JPS62157085A - ホログラムの処理方法 - Google Patents
ホログラムの処理方法Info
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- JPS62157085A JPS62157085A JP61293588A JP29358886A JPS62157085A JP S62157085 A JPS62157085 A JP S62157085A JP 61293588 A JP61293588 A JP 61293588A JP 29358886 A JP29358886 A JP 29358886A JP S62157085 A JPS62157085 A JP S62157085A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明はホログラム及びその製造方法に関する。
〈従来の技術〉
理論上は、白色光再構成を用いると、ホログラムはそれ
をつくるために露光に用いたのとはソ同じ波長のコヒー
レント(可干渉)光で再生(応答)する。然し実際には
感光させたホログラフィ−用物質の処理中に、ゼラチン
結合剤の若千の収縮が通常あシ、これが一般に物質の露
光に使用したレーザーの波長よシ短い再生波長を生じさ
せる。
をつくるために露光に用いたのとはソ同じ波長のコヒー
レント(可干渉)光で再生(応答)する。然し実際には
感光させたホログラフィ−用物質の処理中に、ゼラチン
結合剤の若千の収縮が通常あシ、これが一般に物質の露
光に使用したレーザーの波長よシ短い再生波長を生じさ
せる。
それ以外に、ある場合には物質の露光に使用したレーザ
ーの波長よりも長い波長で再生するのが好ましい。これ
はレーザーが高価であり、そして唯一つのレーザーを用
いて異なった色の再生ホログラムをつくり出すために再
生反長を増加できることが望まれるためである。更にH
e:Neレーザーはかなり安価であり、そして633
nmでこれは発光する。然しHe:Neレーザーを用い
てつくったコピーホログラムを求める場合に、694n
rnで発光するパルス化ルビーレーザーを用いて行なう
ことはより難かしい。従ってHe:Neレーザーを用い
てつくったホログラムが633nm又はそれ以下よりも
むしろ694 nmで再生できることが望ましい。
ーの波長よりも長い波長で再生するのが好ましい。これ
はレーザーが高価であり、そして唯一つのレーザーを用
いて異なった色の再生ホログラムをつくり出すために再
生反長を増加できることが望まれるためである。更にH
e:Neレーザーはかなり安価であり、そして633
nmでこれは発光する。然しHe:Neレーザーを用い
てつくったコピーホログラムを求める場合に、694n
rnで発光するパルス化ルビーレーザーを用いて行なう
ことはより難かしい。従ってHe:Neレーザーを用い
てつくったホログラムが633nm又はそれ以下よりも
むしろ694 nmで再生できることが望ましい。
過去に於て、ホログラムをタンニング現像液例えばピロ
ガロール又は無機ゼラチン硬化剤例えばアルミニウム塩
で処理することに依り再生波長のこの深色化シフトを得
る試みがいくつかなされた、然しその結果は満足すべき
ものでは無かった。更に再現性ある方法で所望の再生波
長への深色化シフトを達成することが不可能であること
が見出された。
ガロール又は無機ゼラチン硬化剤例えばアルミニウム塩
で処理することに依り再生波長のこの深色化シフトを得
る試みがいくつかなされた、然しその結果は満足すべき
ものでは無かった。更に再現性ある方法で所望の再生波
長への深色化シフトを達成することが不可能であること
が見出された。
有機膨潤剤例えばトリエタノールアミンを用いる別の試
みも行なわれたが、か\る剤によって生じた効果は恒久
的では無く、多分か\る膨潤剤の揮発性のためであろう
。
みも行なわれたが、か\る剤によって生じた効果は恒久
的では無く、多分か\る膨潤剤の揮発性のためであろう
。
本発明者は結合剤(バインダー)がゼラチンであシ、恒
久的かつ再現性ある深色化(bathochromic
)シフトを再生波長で示すホログラムの製造方法を見
出した。
久的かつ再現性ある深色化(bathochromic
)シフトを再生波長で示すホログラムの製造方法を見
