アルキレン
基は、 cl−cAのアルキレン基を示し、例えは、前
記Bにおけるー、゛− c、−c4アルキレン、式−CH2−0−CH2+、
−c)I2c)I2−O−CH2+、 −CH2−0−
cH2cH2+、 −CH2CH2−0−c)I2cl
(2−基をあげることができる。
基は、 cl−cAのアルキレン基を示し、例えは、前
記Bにおけるー、゛− c、−c4アルキレン、式−CH2−0−CH2+、
−c)I2c)I2−O−CH2+、 −CH2−0−
cH2cH2+、 −CH2CH2−0−c)I2cl
(2−基をあげることができる。
R6,88等のアラルキル基又はアラルキルオキシ基の
アラルキル部分は、アリール基で置換された低級アルキ
ル基を示し、例えは、ベンジル、フェネチル基、4−フ
ェニルブチル基ヲアげることができる。
アラルキル部分は、アリール基で置換された低級アルキ
ル基を示し、例えは、ベンジル、フェネチル基、4−フ
ェニルブチル基ヲアげることができる。
R8の窒素原子を含むヘテロシクリル基は、窒素原子を
1個又は2個含み、酸素又は硫黄原子を含んでもよい5
乃至6員環状基を示し、例えば、ピペリジル、ピペリジ
ノ、ピCI IJジル、ピロリジノ、モルホリニル、モ
ルホリノ、オキサゾリジニル、オキサシリジノ、チアシ
リジノ、ル、チアシリジノ、イミダゾリジノ、ピペラジ
ニル、ピペラジノをあげることができ、又、環上には置
換基を有してもよく、置換基としては、例、tば、低級
−アルキル、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキ
シ、置換されていてもよいフェニル(k換基は前記アリ
ール基の置換基と同一の基を示す。)、ヘテロアリール
参、アラルキルカルボキシ、低級アルコキシカルボニル
、ピリジル基又はシンナモイル(当該フェニル環上の置
換基は前記アリール基の置換基と同一の基を示す。)を
あげることができる。
1個又は2個含み、酸素又は硫黄原子を含んでもよい5
乃至6員環状基を示し、例えば、ピペリジル、ピペリジ
ノ、ピCI IJジル、ピロリジノ、モルホリニル、モ
ルホリノ、オキサゾリジニル、オキサシリジノ、チアシ
リジノ、ル、チアシリジノ、イミダゾリジノ、ピペラジ
ニル、ピペラジノをあげることができ、又、環上には置
換基を有してもよく、置換基としては、例、tば、低級
−アルキル、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキ
シ、置換されていてもよいフェニル(k換基は前記アリ
ール基の置換基と同一の基を示す。)、ヘテロアリール
参、アラルキルカルボキシ、低級アルコキシカルボニル
、ピリジル基又はシンナモイル(当該フェニル環上の置
換基は前記アリール基の置換基と同一の基を示す。)を
あげることができる。
R3のCl−C10のアルキル基は、例えは、 前記の
C1−c4のアルキル基の他に、 n−ペアfル、1−
メチルブチル、インペンチル、2−メチルブチル、S−
ペンチル、n−ヘキシル、S−ヘキシル、1.3−ジメ
チルブチル、3,3−ジメチルブチル、n−へブチル、
n−オクチル、1.5−ジメチルヘキシル、n−ノニル
、n−fシルをあげることができる。
C1−c4のアルキル基の他に、 n−ペアfル、1−
メチルブチル、インペンチル、2−メチルブチル、S−
ペンチル、n−ヘキシル、S−ヘキシル、1.3−ジメ
チルブチル、3,3−ジメチルブチル、n−へブチル、
n−オクチル、1.5−ジメチルヘキシル、n−ノニル
、n−fシルをあげることができる。
R3の低級脂肪族アシルアミノ基等のアシル部分は、C
1−CAのアシル基であり、例えば、ホルミル、アセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリルをあげるこ
とができる。
1−CAのアシル基であり、例えば、ホルミル、アセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリルをあげるこ
とができる。
R3における又はR4のc3− c7の シクロアルキ
ル基は、例えは、シクロプロピル、シクロブチル、シク
ロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル基を示す
。
ル基は、例えは、シクロプロピル、シクロブチル、シク
ロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル基を示す
。
R3におけるC5− C8のシクロアルケニル基は、例
工ば、シクロペンテニル、シクロへキセニル、シクロヘ
プテニル、シクロオクテニルをあけることができる。
工ば、シクロペンテニル、シクロへキセニル、シクロヘ
プテニル、シクロオクテニルをあけることができる。
R5のcl−05のアルキルは、例えば、前記のcl−
C,のアルキル基の他に、n−ペンチル、イソペンチル
基をあげることができる。
C,のアルキル基の他に、n−ペンチル、イソペンチル
基をあげることができる。
几6の好適な基としては、置換基を有するアリール、ア
ラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリール−低級アル
キル基であり、さらに好適には置換されたフェニル、ベ
ンジル、フェネチル、ピリジル、ピリジルメチル基をあ
げることができる。
ラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリール−低級アル
キル基であり、さらに好適には置換されたフェニル、ベ
ンジル、フェネチル、ピリジル、ピリジルメチル基をあ
げることができる。
又、化合物(I) において、” j IL21 R’
IR5及びR6の好適な基は、例えば次の通りである
。
IR5及びR6の好適な基は、例えば次の通りである
。
R,R。
CH30CH2CH2−、CH3CH20CH2CH2
、Cl40÷ClI2す、〇七H2す2゜cH,CO2
−o+cH2+2o(cH2+2 。
、Cl40÷ClI2す、〇七H2す2゜cH,CO2
−o+cH2+2o(cH2+2 。
■−〇千〇iI2+2 + Cj+o+cn2+2
+ ■−s+cH2す2 。
+ ■−s+cH2す2 。
0m1n20(−CH2+20(C)12+2 t*
cl(3’ R3: R2 CH,、−CH2CH3、づヒC3H7,−1−C3H
7゜n C4Hq 、 ’1−C4H9,−&−C4
H9,−f!−C5H11。
cl(3’ R3: R2 CH,、−CH2CH3、づヒC3H7,−1−C3H
7゜n C4Hq 、 ’1−C4H9,−&−C4
H9,−f!−C5H11。
i C3H11、1−c6141t、、 −トC7H
15、−rF−C6H17。
15、−rF−C6H17。
1べ9H19ラ 1べ10H21。
−C82F 、 −CH2C1、−CH2CH(J
2 。
2 。
−a)12cc713 。
−CH20CH5、−CH20CH2CH5,−CH2
0−”−C4H9゜−CH2CH20CH5、−CH2
CH20CH2CH4。
0−”−C4H9゜−CH2CH20CH5、−CH2
CH20CH2CH4。
−CH20−■ 。
−CH2SH2−cH2CH28H9−CH2−8−c
H2NHCOCH3゜・−CH2−CH2−8−CH3
゜ −CH2−CH2−8−CH2CH5,−(0(29−
,5−CH3,4CH2÷4S戒H5。
H2NHCOCH3゜・−CH2−CH2−8−CH3
゜ −CH2−CH2−8−CH2CH5,−(0(29−
,5−CH3,4CH2÷4S戒H5。
↑
−C)12CH2−8−C)13 。
−cH2CH2So2cH3、−CH2CH2−80?
