JPS6217172A - 蒸着装置 - Google Patents
蒸着装置Info
- Publication number
- JPS6217172A JPS6217172A JP15468685A JP15468685A JPS6217172A JP S6217172 A JPS6217172 A JP S6217172A JP 15468685 A JP15468685 A JP 15468685A JP 15468685 A JP15468685 A JP 15468685A JP S6217172 A JPS6217172 A JP S6217172A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- resistance heating
- crucible
- substrate
- heating element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims abstract description 20
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 20
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 14
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract description 10
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 abstract description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 abstract 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 abstract 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 abstract 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 3
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 235000004347 Perilla Nutrition 0.000 description 1
- 244000124853 Perilla frutescens Species 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は不純物じゃへい板を用いる蒸着装置に関するも
のである。
のである。
従来の技術
従来、抵抗加熱蒸着装置によシ膜を形成する場合、抵抗
加熱体として金属線をらせん状、又はバスケット状に巻
いたもの、あるいは金属板をボート形状にしたものを用
いて、蒸着物質をこれらに入れ、電流を通じて加熱蒸発
させている。またアルミナ、ペリリヤ、マグネシャなど
のるつぼを用い、そのまわシを抵抗加熱体でとりまいて
間接的に蒸着物質を加熱蒸発させている。
加熱体として金属線をらせん状、又はバスケット状に巻
いたもの、あるいは金属板をボート形状にしたものを用
いて、蒸着物質をこれらに入れ、電流を通じて加熱蒸発
させている。またアルミナ、ペリリヤ、マグネシャなど
のるつぼを用い、そのまわシを抵抗加熱体でとりまいて
間接的に蒸着物質を加熱蒸発させている。
発明が解決しようとする問題点
しかし、このような従来の装置では、蒸着物質は、必ず
抵抗加熱体と、るつぼに接触しているため、反応しあい
、蒸着膜中にこれらの不純物が混入するという問題があ
った。
抵抗加熱体と、るつぼに接触しているため、反応しあい
、蒸着膜中にこれらの不純物が混入するという問題があ
った。
特に純度の高い蒸着膜を得ようとする場合、これらの不
純物の膜への混入が大きな問題となる。
純物の膜への混入が大きな問題となる。
この問題を解決するために、電子線を利用して蒸着物質
の一部分を瞬間的に溶融蒸発させる電子線加熱蒸着装置
もあるが、この場合、装置が複雑で非常に高価なものと
なシ、また残留ガス分子などがイオン化され蒸着膜中に
混入するという欠点がある。
の一部分を瞬間的に溶融蒸発させる電子線加熱蒸着装置
もあるが、この場合、装置が複雑で非常に高価なものと
なシ、また残留ガス分子などがイオン化され蒸着膜中に
混入するという欠点がある。
問題点を解決するための手段
上記の問題点を解決するため、本発明による蒸着装置は
、抵抗加熱体、又はるつぼと被蒸着基板との間に、開口
部を形成した不純物しやへい板を用いて蒸着する装置で
ある0 作 用 この装置によれば、たとえ蒸着物質が抵抗加熱体に接触
しておシ、反応しあっても、これら不純物は、抵抗加熱
体、又はるつぼと被蒸着基板との間に設けられたしゃへ
い板によシ阻止され、安価で簡単に純度の高い蒸着膜を
作成することができる。
、抵抗加熱体、又はるつぼと被蒸着基板との間に、開口
部を形成した不純物しやへい板を用いて蒸着する装置で
ある0 作 用 この装置によれば、たとえ蒸着物質が抵抗加熱体に接触
しておシ、反応しあっても、これら不純物は、抵抗加熱
体、又はるつぼと被蒸着基板との間に設けられたしゃへ
い板によシ阻止され、安価で簡単に純度の高い蒸着膜を
作成することができる。
実施例
以下に、本発明の蒸着装置の一実施例について説明する
。図はこの実施例を示すもので、抵抗加熱体又はるつぼ
2中の蒸着物質1と下地3との間に、開口部を形成した
不純物じゃへい板4を備えている。
。図はこの実施例を示すもので、抵抗加熱体又はるつぼ
2中の蒸着物質1と下地3との間に、開口部を形成した
不純物じゃへい板4を備えている。
抵抗加熱体、又はるつぼ2を加熱し、蒸着物質1を蒸着
する場合、たとえ蒸着物質1と抵抗加熱体またはるつぼ
2の接触面で反応が起っても、反応物は、しゃへい板4
で阻止され、被蒸着基板3上に形成される膜は、しゃへ
い板4の開口部を通る蒸着物質1のみの膜となる。
する場合、たとえ蒸着物質1と抵抗加熱体またはるつぼ
2の接触面で反応が起っても、反応物は、しゃへい板4
で阻止され、被蒸着基板3上に形成される膜は、しゃへ