出した。
〈発明の構成〉
従って本発明によれば、ゼラチンを結合剤として使用す
るホログラムの製造方法に於て、ホログラフィ−用の物
質をコヒーレント光を使用することに依ってホログラフ
ィ−的に74光し、化学的又は物理的プロセスに依りホ
ログラフィ−像を発現させ、且つプロセス処理前、プロ
セス処理と同時に又はプロセス処理に続いて、その物質
を、少なくとも1個のアルキル基が10個乃至18個の
炭素原子を有しているか又は置換基中の炭素原子の総数
が少なくとも15であるオニウム化合物又は反復単位中
に少なくとも1個のオニウム基を有する高分子化合物の
溶液を用いて処理することを特徴とするゼラチンを結合
剤として使用するホログラムの製造方法が提供される。
るホログラムの製造方法に於て、ホログラフィ−用の物
質をコヒーレント光を使用することに依ってホログラフ
ィ−的に74光し、化学的又は物理的プロセスに依りホ
ログラフィ−像を発現させ、且つプロセス処理前、プロ
セス処理と同時に又はプロセス処理に続いて、その物質
を、少なくとも1個のアルキル基が10個乃至18個の
炭素原子を有しているか又は置換基中の炭素原子の総数
が少なくとも15であるオニウム化合物又は反復単位中
に少なくとも1個のオニウム基を有する高分子化合物の
溶液を用いて処理することを特徴とするゼラチンを結合
剤として使用するホログラムの製造方法が提供される。
好ましくはオニウム基を含む化合物の溶液は水溶液であ
る。
る。
好ましくはオニウム基は第4級アンモニウム基である。
他のオニウム基にはホスホニウム、スルホニウム及びア
ルソニウムがある。
ルソニウムがある。
〈態様の詳細〉
第一の種類の有用な第4級アンモニウム化合物は一般式
R−信−R2X−・・・・・・ ■ 但し、Rは10乃至18個の炭素原子を持つ直鎖アルキ
ル基であり、R1及びR2はそれぞれ1又は2個の炭素
原子を持つアルキル基であり、R3はl又は2個の炭素
原子を持つアルキル基、又はアラルキル基又はシクロア
ルキル基又は式■: (式中、R4及びR5はそれぞれ1又は2個の炭素原子
を持つアルキル基である)の基であるか、あるいはR1
、R2及びR3は複素環式芳香族環を完成するのに必要
な原子を現わしており、そしてX−はアニオンである;
を有する。
R−信−R2X−・・・・・・ ■ 但し、Rは10乃至18個の炭素原子を持つ直鎖アルキ
ル基であり、R1及びR2はそれぞれ1又は2個の炭素
原子を持つアルキル基であり、R3はl又は2個の炭素
原子を持つアルキル基、又はアラルキル基又はシクロア
ルキル基又は式■: (式中、R4及びR5はそれぞれ1又は2個の炭素原子
を持つアルキル基である)の基であるか、あるいはR1
、R2及びR3は複素環式芳香族環を完成するのに必要
な原子を現わしており、そしてX−はアニオンである;
を有する。
好ましくはR1及びR2はそれぞれメチル基である。
好ましくはXはハロゲン例えばCI又はBrである。別
の有用なアニオンはメトサルフェート(methosu
lphate)である。
の有用なアニオンはメトサルフェート(methosu
lphate)である。
好ましくはR1% Rz 、R4及びR5はそれぞれメ
チルである。
チルである。
特に有用な式■の化合物の例は:
セチルピリジニウムブロマイド
CH2(CH2)14 CHs
N−ドデシルジメチルベンジルアンモニウムクロライド
C,R3 N−ミリスチルトリメチルアンモニウムクロライドN−
ドfシルジメチルシクロヘキシルアンモニウムクロライ
ド及び弐m: の化合物である。
C,R3 N−ミリスチルトリメチルアンモニウムクロライドN−
ドfシルジメチルシクロヘキシルアンモニウムクロライ
ド及び弐m: の化合物である。
別の有用な化合物は一般式■ニ
ア
・・・・・・ ■
但しR7及びR8はそれぞれ1又は2個の炭素原子を持
つアルキル基であり、R9は場合によっては置換基があ
るアルキル基であり、(アルキレン)は置換されている
こともあシ又はへテロ原子で中断されていることもある
アルキレン基( radical )であ’)、Rto
は10乃至18個の炭素原子を持つアルキル基を含む基
でありx−はアニオンである;を有する。
つアルキル基であり、R9は場合によっては置換基があ
るアルキル基であり、(アルキレン)は置換されている