■ 。
■ 。
−CH2NH2、−CH2CH2NH2,÷CH2+3
NH2゜−CH2CO2H、−CH2CH2CO2H。
NH2゜−CH2CO2H、−CH2CH2CO2H。
−CH2CO2CH3t CH2CO2”C4Hq
。
。
−CH2CH2CO2−C4H6。
−aH2co2=@ 、 −CH2CO2CH
2−+■ 。
2−+■ 。
Cf(2CONH2、CH2CH2CONH2。
S
柾
−CH2NH−〇−NH2。
R5:
1へ3H7、t−c、R7、−r?−C4H9,j−C
4H2゜−ビ4H9曹 1べ5H11* jイ5H
11R6ニ ーCH2CH2503H 化合物(I)において、不斉炭素に基づく光学昆性体が
存在する場合には、光学活性体及びラセミ体を含むが、
好適には 式 本発明の前記一般式(I)を有する化合物は、薬理上許
容し得る塩にすることができる。そのような塩としてし
;例えば塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩のような鉱酸塩、シ
ュウ酸塩、マレイン酸塩。
4H2゜−ビ4H9曹 1べ5H11* jイ5H
11R6ニ ーCH2CH2503H 化合物(I)において、不斉炭素に基づく光学昆性体が
存在する場合には、光学活性体及びラセミ体を含むが、
好適には 式 本発明の前記一般式(I)を有する化合物は、薬理上許
容し得る塩にすることができる。そのような塩としてし
;例えば塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩のような鉱酸塩、シ
ュウ酸塩、マレイン酸塩。
コハク酸塩、クエン酸塩のような有機酸塩、メタンスル
ホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、P−トルエンスルホ
ン酸塩のようなスルホン酸塩等の酸付加塩あるいはナト
リウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩
のようなアルカリ金属塩若しくはアルカリ土類金属塩、
ジシクロヘキシルアミン塩のような有機塩基塩をあげる
ことができる。
ホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、P−トルエンスルホ
ン酸塩のようなスルホン酸塩等の酸付加塩あるいはナト
リウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩
のようなアルカリ金属塩若しくはアルカリ土類金属塩、
ジシクロヘキシルアミン塩のような有機塩基塩をあげる
ことができる。
又、化合物(I)において、好適には
1)R1及びR2の少なくとも1個が式−B −R7基
でちる化合物、 2)R3が置換されていてもよい低級アルキル基(該置
換分は、低級アルコキシ基、ベンジルオキシ基、低級ア
ルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アル
キルスルホニル基、カルバモイル基、置換されていても
よいフェニル基又はヘテロアリール基でちる。)である
化合物、 3)R4がイソプロピル基である化合物、4)R5がイ
ソプロピル基、イソブチル基、s −ブチル基である化
合物、 ル基(該置換分は、アミン基、アミノメチル基又はアミ
ノエチル基を示す。)である化合物、 6ン R1及びR2の少なくとも1個が式−B−R7基
であり、R5が置換されていてもよい低級アルキル基(
該置換分は、低級アルコキシ基、ベンジルオキシ基、低
級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級
アルキルスルホニル基、カルバモイル基、tit換され
ていてもよいフェニル基又はヘテロアリール基である。
でちる化合物、 2)R3が置換されていてもよい低級アルキル基(該置
換分は、低級アルコキシ基、ベンジルオキシ基、低級ア
ルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アル
キルスルホニル基、カルバモイル基、置換されていても
よいフェニル基又はヘテロアリール基でちる。)である
化合物、 3)R4がイソプロピル基である化合物、4)R5がイ
ソプロピル基、イソブチル基、s −ブチル基である化
合物、 ル基(該置換分は、アミン基、アミノメチル基又はアミ
ノエチル基を示す。)である化合物、 6ン R1及びR2の少なくとも1個が式−B−R7基
であり、R5が置換されていてもよい低級アルキル基(
該置換分は、低級アルコキシ基、ベンジルオキシ基、低
級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級
アルキルスルホニル基、カルバモイル基、tit換され
ていてもよいフェニル基又はヘテロアリール基である。
)であり R4がイソプロピル基であり、R5がイソプ
ロピル基、インブチル基又はe−ブチル基であり、R6
がスルホエチル基、置換されたフェニル基、ベンジル基
、7エネテル基又はピリジルメチル基(該置換分は、ア
ミン基、アミノメチル基又はアミノエチル基を示す。)
である化合物、 7)R1及びR2が同−又は異なって、式−B−R7を
有する基である化合物。
ロピル基、インブチル基又はe−ブチル基であり、R6
がスルホエチル基、置換されたフェニル基、ベンジル基
、7エネテル基又はピリジルメチル基(該置換分は、ア
ミン基、アミノメチル基又はアミノエチル基を示す。)
である化合物、 7)R1及びR2が同−又は異なって、式−B−R7を
有する基である化合物。
8)R6が正級アルキル基又は低級アルコキシ。
低級アルキルチオ、カルバモイル、置換されてもよいフ
ェニル、イミダゾリル若しくは置換されてもよいチアゾ