い板4の開口部を通る蒸着物質1のみの膜となる。
したがって、不純物混入のない純度の高い蒸着膜を得る
ことができる。
ことができる。
発明の効果
以上のように本発明の蒸着装置によれば、開口部を形成
した不純物じゃへい板を設けるだけで、抵抗加熱装置に
おいても、安価で簡単に純度の高い蒸着膜を作成するこ
とができる。
した不純物じゃへい板を設けるだけで、抵抗加熱装置に
おいても、安価で簡単に純度の高い蒸着膜を作成するこ
とができる。
しかも、しゃへい板に熱伝導の悪い材料を用いれば、蒸
着源からの熱輻射を防ぐことができ、被蒸着基板の温度
を一定に保つことができる0
着源からの熱輻射を防ぐことができ、被蒸着基板の温度
を一定に保つことができる0
図は本発明の一実施例による蒸着装置の模式的断面図で
ある。 1・・・・・・蒸着物質、2・・・・・・抵抗加熱体、
又はるつぼ、3・・・・・・被蒸着基板、4・・・・・
・開口部を形成した不純物じゃへい板。
ある。 1・・・・・・蒸着物質、2・・・・・・抵抗加熱体、
又はるつぼ、3・・・・・・被蒸着基板、4・・・・・
・開口部を形成した不純物じゃへい板。
Claims (1)
- 蒸着物質を内蔵する抵抗加熱体又はるつぼと被蒸着基板
との間に、開口部を形成した不純物しゃへい板を設けた
蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15468685A JPS6217172A (ja) | 1985-07-12 | 1985-07-12 | 蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15468685A JPS6217172A (ja) | 1985-07-12 | 1985-07-12 | 蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6217172A true JPS6217172A (ja) | 1987-01-26 |
Family
ID=15589703
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15468685A Pending JPS6217172A (ja) | 1985-07-12 | 1985-07-12 | 蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6217172A (ja) |
-
1985
- 1985-07-12 JP JP15468685A patent/JPS6217172A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0491811B1 (en) | Deposition heaters | |
| US2996418A (en) | Method and apparatus for vapor depositing thin films | |
| US4543467A (en) | Effusion type evaporator cell for vacuum evaporators | |
| US4920094A (en) | Process for producing superconducting thin films | |
| US2772318A (en) | Apparatus for vaporization of metals and metalloids | |
| EP0621351B1 (en) | Method for evaporating metal using a resistance heated, pyrolytic boron nitrided coated graphite boat | |
| DE3875442T2 (de) | Vorrichtung und verfahren zum aufdampfen metallischer filme. | |
| JPH04505478A (ja) | 合金製造用複合試料源蒸発装置及び蒸発方法 | |
| GB2162766A (en) | Methods of and apparatus for the melting of silicon | |
| JPH0610118A (ja) | 蒸着方法及び蒸発装置 | |
| KR100315982B1 (ko) | 측면 순간 증발기 | |
| US3373050A (en) | Deflecting particles in vacuum coating process | |
| JPH10214787A (ja) | Si用分子線セルと分子線エピタキシー装置 | |
| GB1103211A (en) | Improvements in and relating to vapour deposition and evaporation sources | |
| JPS6043913B2 (ja) | 蒸発源用るつぼ | |
| JPS62235466A (ja) | 蒸着物質発生装置 | |
| GB1122577A (en) | Method of and devices for the vaporisation of materials | |
| JPH0219187B2 (ja) | ||
| JPS62118517A (ja) | 溶融物質の蒸気噴出装置 | |
| JPS6447850A (en) | Manufacture of thermoelement | |
| JP3418795B2 (ja) | 溶融蒸発用金属組成物および金属の溶融蒸発方法 | |
| JPS6013067B2 (ja) | 真空蒸着装置 | |
| GB1094747A (en) | Improvements in and relating to the vaporisation of materials | |
| Reichelt | Vapour deposition of gold alloys: Developments in radio-frequency sputtering of electrical contact surfaces | |
| JPH0379755A (ja) | 蒸着ボート等の構造 |