こともあシ又はへテロ原子で中断されていることもある
アルキレン基( radical )であ’)、Rto
は10乃至18個の炭素原子を持つアルキル基を含む基
でありx−はアニオンである;を有する。
弐■の有用な化合物は式:
第二の種類の有用な第4級アンモニウム化合物は一般式
V: 1 V 但し、R17及びR11はそれぞれ12乃至18個の炭
素原子を有している脂肪族炭化水素基であり、R12、
R13、l’t+s及びRh8は場合によっては置換基
があるアルキル、シクロアルキル又はアラルキル基であ
υ、2はへテロ原子を含んでいても良い、場合によって
は置換基のあるアルキレン結合基であり、Zl及びz2
は2又は3個の炭素原子を有しているアルキレン基であ
り、1は最高2の整数であり、X−はアニオンである;
を有する。
V: 1 V 但し、R17及びR11はそれぞれ12乃至18個の炭
素原子を有している脂肪族炭化水素基であり、R12、
R13、l’t+s及びRh8は場合によっては置換基
があるアルキル、シクロアルキル又はアラルキル基であ
υ、2はへテロ原子を含んでいても良い、場合によって
は置換基のあるアルキレン結合基であり、Zl及びz2
は2又は3個の炭素原子を有しているアルキレン基であ
り、1は最高2の整数であり、X−はアニオンである;
を有する。
好ましくは1は1である。
特に有用な化合物はR17及びRlBがそれぞれ12乃
至18個の炭素原子を持つ直鎖アルキル基であり、2が
場合によってはヒドロキシル基で置換されている2−4
個の炭素原子を有している低分子量アルキレン基であり
、Ettz、R13、R15及びR16はそれぞれ1又
は2個の炭素原子を含むアルキル基であり、Xがハロゲ
ン原子である化合物であ以後、化合物Aと称する特に有
用な化合物は式■:を有する。
至18個の炭素原子を持つ直鎖アルキル基であり、2が
場合によってはヒドロキシル基で置換されている2−4
個の炭素原子を有している低分子量アルキレン基であり
、Ettz、R13、R15及びR16はそれぞれ1又
は2個の炭素原子を含むアルキル基であり、Xがハロゲ
ン原子である化合物であ以後、化合物Aと称する特に有
用な化合物は式■:を有する。
式■及び■の化合物は英国特許明細−$第849,53
2号に記載されている。
2号に記載されている。
式■のビス−第4級化合物に関連する高分子化合物は、
一般式■: Rts ず R1,−N ・・・・・・ ■Rh
。
一般式■: Rts ず R1,−N ・・・・・・ ■Rh
。
(但し、R11lは10乃至18個の炭素原子を持つア
ルキル基であり、Rh9及びR20は1又は2個の炭素
原子を持つアルキル基である)の化合物をエピクロロヒ
ドリンと触媒の存在下で反応させて、式■: す の化合物を形成し、且つこの化合物を加熱して高分子量
縮合化合物を形成することに依って得られる高分子量縮
合生成物である。縮合して高分子化合物を形成し得る式
VIIIの有用な化合物は式: %式% 第二の有用な種類の高分子化合物は式■:(但LAR1
!、R23、R24及びR2Sはそれぞれ1又は2個の
炭素原子を持つアルキル基であ、Zl)、Rtsは置換
されていても良く又はへテロ原子で中断されていてもよ
いアルキレン基である〕のジアミンをビスクロロメチル
ジフェニルヲ用いて第4級化して式X: (但し、RlB N Rzs、R24、Ras及びR4
6は上の定義の通シであるンの反復単位を有し且つnが
10−15である重合体にすることによって製造される
。
ルキル基であり、Rh9及びR20は1又は2個の炭素
原子を持つアルキル基である)の化合物をエピクロロヒ
ドリンと触媒の存在下で反応させて、式■: す の化合物を形成し、且つこの化合物を加熱して高分子量
縮合化合物を形成することに依って得られる高分子量縮
合生成物である。縮合して高分子化合物を形成し得る式
VIIIの有用な化合物は式: %式% 第二の有用な種類の高分子化合物は式■:(但LAR1
!、R23、R24及びR2Sはそれぞれ1又は2個の
炭素原子を持つアルキル基であ、Zl)、Rtsは置換
されていても良く又はへテロ原子で中断されていてもよ
いアルキレン基である〕のジアミンをビスクロロメチル
ジフェニルヲ用いて第4級化して式X: (但し、RlB N Rzs、R24、Ras及びR4
6は上の定義の通シであるンの反復単位を有し且つnが