リルで置換されたdl−c2のアルキル基である化合物
。
ェニル、イミダゾリル若しくは置換されてもよいチアゾ
リルで置換されたdl−c2のアルキル基である化合物
。
9)R1及びR2が同−又は異なって、式−B−Rvを
有する基であり、 R3が低級アルキル基又は1級アル
コキシ、低級アルキルチオ、カルバモイル、 i−aす
れてもよいフェニル、イミダゾリル若しくは直換されて
もよいチアゾリルで置換されたal−Q2のアルキル基
であり、R4がイソプロピル基であり R5がイソブチ
ル基又はS−ブチル基でおり、R6がアミノメチル若し
くはアミノエチルで置換されたベンジル基又はフェネチ
ル基である化合物、10)R1及びR2が共にナフチル
メチル基である化合物。
有する基であり、 R3が低級アルキル基又は1級アル
コキシ、低級アルキルチオ、カルバモイル、 i−aす
れてもよいフェニル、イミダゾリル若しくは直換されて
もよいチアゾリルで置換されたal−Q2のアルキル基
であり、R4がイソプロピル基であり R5がイソブチ
ル基又はS−ブチル基でおり、R6がアミノメチル若し
くはアミノエチルで置換されたベンジル基又はフェネチ
ル基である化合物、10)R1及びR2が共にナフチル
メチル基である化合物。
it) R3がn−プロピル、イソプロピル、n−ブ
チル、イソブチル、イミダゾリルメチル、チアゾリルメ
チル、置換されていてもよいベンシル基、メチルチオエ
チル、カルバモイルメチル基又はカルバモイルエチル基
である化金物、 さらに、化合物(I)において、好適には、以下の表1
−表3に例示する化合物をあげることができる。
チル、イソブチル、イミダゾリルメチル、チアゾリルメ
チル、置換されていてもよいベンシル基、メチルチオエ
チル、カルバモイルメチル基又はカルバモイルエチル基
である化金物、 さらに、化合物(I)において、好適には、以下の表1
−表3に例示する化合物をあげることができる。
表1
しn5
前記一般式(1)を有する本発明の化合物は、常法に従
って製造することができる。
って製造することができる。
例えば、目的化合物は、一般式
%式%
(式中、R1,R2及びR3は、前述し九ものと同意義
を示す。) を有するカルボン及びその反応性誘導体と一般式 (式中、 R4及びR5は前述したものと同意義を示し
、Rb2は、アミノ基、モノ置換アミノ基が保護されて
いる他、R6と同意義を示す。)を有するアミン化合物
を用いて、ペプチド合成法における常法2例えばアジド
法、活性エステル法、混合酸無水物法、カルボジイミド
法又はは酸化還元系による縮合法によってペプチド誘導
体を製造し、 R/ K含まれるアミノ基等の採機を除
去することによって製造することができる。
を示す。) を有するカルボン及びその反応性誘導体と一般式 (式中、 R4及びR5は前述したものと同意義を示し
、Rb2は、アミノ基、モノ置換アミノ基が保護されて
いる他、R6と同意義を示す。)を有するアミン化合物
を用いて、ペプチド合成法における常法2例えばアジド
法、活性エステル法、混合酸無水物法、カルボジイミド
法又はは酸化還元系による縮合法によってペプチド誘導
体を製造し、 R/ K含まれるアミノ基等の採機を除
去することによって製造することができる。
又、一般式
(式中、 R5,R4,R5及びR6/は前述したも
のと同意義を示す。) を有するアミン化合物と一般式 (式中、 Ht及びR2は前述したものと同意義を示
す。) を有するカルボン酸又はその反応性誘導体を用いて、上
記ペプチド合成法に従って、ペプチド誘導体を製造し、
Rb2に含まれるアミノ基等■保護基を除去することに
よって目的化合物(1)を製造することもできる。
のと同意義を示す。) を有するアミン化合物と一般式 (式中、 Ht及びR2は前述したものと同意義を示
す。) を有するカルボン酸又はその反応性誘導体を用いて、上
記ペプチド合成法に従って、ペプチド誘導体を製造し、
Rb2に含まれるアミノ基等■保護基を除去することに
よって目的化合物(1)を製造することもできる。
上記ペプチド合成法において、
アジド法は、アミノ酸又はそのエステル体をヒドラジン
と、不活性溶剤(例えば、ジメチルホルムアミド)中、
室温付近で反応させることによって製造されるアミノ酸
ヒドラジドを亜硝酸化合物と反応させ、アジド化合物に
変換した後、アミン化合物と処理することにより行われ
る。
と、不活性溶剤(例えば、ジメチルホルムアミド)中、
室温付近で反応させることによって製造されるアミノ酸
ヒドラジドを亜硝酸化合物と反応させ、アジド化合物に
変換した後、アミン化合物と処理することにより行われ
る。
使用される亜硝酸化合物としては、例えば亜硝酸ナトリ
ウムのようなアルカリ金属亜硝酸塩又は亜硝酸イノアミ
ルのような亜硝酸アルキルをあげることができる。
ウムのようなアルカリ金属亜硝酸塩又は亜硝酸イノアミ
ルのような亜硝酸アルキルをあげることができる。
反応は、好適には不活性溶剤中で行われ、使用される溶
剤としては1例えばジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミドのようなアミド類、ジメチルスルホキシドの
ようなスルホキシドfAs”−メチルピロリドンのよう
なビ゛ロリドン類ヲあげることができる。又1本方法の
2つの工程は、通常1つの反応液中で行われ1反応温度
は、前段が一50℃乃至0℃であり、後段が10時間乃
至15日間である。
剤としては1例えばジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミドのようなアミド類、ジメチルスルホキシドの
ようなスルホキシドfAs”−メチルピロリドンのよう
なビ゛ロリドン類ヲあげることができる。又1本方法の