10−15である重合体にすることによって製造される
。
特に有用な式Xの反復単位は式:
を有する。
本発明の格別の用途の反復単位中に第4級アンモニウム
基を有する別の高分子化合物はポリジメチルジアリルア
ンモニウムクロライド又はブロマイドである。これはジ
メチルジアリルアンモニウムクロライド又はブロマイド
の遊離ラジカル重合によって製造される、生成物は式:
%式% を有すると考えられる。
基を有する別の高分子化合物はポリジメチルジアリルア
ンモニウムクロライド又はブロマイドである。これはジ
メチルジアリルアンモニウムクロライド又はブロマイド
の遊離ラジカル重合によって製造される、生成物は式:
%式% を有すると考えられる。
前述の第4級アンモニウム化合物の殆んどは繊維材料の
染色での所謂“緩染剤゛としての用途を有していること
が明らかとなった。
染色での所謂“緩染剤゛としての用途を有していること
が明らかとなった。
使用すべきオニウム化合物の有効な濃度は水100ゴ尚
り1乃至201である。
り1乃至201である。
好ましいホスホニウム化合物は一般式Xll:R,P
R5X−・・・・・・ M1但し、R4、Rs 、
Rs及びR7のうちの3個は場合に上っては置換基を有
しているフェニル基である、そしてR4、R5、R,及
びR7の残りはアルキル基又は場合によっては置換基を
有しているフェニル基であり、X−はアニオンである;
を有する。
R5X−・・・・・・ M1但し、R4、Rs 、
Rs及びR7のうちの3個は場合に上っては置換基を有
しているフェニル基である、そしてR4、R5、R,及
びR7の残りはアルキル基又は場合によっては置換基を
有しているフェニル基であり、X−はアニオンである;
を有する。
好ましいアルソニウム化合物は一般式x■:R7−大s
+−R5X−・・・・・・xm但LAR4、Rs 、R
e、R7及びX−の定義は式刈と同一である;を有する
。
+−R5X−・・・・・・xm但LAR4、Rs 、R
e、R7及びX−の定義は式刈と同一である;を有する
。
好ましいスルホニウム化合物は一般式XIV:RIG
−S” −R9X−・・−・・XIV但し、R8、R9
及びRIOはフェニル又は置換フェニル基であり、X−
はアニオンである;を有する。
−S” −R9X−・・−・・XIV但し、R8、R9
及びRIOはフェニル又は置換フェニル基であり、X−
はアニオンである;を有する。
ハロゲン銀を感光系に使用するホログラフィ−用物質の
通常の処理プロセスは、ハロゲン化銀現像剤例えばハイ
ドロキノンを用いるハロゲン化銀現像、とこれに続く銀
漂白プロセスである。
通常の処理プロセスは、ハロゲン化銀現像剤例えばハイ
ドロキノンを用いるハロゲン化銀現像、とこれに続く銀
漂白プロセスである。
銀標白工程は現像した銀を除去するが、露光していない
ハロゲン化銀をその場に残すプロセスである。現像され
た銀がハロゲン化銀に変換される可能性があり、その若
干はホログラフィ−用*質中に残る可能性のあることを
理解されたい。漂白法の例は現像した銀を物質から除去
する溶媒漂白法と現像した銀をハロゲン化銀に変換する
再ハロゲン化漂白法である。
ハロゲン化銀をその場に残すプロセスである。現像され
た銀がハロゲン化銀に変換される可能性があり、その若
干はホログラフィ−用*質中に残る可能性のあることを
理解されたい。漂白法の例は現像した銀を物質から除去
する溶媒漂白法と現像した銀をハロゲン化銀に変換する
再ハロゲン化漂白法である。
ホログラフィ−的に物質+a光して後、現像する前にオ
ニウム化合物の水浴液で処理するか又はオニウム化合物
をハロゲン化銀現像溶液中又ハロゲン化銀現像と漂白の
中間の現像停止浴中又は漂白浴中又は漂白後の物質を処
理する浴中に存在させることができる。
ニウム化合物の水浴液で処理するか又はオニウム化合物
をハロゲン化銀現像溶液中又ハロゲン化銀現像と漂白の
中間の現像停止浴中又は漂白浴中又は漂白後の物質を処
理する浴中に存在させることができる。
観察される深色化シフトは物質がオニウム化合物の水性
浴で処理されるプロセス順序中の位置によって大きく影
響されないように見える。然し漂白浴後、物質を第4級
アンモニウム化合物の水性浴を用いて処理するのが多く
の場合都合が良い。
浴で処理されるプロセス順序中の位置によって大きく影