2つの工程は、通常1つの反応液中で行われ1反応温度
は、前段が一50℃乃至0℃であり、後段が10時間乃
至15日間である。
活性エステル法は、アミノ酸を活性エステル化剤と反応
させ、活性エステルを製造した後、アミン化合物と反応
させることによって行われる。
させ、活性エステルを製造した後、アミン化合物と反応
させることによって行われる。
両反応は、好適には、不活性溶剤中で行われ使用される
溶剤としては2例えば、メチレンクロリド、クロロホル
ムのようなノ10ゲン化剤化水素類、エーテル、テトラ
ヒドロフランのようなエーテル類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミドのようなアミド類をあげるこ
とができる。
溶剤としては2例えば、メチレンクロリド、クロロホル
ムのようなノ10ゲン化剤化水素類、エーテル、テトラ
ヒドロフランのようなエーテル類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミドのようなアミド類をあげるこ
とができる。
使用される活性エステル化剤としては1例えば、N−ヒ
ドロキシサクシイミド、1−ヒドロキシベンゾトリアゾ
ール、N−ヒドロキシ−5−ノルボルネン−2,3−ジ
カルボキシイミドのよ5なN−ヒドロキシ化合物をあげ
ることができ。
ドロキシサクシイミド、1−ヒドロキシベンゾトリアゾ
ール、N−ヒドロキシ−5−ノルボルネン−2,3−ジ
カルボキシイミドのよ5なN−ヒドロキシ化合物をあげ
ることができ。
活性エステル化反応は、ジシクロへキシルカルボジイミ
ド、カルボニルジイミダゾールのような縮合剤の存在下
に好適に行われる。
ド、カルボニルジイミダゾールのような縮合剤の存在下
に好適に行われる。
反応温度は、活性エステル化反応では、−10℃乃至1
0℃であり、活性エステル化合物とアミンとの反応では
室温付近であり、反応に要する時間は両反応ともに30
分間乃至10時間である。
0℃であり、活性エステル化合物とアミンとの反応では
室温付近であり、反応に要する時間は両反応ともに30
分間乃至10時間である。
混合酸無水物法し了、アミノ酸の混合酸無水物を製造し
た後、アミンと反応させることにより行われる。
た後、アミンと反応させることにより行われる。
混合酸無水物を製造する反応は、不活性溶剤(例えば、
前記のアミド類、エーテル類)中、クロル炭酸エチル、
クロル炭酸インブチルのような炭酸低級アルキルハライ
ド又はジエチルシアンリン酸のようなジ低級アルキル
シアノリン酸とアミノ酸を反応させることVC,、Cり
達成される。
前記のアミド類、エーテル類)中、クロル炭酸エチル、
クロル炭酸インブチルのような炭酸低級アルキルハライ
ド又はジエチルシアンリン酸のようなジ低級アルキル
シアノリン酸とアミノ酸を反応させることVC,、Cり
達成される。
反応は、好適には、トリエチルアミン% N−メチルモ
ルホリンのような有機アミンの存在下に行われ5反応温
度は、−10℃乃至10℃であり、反応に要する時間は
30分間乃至5時間である。
ルホリンのような有機アミンの存在下に行われ5反応温
度は、−10℃乃至10℃であり、反応に要する時間は
30分間乃至5時間である。
混合酸無水物とアミンの反応は、好適には不活性溶剤(
例えば、前記のアミド類、エーテル類)中、前記の有機
アミンの存在下に行われ、反応温度は0℃乃至室温であ
り1反応に要する時間は1時間乃至24時間でおる。
例えば、前記のアミド類、エーテル類)中、前記の有機
アミンの存在下に行われ、反応温度は0℃乃至室温であ
り1反応に要する時間は1時間乃至24時間でおる。
縮合法は、アミノ酸とアミンをジシクロへキシルカルボ
ジイミド、カルボニルジイミダゾールのような縮合剤の
存在下、直接反応することKよって行われる。本反応は
前記の活性エステルを製造する反応と同様に行われる。
ジイミド、カルボニルジイミダゾールのような縮合剤の
存在下、直接反応することKよって行われる。本反応は
前記の活性エステルを製造する反応と同様に行われる。
以上の各方法を行う際、必要に応じて、アミノ酸のアミ
ノ基の保護、脱保護を行うことができる。
ノ基の保護、脱保護を行うことができる。
R6/に含まれるアミノ基等又はアミノ酸に含まれるア
ミノ基の保り基としては、アミノ酸の化学の分野で使用
される保護基なら特に制限されないか1例えば、ベンジ
ルオキシカルボニル基、p−メトキシベンジルオキシカ
ルボニル基。
ミノ基の保り基としては、アミノ酸の化学の分野で使用
される保護基なら特に制限されないか1例えば、ベンジ
ルオキシカルボニル基、p−メトキシベンジルオキシカ
ルボニル基。
t−ブチルオキシカルボニル基、9−フルオレニルメチ
ルオキシカルボニル基などアシル基をあげることができ
る。
ルオキシカルボニル基などアシル基をあげることができ
る。
アミノ基等の保護化は、不活性溶剤中(例えばベンゼン
中)相当する化合物にアシルハライド(例えば、ベンジ
ルオキシカルボニルクロリド等)またはジアルキルジカ
ーボネイト(例えばジー七−プチルジカーボネイト)を
0℃乃至30℃で、2時間乃至5時間反応させることに
よって達成される。
中)相当する化合物にアシルハライド(例えば、ベンジ
ルオキシカルボニルクロリド等)またはジアルキルジカ
ーボネイト(例えばジー七−プチルジカーボネイト)を
0℃乃至30℃で、2時間乃至5時間反応させることに
よって達成される。
保纏基の除去反応は、アミン基等の保護基の種類によっ
て異なる。
て異なる。
例えば、保護基が、ベンジルオキシカルボニル基のよう
なアラルキルオキシカルボニル基の場合には、相当する
化合物を、接触還元触媒の存在下(例えばパラジウム−
炭素)、不活性溶剤中、常圧乃至3気圧の水素と室温付
近で、3時間乃至10時間反応させることによって達成
される。保護基がt−ブトキシカルボニル基である場合
には、相当する化合物を、酸(例えば塩酸−ジオキサン
)と0℃乃至30℃で、20分間乃至1時間反応させる
ことによって達成される。
なアラルキルオキシカルボニル基の場合には、相当する
化合物を、接触還元触媒の存在下(例えばパラジウム−
炭素)、不活性溶剤中、常圧乃至3気圧の水素と室温付
近で、3時間乃至10時間反応させることによって達成
される。保護基がt−ブトキシカルボニル基である場合
には、相当する化合物を、酸(例えば塩酸−ジオキサン
)と0℃乃至30℃で、20分間乃至1時間反応させる
ことによって達成される。
又、所望により、R6に含まれるアミン基をグアニジノ
基に変換することもできる。
基に変換することもできる。
アミノ基のグアニジノ基への変換レコ、不活性溶媒(例
えばジメチルホルムアミド)中% 1−グアニル−3,
5−ジメチルピラゾール硝酸塩をトリエチルアミン等の
塩基の存在下、10℃乃至25℃で1日乃至7日間反応
させることによって達成される〔例えば R,A、B、
Bannard et。
えばジメチルホルムアミド)中% 1−グアニル−3,
5−ジメチルピラゾール硝酸塩をトリエチルアミン等の
塩基の存在下、10℃乃至25℃で1日乃至7日間反応
させることによって達成される〔例えば R,A、B、
Bannard et。
al、 Oan、J、Qhθm、36.1541 (1
958)’)。
958)’)。
本発明の前記一般式(I)を有するペプチド類のヒトの
レニンに対する阻害作用試験の結果を以下に示す。なお
、試験方法は国府らの方法(Hypertension
、 5.191〜197(1983):)に準じて、ヒ
トレニンとレニン阻害剤を混和した後、ヒツジ・レニン
基質を加えることによつて実施した 供試化金物 ヒトレニンに対する阻害度帳)(IX
IOM) 実施例1の化合物 s8.2% 本発明の目的化合物(1)は、上記の試験例で示したよ
うにヒトのレニンに対して優れた阻害作用を表わした。
レニンに対する阻害作用試験の結果を以下に示す。なお
、試験方法は国府らの方法(Hypertension
、 5.191〜197(1983):)に準じて、ヒ
トレニンとレニン阻害剤を混和した後、ヒツジ・レニン
基質を加えることによつて実施した 供試化金物 ヒトレニンに対する阻害度帳)(IX
IOM) 実施例1の化合物 s8.2% 本発明の目的化合物(1)は、上記の試験例で示したよ
うにヒトのレニンに対して優れた阻害作用を表わした。
又、化合物(1)!2.マーモセットを用いた経口投与
によりすぐれた効果を示すとともに水に対する溶解性も
良好であった。従ってレニン−アンジオテンシン系に基
〈高血圧症の診断薬及び治療剤、特に経口用として有用
である。その投与形態としては例えば錠剤、カプセル剤
、顆粒剤、散剤、シロップ剤などによる経口投与ばかり
でまく注射剤、坐剤などによる非経口投与もをあげるこ
とができる。その使用量は使用目的、症状1年令などに
よって異なるが1例えば1日約0.01η乃至1oov
4/kg体重であり、1回またを:数回に分けて投与す
ることができる。
によりすぐれた効果を示すとともに水に対する溶解性も
良好であった。従ってレニン−アンジオテンシン系に基
〈高血圧症の診断薬及び治療剤、特に経口用として有用
である。その投与形態としては例えば錠剤、カプセル剤
、顆粒剤、散剤、シロップ剤などによる経口投与ばかり
でまく注射剤、坐剤などによる非経口投与もをあげるこ
とができる。その使用量は使用目的、症状1年令などに
よって異なるが1例えば1日約0.01η乃至1oov
4/kg体重であり、1回またを:数回に分けて投与す
ることができる。
次に実施例をあげ本発明をさらに具体的に説明する。
実施例1゜
塩−
(a)N−Cビス(1−ナフチルメチル)アセチル)
−L−ヒスチジル−スタチン ヒドラジド N−t−ブ
チロキシカルボニル−スタチン エチルエステルLo
t (s、 aミリモル)を4規定塩WR/ジオキサン
溶液ZQd中、室温で20分間処理してt−ブチロキシ
カルボニル基を除去した。反応液を減圧上濃縮、乾固し
、残渣をジメチルホルムアミド10aJIC溶解した後
、水冷下、トリエチルアミンα67り([6ミリモル)
で中和し九。これに 、dt−ブチロキシカルボニルア
ミノ−N1m−λ4−ジニトロフェニルーL−ヒスチジ
ン・イソプロパツールz1sF(&6ミリモ)、N−ヒ
ドロキシ−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボキシイ
ミド1.18f(6,8ミリモル)およびジシクロヘキ
シカルボジイミド1.48?((7,2ミリモル)とか
ら展進した活性エステルの塩化メチレン溶液(40mg
)を加え、室温で8時間攪拌した。析出したジシク目へ
キシルウレアをr去し、r液を減圧濃縮した。残渣に1
0%クエン酸水溶液を加え、析出した油状物を酢酸エチ
ルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽和重曹水および飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧
濃縮した。油状残置にジエチルエーテル−n−ヘキサン
(1:1)を加えて固化させ、溶媒をデカントして除い
た。固状残渣にジエチルエーテルを加えてつきくだき、
P取した。得られた黄色粉末3.41iF (5,6ミ
リモル)のN−t−ブチロキシカルボニル基を4規足塩
酸/ジオキサン溶液20dで処理して除去し、減圧濃縮
、乾固した。残渣をジメチルホルムアミド20mに溶か
し、これにビス(1−ナフチルメチル)酢酸1.9 ?