響されないように見える。然し漂白浴後、物質を第4級
アンモニウム化合物の水性浴を用いて処理するのが多く
の場合都合が良い。
オニウム化合物を含む浴処理に続いて物質を洗浄すると
しばしば若干の深色化シフト効果の初期的減少が見られ
る、然しこの減少は、物質をより長い時間洗浄した場合
には、実質的に増加することは無い。
しばしば若干の深色化シフト効果の初期的減少が見られ
る、然しこの減少は、物質をより長い時間洗浄した場合
には、実質的に増加することは無い。
深色化シフトはホログラフィ−的露光時間に無関係であ
る。これはタンニング現像液例えばピロガロールが深色
化シフトを達成するのに用いられる時に艶られる効果と
似ていない。
る。これはタンニング現像液例えばピロガロールが深色
化シフトを達成するのに用いられる時に艶られる効果と
似ていない。
以下の実施例は本発明を例示するためのものである。
実施例1
透明な写真フィルムベースに0.03ミクロンの平均結
晶サイズを有する実質上純粋な臭化銀であるゼラチン性
ハロゲン銀エマルションを30岬/dm2の銀被覆重量
で被覆することによってホログラフィ−物質の試料を調
製した。
晶サイズを有する実質上純粋な臭化銀であるゼラチン性
ハロゲン銀エマルションを30岬/dm2の銀被覆重量
で被覆することによってホログラフィ−物質の試料を調
製した。
エマルションは赤色増感染料を用いて光学増感されてお
シ、He:Neレーザーの色633 nmに最適増感さ
れていた。
シ、He:Neレーザーの色633 nmに最適増感さ
れていた。
この物質を、対象としてブラソフをかけたアルミニウム
板を用いてDenisyuk露光法によってホログラフ
ィ−的に露光させて、(処理後)反射ホログラムを得る
ようにした。
板を用いてDenisyuk露光法によってホログラフ
ィ−的に露光させて、(処理後)反射ホログラムを得る
ようにした。
次にこの物質を次の処方の溶液中で2分間現像した:無
水亜硫酸ナトリウム 30?ハイドロキノ
ン 102炭酸ナトリウム
602水で 1
000m/!に試料を次に次の組成の再ハロゲン化漂白
浴に移した:F e (NH4) EDTA (1,8
mfa液) 150m1KBr
20?水で
10100O!にすべての銀金属が漂白される迄に約2
分間か\つた。
水亜硫酸ナトリウム 30?ハイドロキノ
ン 102炭酸ナトリウム
602水で 1
000m/!に試料を次に次の組成の再ハロゲン化漂白
浴に移した:F e (NH4) EDTA (1,8
mfa液) 150m1KBr
20?水で
10100O!にすべての銀金属が漂白される迄に約2
分間か\つた。
試料を次に流水中で1分間水洗して、化合物Aの10w
t%水溶液から成る水性浴中に5分間つけた。この溶液
のpHと温度は表1に示されている。
t%水溶液から成る水性浴中に5分間つけた。この溶液
のpHと温度は表1に示されている。
表1
使用した装置中の0.5秒の露光は750μJのエネル
ギー消費に相当する。
ギー消費に相当する。
実施例2
透明な写真フィルムベースに0.03ミクロンの平均結
晶サイズを有する実質的に純粋な臭化銀であるゼラチン
性ハロゲン化銀エマルションを30■/dm2の銀被覆
重量で被覆することに依りホログラフィ−用物質の試料
を調製した。エマルションは赤色増感染料を用いて光学
増感されており、He:Neレーザーの色633nmに
最適増感されていた。この物質を、プラックをかけたア
ルミニウム板を対象として用いDenisyuk露光法
によってホログラフィ−的に露光をさせて、(処理後)
反射ホログラムを得るようにした。
晶サイズを有する実質的に純粋な臭化銀であるゼラチン
性ハロゲン化銀エマルションを30■/dm2の銀被覆
重量で被覆することに依りホログラフィ−用物質の試料
を調製した。エマルションは赤色増感染料を用いて光学
増感されており、He:Neレーザーの色633nmに
最適増感されていた。この物質を、プラックをかけたア
ルミニウム板を対象として用いDenisyuk露光法
によってホログラフィ−的に露光をさせて、(処理後)
反射ホログラムを得るようにした。
次にこの物質を次の処方の溶液中で2分間現像した:無
水亜硫酸ナトリウム 30tハイドロキノ
ン 102炭酸ナトリウム
602水で
100 Mに試料を次に次の組成の再ハロゲン化漂白浴
に移した。
水亜硫酸ナトリウム 30tハイドロキノ
ン 102炭酸ナトリウム
602水で
100 Mに試料を次に次の組成の再ハロゲン化漂白浴
に移した。
Fe(NH<)EDTA(1,8ml液) 150
m/KBr 20
?水で 1000+++/にす
べての銀金属が漂白される迄に約2分間か\つた。
m/KBr 20
?水で 1000+++/にす
べての銀金属が漂白される迄に約2分間か\つた。
試料を次に流水中で1分間水洗して、セチルピリジニウ
ムブロマイドの1wt%溶液から成る水性浴に2分間移
し、次に20秒間洗った。
ムブロマイドの1wt%溶液から成る水性浴に2分間移
し、次に20秒間洗った。
表2
使用した装置中の05秒の露光は750μJのエネルギ
ー消費に相当する。
ー消費に相当する。
実施例3
実施例2と同様にホログラフィ−用物質の試料も調製し
た。この物質を実施例2に述べられている様にホログラ
フィ−的に=1.光し、現像し、再ハロゲン化漂白浴処
理までを行なった。
た。この物質を実施例2に述べられている様にホログラ
フィ−的に=1.光し、現像し、再ハロゲン化漂白浴処
理までを行なった。
■試料を流水中で1分間水洗呟ポリジメチルジアリルア
ンモニウムクロライドの1wt%atから成る水性浴に
2分間つけて、次に20秒洗浄した。
ンモニウムクロライドの1wt%atから成る水性浴に
2分間つけて、次に20秒洗浄した。
1方の試料はこの溶液の処理を行なわず対照として保存
した。結果は次の通りであった。
した。結果は次の通りであった。
表3
使用した装置中の0.5秒の露光は750μJのエネル
ギー消費に相当する。
ギー消費に相当する。
反復水洗後の再生波長は同一のま\であり、再生波長の
変化が恒久的であることを示していた。
変化が恒久的であることを示していた。
Claims (20)
- 1. ゼラチンを結合剤として使用するホログラムの製
造方法であって、ホログラフイー用の物質をコヒーレン
ト光を使用することに依ってホログラフイー的に露光し
、化学的又は物理的プロセスに依りホログラフイー像を
発現させ、且つプロセス処理前、プロセス処理と同時に
又はプロセス処理に続き、その物質を、少なくとも1個
のアルキル基が10個乃至18個の炭素原子を有してい
るか又は置換基中の炭素原子の総数が少なくとも15で
あるオニウム化合物又は反復単位中に少なくとも1個の
オニウム基を有する高分子化合物の溶液を用いて処理す
ることを特徴とするゼラチンを結合剤として使用するホ
ログラムの製造方法。 - 2. オニウム化合物が第4級アンモニウム化合物であ
る特許請求の範囲第1項記載の方法。 - 3. 第4級アンモニウム化合物が式I: ▲数式、化学式、表等があります▼ 但しRは10乃至18個の炭素原子を持つ直鎖アルキル
基であり、R_1及びR_2はそれぞれ1又は2個の炭
素原子を持つアルキル基でありそしてR_3は1又は2
個の炭素原子を持つアルキル基であるか、あるいはアラ
ルキル基又はシクロアルキル基又は式II: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_4及びR_5はそれぞれ1乃至2個の炭素
原子を持つアルキル基である)の基のいずれかであるか
、あるいはR_1、R_2及びR_3は複素環式芳香族
環を完成するのに必要な原子を表わしており、そしてX
^−はアニオンである;を有する特許請求の範囲第2項
記載の方法。 - 4.式IでR_1及びR_2がそれぞれメチル基である
特許請求の範囲第3項記載の方法。 - 5.第4級アンモニウム化合物がセチルピリジニウムブ
ロマイド、N−ドデシルジメチルベンジルアンモニウム
クロライド、N−ミリスチルトリメチルアンモニウムク
ロライド、N−ドデシルジメチルシクロヘキシルアンモ
ニウムクロライド又は式: ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物である特許請求の範囲第3項記載の方法。 - 6.第4級アンモニウム化合物が式IV: ▲数式、化学式、表等があります▼ 但し、R_7及びR_8はそれぞれ1又は2個の炭素原
子を持つアルキル基であり、R_9は場合によつては置
換基を有しているアルキル基であり、(アルキレン)は
置換されていることもあり又はヘテロ原子によつて中断
されていても良いアルキレン基であり、R_1_0は1
0乃至18個の炭素原子を持つアルキル基を含む基であ
り、そしてX^−はアニオンである;を有する特許請求
の範囲第2項記載の方法。 - 7.第4級アンモニウム化合物が式: ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物である特許請求の範囲第6項記載の方法。
- 8.第4級アンモニウム化合物が一般式V:▲数式、化
学式、表等があります▼ 但し、R_1_7及びR_1_1はそれぞれ12乃至1
8個の炭素原子を有している脂肪族炭化水素基であり、
R_1_2、R_1_3、R_1_5及びR_1_6は
場合によつては置換基を有しているアルキル、シクロア
ルキル又はアラルキル基であり、Zはヘテロ原子を含み
得る場合によつては置換基を有するアルキレン結合基で
あり、Z_1及びZ_2は2又は3個の炭素原子を有し
ているアルキレン基であり、■は最大2の整数でありそ
してX^−はアニオンである;の化合物である特許請求
の範囲第2項記載の方法。 - 9.式Vで、R_1_7及びR_1_1がそれぞれ12
乃至18個の炭素原子を持つ直鎖アルキル基であり、Z
が場合によつてはヒドロキシル基で置換されている2−
4個の炭素原子を有している低分子アルキレン基であり
、R_1_2、R_1_3、R_1_5及びR_1_6
がそれぞれ1又は2個の炭素原子を持つアルキル基であ
り、そしてXがハロゲン原子であり、且つnが1である
特許請求の範囲第8項記載の方法。 - 10.第4級アンモニウム化合物が式: ▲数式、化学式、表等があります▼ ・・・・・・VI を有する特許請求の範囲第9項記載の方法。
- 11.使用する第4級アンモニウム化合物が、一般式V
II:〔但し、R_1_8は10乃至18個の炭素原子を
持つアルキル基であり、そしてR_1_9及びR_2_
0は1又は2個の炭素原子を持つアルキル基である〕の
化合物をエピクロロヒドリンと触媒の存在下で反応させ
て式VIII: ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物を形成し、且つこの化合物を加熱して高分子量
縮合化合物を形成することにより形成した高分子量縮合
生成物である特許請求の範囲第2項記載の方法。 - 12.式VIIIの化合物が式: ▲数式、化学式、表等があります▼ を有している特許請求の範囲第9項に記載の方法。
- 13.反復単位中に第4級アンモニウム基を含む高分子
化合物が、式IX: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔但し、R_2_2、R_2_3、R_2_4及びR_
2_5はそれぞれ1又は2個の炭素原子を持つアルキル
基であり、そしてR_2_6は置換基を有しているか又
はヘテロ原子で中断されていても良いアルキル基である
〕のジアミンをビスクロロメチルジフエニルを用いて第
4級化して式X: ▲数式、化学式、表等があります▼ ・・・・・・X 〔但し、R_2_2、R_2_3、R_2_4、R_2
_5及びR_2_6は上記の定義の通りである〕の反復
単位を有しかつnが10−15である高分子を得ること
によつて製造されたものである特許請求の範囲第2項記
載の方法。 - 14.式Xの反復単位が式: ▲数式、化学式、表等があります▼ を有している特許請求の範囲第13項に記載の方法。
- 15.反復単位に第4級アンモニウム化合物を有する高
分子化合物がポリジメチルジアリルアンモニウムクロラ
イド又はプロマイドである特特許請求の範囲第2項記載
の方法。 - 16.オニウム化合物が一般式XII: ▲数式、化学式、表等があります▼ 但し、R_4、R_5、R_6及びR_7のうちの3個
は、場合によつては置換基のあるフエニル基であり、且
つR_4、R_5、R_6及びR_7のうちの他のもの
は1乃至18個の炭素原子を有するアルキル基又は場合
によつては置換基のあるフエニル基であり、そしてX^
−はアニオンである;を有するホスホニウム化合物であ
る特許請求の範囲第1項記載の方法。 - 17.オニウム化合物が一般式XIII: ▲数式、化学式、表等があります▼ 但し、R_4、R_5、R_6及びR_7のうちの3個
は場合によつては置換基のあるフエニル基であり、且つ
R_4、R_5、R_6及びR_7のうちの他のものは
1乃至18個の炭素原子を有するアルキル基又は場合に
よつては置換基のあるフエニル基であり、そしてX^−
はアニオンである;を有するアルソニウム化合物である
特許請求の範囲第1項記載の方法。 - 18.オニウム化合物が一般式XIV: ▲数式、化学式、表等があります▼ 但しR_8、R_9及びR_1_0は場合によつては置
換基のあるフエニル基であり、そしてX^−はアニオン
である;を有するスルホニウム化合物である特許請求の
範囲第1項記載の方法。 - 19.オニウム化合物の溶液濃度が水100ml当り1
乃至20gである特許請求の範囲第1項記載の方法。 - 20.ホログラムがハロゲン化銀で感光性を与えられて
おり、ホログラフイー的露光後、ホログラフイー用物質
を現像前にォニウム化合物の水溶液で処理するか、又は
オニウム化合物をハロゲン化銀現像溶液中又はハロゲン
化銀現像と漂白の間の現像停止浴中又は漂白浴中又は漂
白後物質を処理する浴中に存在させる特許請求の範囲第
1項記載の方法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB858530457A GB8530457D0 (en) | 1985-12-11 | 1985-12-11 | Processing halogens |
| GB8530457 | 1985-12-11 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62157085A true JPS62157085A (ja) | 1987-07-13 |
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ID=10589566
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP61293588A Pending JPS62157085A (ja) | 1985-12-11 | 1986-12-11 | ホログラムの処理方法 |
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| EP (1) | EP0230208A3 (ja) |
| JP (1) | JPS62157085A (ja) |
| AU (1) | AU590810B2 (ja) |
| CA (1) | CA1270672A (ja) |
| GB (1) | GB8530457D0 (ja) |
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| JP2007176902A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Kao Corp | 毛髪洗浄剤 |
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-
1986
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- 1986-12-05 EP EP86810568A patent/EP0230208A3/en not_active Withdrawn
- 1986-12-10 US US06/940,048 patent/US4769300A/en not_active Expired - Fee Related
- 1986-12-10 AU AU66374/86A patent/AU590810B2/en not_active Ceased
- 1986-12-11 JP JP61293588A patent/JPS62157085A/ja active Pending
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Also Published As
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| EP0230208A2 (en) | 1987-07-29 |
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