(5,6ミリモル)と90%シアノリン酸ジエチル0
.96F(5,6ミリモル)を加え、氷冷した。トリエ
チルアミン1.13f(11,2ミリモル)を加え、室
温で3時間攪拌した。反応液に3倍量の酢酸エチルを加
え%1規定塩酸、水、飽和重曹水および飽和食塩水で洗
浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去
し、残直にジエチルエーテル−n−ヘキサン(1st)
を加えると固化した。これをつきくだいてP取し黄色粉
末3.849を得た。次にこの化合物全量(4,4ミリ
モル)をメタノール40aLlに溶かし、2−メルカプ
トエタノール3.44r(44ミリモル)を加え、さら
に飽和重曹水を加えてpHを8に調整した後、室温で2
.5時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、残渣に水を加え
て析出してくる油状物を酢酸エチルで抽出した。有機層
を水洗し、さらに飽和食塩水で洗った後、無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。浴媒を減圧留去し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:塩化メチレン
:メタノール;酢酸=95:5:3で溶出した後、塩化
メチレン−ニーメタノール=t O: 1で溶出した)
で精製し、淡黄色粉末2.12fを得た。これをジメチ
ルホルムアミド10a/に溶かし、ヒドラジン水和物3
.29 (32ミリモル)を加えて室温で2日間攪拌し
た。反応液を減圧濃縮し、残渣に水を加え、析出した沈
殿を沢取し、水、ジエチルエーテルで洗って、淡黄色粉
末としてN−〔ビス(1−ナフチルメチル)アセチル−
L−ヒスチジル−スタチン ヒドラジド1.06 Fを
得た。
−L−ヒスチジル−スタチン ヒドラジド N−t−ブ
チロキシカルボニル−スタチン エチルエステルLo
t (s、 aミリモル)を4規定塩WR/ジオキサン
溶液ZQd中、室温で20分間処理してt−ブチロキシ
カルボニル基を除去した。反応液を減圧上濃縮、乾固し
、残渣をジメチルホルムアミド10aJIC溶解した後
、水冷下、トリエチルアミンα67り([6ミリモル)
で中和し九。これに 、dt−ブチロキシカルボニルア
ミノ−N1m−λ4−ジニトロフェニルーL−ヒスチジ
ン・イソプロパツールz1sF(&6ミリモ)、N−ヒ
ドロキシ−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボキシイ
ミド1.18f(6,8ミリモル)およびジシクロヘキ
シカルボジイミド1.48?((7,2ミリモル)とか
ら展進した活性エステルの塩化メチレン溶液(40mg
)を加え、室温で8時間攪拌した。析出したジシク目へ
キシルウレアをr去し、r液を減圧濃縮した。残渣に1
0%クエン酸水溶液を加え、析出した油状物を酢酸エチ
ルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽和重曹水および飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧
濃縮した。油状残置にジエチルエーテル−n−ヘキサン
(1:1)を加えて固化させ、溶媒をデカントして除い
た。固状残渣にジエチルエーテルを加えてつきくだき、
P取した。得られた黄色粉末3.41iF (5,6ミ
リモル)のN−t−ブチロキシカルボニル基を4規足塩
酸/ジオキサン溶液20dで処理して除去し、減圧濃縮
、乾固した。残渣をジメチルホルムアミド20mに溶か
し、これにビス(1−ナフチルメチル)酢酸1.9 ?
(5,6ミリモル)と90%シアノリン酸ジエチル0
.96F(5,6ミリモル)を加え、氷冷した。トリエ
チルアミン1.13f(11,2ミリモル)を加え、室
温で3時間攪拌した。反応液に3倍量の酢酸エチルを加
え%1規定塩酸、水、飽和重曹水および飽和食塩水で洗
浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去
し、残直にジエチルエーテル−n−ヘキサン(1st)
を加えると固化した。これをつきくだいてP取し黄色粉
末3.849を得た。次にこの化合物全量(4,4ミリ
モル)をメタノール40aLlに溶かし、2−メルカプ
トエタノール3.44r(44ミリモル)を加え、さら
に飽和重曹水を加えてpHを8に調整した後、室温で2
.5時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、残渣に水を加え
て析出してくる油状物を酢酸エチルで抽出した。有機層
を水洗し、さらに飽和食塩水で洗った後、無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。浴媒を減圧留去し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:塩化メチレン
:メタノール;酢酸=95:5:3で溶出した後、塩化
メチレン−ニーメタノール=t O: 1で溶出した)
で精製し、淡黄色粉末2.12fを得た。これをジメチ
ルホルムアミド10a/に溶かし、ヒドラジン水和物3
.29 (32ミリモル)を加えて室温で2日間攪拌し
た。反応液を減圧濃縮し、残渣に水を加え、析出した沈
殿を沢取し、水、ジエチルエーテルで洗って、淡黄色粉
末としてN−〔ビス(1−ナフチルメチル)アセチル−
L−ヒスチジル−スタチン ヒドラジド1.06 Fを
得た。
融点 129−131℃
〔α]D−54.7’(0=(L3.メタノール)元素
分析値 Cj58H44N604 計算値: 0.70.35;H,a、s4;N、 11
95実測値: 0.70.12;H,?、02;N、
1λ74(1)) L−ロイシル−(m−N−ベンジ
ルオキシカルボニルアミノメチル)ベンジルアミドNα
−t−ブチロキシカルボニル−L−ロイシンN−ヒドロ
キシスクシンイミド3.2El(10ミリモル)をm−
キシリレンジアミン20.4f(150ミリモル)のジ
メチルホルムアミド50d溶液に加え、室温で3時間攪
拌した。反応液を減圧濃縮し、残渣に飽和重曹水を加え
、析出した油状物を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽
和重曹水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナト、リウム
で乾燥した。溶媒を減圧留去し、油状の残&をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:塩化メチレン
:メタノール=S:t)で精製した。
分析値 Cj58H44N604 計算値: 0.70.35;H,a、s4;N、 11
95実測値: 0.70.12;H,?、02;N、
1λ74(1)) L−ロイシル−(m−N−ベンジ
ルオキシカルボニルアミノメチル)ベンジルアミドNα
−t−ブチロキシカルボニル−L−ロイシンN−ヒドロ
キシスクシンイミド3.2El(10ミリモル)をm−
キシリレンジアミン20.4f(150ミリモル)のジ
メチルホルムアミド50d溶液に加え、室温で3時間攪
拌した。反応液を減圧濃縮し、残渣に飽和重曹水を加え
、析出した油状物を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽
和重曹水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナト、リウム
で乾燥した。溶媒を減圧留去し、油状の残&をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:塩化メチレン
:メタノール=S:t)で精製した。
得られた油状物をジメチルホルムアミドに溶かし、トリ
エチルアミン1.0IP(10ミリモル)を加え、水冷
下ベンジルオキシカルボニルクロライド1.71P(1
0ミリモルンを滴加した。3時間攪拌した後、反応液を
減圧濃縮飽和重曹水および飽和食塩水の順に洗浄し。
エチルアミン1.0IP(10ミリモル)を加え、水冷
下ベンジルオキシカルボニルクロライド1.71P(1
0ミリモルンを滴加した。3時間攪拌した後、反応液を
減圧濃縮飽和重曹水および飽和食塩水の順に洗浄し。
無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し友。油
状の残渣を4規定塩酸/ジオキサン溶液30agで処理
してt−ブチロキシカルボニル基を除去し、減圧濃縮、
乾固した。残渣に飽和重曹水を加えろと無色沈殿が析出
した。これをr取し、水で十分洗い、無色粉末とし”(
L−ロイシル−(m −N−ベンジルオキシカルボニル
アミノメチル)−ベンジルアミド251を得た。
状の残渣を4規定塩酸/ジオキサン溶液30agで処理
してt−ブチロキシカルボニル基を除去し、減圧濃縮、
乾固した。残渣に飽和重曹水を加えろと無色沈殿が析出
した。これをr取し、水で十分洗い、無色粉末とし”(
L−ロイシル−(m −N−ベンジルオキシカルボニル
アミノメチル)−ベンジルアミド251を得た。
融点 ?5−77℃
〔α) D + l 3° (C=0.3.メタノール
)元素分析値 022H281N505 計算値: 0.6g、90;H,7,62;N、 10
.96実測値: 0.6B、71 ;H,7,85;N
、 10.74(C)N−(ビス(1−ナフチルメチル
)アセチル〕−L−ヒスチジルースタチルーL−ロイシ
ル−(m−アミノメチル)ベンジルアミド・2塩酸塩 実施例1(a)で合成したN−〔ビス(1−ナフチルメ
チル)アセチル]−L−ヒスチジル−スタチン ヒドラ
ジド320■(0,5ミリ+ニル)をジメチルホルムア
ミド3ゴにとかしドライアイス−アセトンで冷やしなが
ら4.0規定塩化水素/ジオキサン0.42dを加え、
−60℃に冷却する。これに亜硝酸インアミル0.1d
を加えた後5反応液度を一20℃に上げ、15分間攪拌
し、ヒドラジドが消失したことを確認後、N−メチルモ
ルホリンQ、 17 tを加えて中和し、実施例1(b
)で合成したし一ロイシルー(m −N−ベンジルオキ
シカルボニルアミノメチル)ベンジルアミド0.19
f(0,5ミリモル)をジメチルホルムアミド3I!L
IVcとかして加え、4℃で21時間かくはんした後、
反応液に倍量の酢酸エチルを加えて抽出し、5%重曹水
、水、飽和食塩水で酢酸エチル層を洗浄し、無水硫酸ナ
トIJウムで乾燥後、酢酸エチルを減圧留去した。
)元素分析値 022H281N505 計算値: 0.6g、90;H,7,62;N、 10
.96実測値: 0.6B、71 ;H,7,85;N
、 10.74(C)N−(ビス(1−ナフチルメチル
)アセチル〕−L−ヒスチジルースタチルーL−ロイシ
ル−(m−アミノメチル)ベンジルアミド・2塩酸塩 実施例1(a)で合成したN−〔ビス(1−ナフチルメ
チル)アセチル]−L−ヒスチジル−スタチン ヒドラ
ジド320■(0,5ミリ+ニル)をジメチルホルムア
ミド3ゴにとかしドライアイス−アセトンで冷やしなが
ら4.0規定塩化水素/ジオキサン0.42dを加え、
−60℃に冷却する。これに亜硝酸インアミル0.1d
を加えた後5反応液度を一20℃に上げ、15分間攪拌
し、ヒドラジドが消失したことを確認後、N−メチルモ
ルホリンQ、 17 tを加えて中和し、実施例1(b
)で合成したし一ロイシルー(m −N−ベンジルオキ
シカルボニルアミノメチル)ベンジルアミド0.19
f(0,5ミリモル)をジメチルホルムアミド3I!L
IVcとかして加え、4℃で21時間かくはんした後、
反応液に倍量の酢酸エチルを加えて抽出し、5%重曹水
、水、飽和食塩水で酢酸エチル層を洗浄し、無水硫酸ナ
トIJウムで乾燥後、酢酸エチルを減圧留去した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶剤
;塩化メチレン;メタノール=25:1)で精製して得
られたものに二一テルを加えてつきくだいて、淡黄色結
晶216ηを得た。この結晶を511Llのメタノール
にとかし1規定塩酸0.4 d K懸濁させた10%パ
ラジウム−炭素触媒20■を加え、水素ガスを通じなが
ら室温で4時間反応させた。触媒をf去−1r液を減圧
下濃縮し、さらにベンゼンを加えて共沸させて水を除い
た。得られた残渣に酢酸エチルとエーテルの混合溶剤(
1:1)を加えて結晶化させ、標記化合物。
;塩化メチレン;メタノール=25:1)で精製して得
られたものに二一テルを加えてつきくだいて、淡黄色結
晶216ηを得た。この結晶を511Llのメタノール
にとかし1規定塩酸0.4 d K懸濁させた10%パ
ラジウム−炭素触媒20■を加え、水素ガスを通じなが
ら室温で4時間反応させた。触媒をf去−1r液を減圧
下濃縮し、さらにベンゼンを加えて共沸させて水を除い
た。得られた残渣に酢酸エチルとエーテルの混合溶剤(
1:1)を加えて結晶化させ、標記化合物。
158■を淡黄色結晶として得た。
融点 168−172℃
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) を有するペプチド誘導体及びその薬理上許容し得る塩。 上記式中、 R^1及びR^2は同一又は異なつて、式−B−R^7
基(式中、Bは、直鎖状若しくは分枝状の 低級アルキレン基を示し、R^7はアリール基又はヘテ
ロアリール基を示す。)又は式 −E−R^8基(式中、Eは1個の酸素原子で中断され
ていてもよい低級アルキレン基を 示し、R^8は低級アルコキシ基、アリールオキシ基、
アリールチオ基、アラルキルオ キシ基又は窒素原子を含むヘテロシクリル 基を示す。)を示し、 R^3は、水素原子、置換されていてもよいC_1−C
_1_0のアルキル基(該置換分は1個又は2個でもよ
く、それらはハロゲン原子、ト リフルオロメチル基、トリクロロメチル基、水酸基、低
級アルコキシ基、アリールオキ シ基、アラルキルオキシ基、低級脂肪族ア シルオキシ基、メルカプト基、低級脂肪族 アシルアミノで置換されてもよい低級アル キルチオ基、アリールチオ基、アラルキル チオ基、低級アルキルスルフィニル基、ア リールスルフィニル基、低級アルキルスル ホニル基、アリールスルホニル基、アミノ 基、モノ若しくはジ−低級アルキルアミノ 基、アリールアミノ基、低級脂肪族アシル アミノ基、アリールアシルアミノ基、低級 アルコキシカルボニルアミノ基、アラルキ ルオキシカルボニルアミノ基、カルボキシ 基、低級アルコキシカルボニル基、アリー ルオキシカルボニル基、アラルキルオキシ カルボニル基、カルバモイル基、モノ若し くはジ−低級アルキルカルバモイル基、ウ レイド基、チオウレイド基、グアニジル基、C_3−C
_7シクロアルキル基、C_5−C_8シクロアルケニ
ル基、アリール基又はヘテロアリ ールを示す。)、C_3−C_7シクロアルキル基、C
_5−C_8シクロアルケニル基、アリール基又はヘテ
ロアリール基を示し、 R^4はイソプロピル基、C_3−C_7のシクロアル
キル基又はフエニル基を示し、 R^5は、直鎖状又は分枝状のC_1−C_5のアルキ
ル基を示し、 R^6は、スルホ低級アルキル基、アリール基、アラル
キル基、ヘテロアリール基(N−オ キシドを含む)又はヘテロアリール(N− オキシドを含む)−低級アルキル基(上記 アラルキル基又はヘテロアリール−低級ア ルキル基のアルキル部分は、置換基を有し てもよく、該置換基は、アミノ基、モノ若 しくはジ低級アルキルアミノ基、グアニジ ノ基又はモノ若しくはジ低級アルキルグア ニジノ基を示す。)を示す。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60268415A JPH0662530B2 (ja) | 1985-11-29 | 1985-11-29 | ペプチド誘導体 |
| KR860010171A KR870005013A (ko) | 1985-11-29 | 1986-11-29 | 레닌-억제 올리고펩티드, 그의 제조방법 및 용도 |
| EP86309362A EP0228192A3 (en) | 1985-11-29 | 1986-12-01 | Renin-inhibitory oligopeptides, their preparation and use |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60268415A JPH0662530B2 (ja) | 1985-11-29 | 1985-11-29 | ペプチド誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62142145A true JPS62142145A (ja) | 1987-06-25 |
| JPH0662530B2 JPH0662530B2 (ja) | 1994-08-17 |
Family
ID=17458161
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60268415A Expired - Fee Related JPH0662530B2 (ja) | 1985-11-29 | 1985-11-29 | ペプチド誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0662530B2 (ja) |
-
1985
- 1985-11-29 JP JP60268415A patent/JPH0662530B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0662530B2 (ja) | 1994-08-17 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |