JPS6217196A - ステンレス鋼へのめつき方法 - Google Patents
ステンレス鋼へのめつき方法Info
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Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明はステンレス鋼素材へのめっき方法に関し、特に
活性化処理方法の敗訴により密着性のよいめっきを→能
としたステンレス鋼へのめつき方法に関よる。
活性化処理方法の敗訴により密着性のよいめっきを→能
としたステンレス鋼へのめつき方法に関よる。
〈従来の技術〉
一般にステンレス鋼素材に密着性の良いめっきを行なう
には、素材表面に強固に形成された不導態化皮膜を除く
ための活性化処理が必要である。
には、素材表面に強固に形成された不導態化皮膜を除く
ための活性化処理が必要である。
このため従来は、酸性浴による化学研磨あるいは電解研
磨による表面エツチングおよびこれらと陰極電解活性化
を組合せて行なう方法、あるいは塩化ニッケル／塩酸浴
（ウッド浴）によるニッケルストラックめっき方法など
が行なわれている。
磨による表面エツチングおよびこれらと陰極電解活性化
を組合せて行なう方法、あるいは塩化ニッケル／塩酸浴
（ウッド浴）によるニッケルストラックめっき方法など
が行なわれている。
しかし、これらの活性化処理法には以下のような欠点か
ある。まず前者のエツチング法では酸化膜を完全に除去
するには高濃度、高温の酸類を使用しなければならず、
また処理時間も長くする必要があるため、オーバーエツ
チングによる素地荒れを生じやすい。さらに、一旦酸化
膜を除かれたステンレス表面は再び不導態化しやすく高
度な密着性の要求されるめっきの場合には活性化効果が
不十分となることがある。
ある。まず前者のエツチング法では酸化膜を完全に除去
するには高濃度、高温の酸類を使用しなければならず、
また処理時間も長くする必要があるため、オーバーエツ
チングによる素地荒れを生じやすい。さらに、一旦酸化
膜を除かれたステンレス表面は再び不導態化しやすく高
度な密着性の要求されるめっきの場合には活性化効果が
不十分となることがある。
また後者のウッドニッケルストライク法は陰極電涜ｏｈ
率が低いことを利用して、陰極表面で発生する水素ガ
スにより酸化膜を還元活性化すると同時に、密着性の良
い薄いニッケル下地めっきを析出させ、活性化された素
材表面の再不導態化を防止するものであるが、腐食性の
高い塩酸を含むミストが飛散しやすく、作業環境の悪化
や周辺装置・機器類の著しい腐食を招きやすい。また浴
中の塩素イオンの陽極酸化による塩素ガスの発生を防止
するため、可溶性のニッケル陽極を用いる必要かあるが
、陽極電流効率に比べ陰極電流効率が著しく低いので、
浴中めニッケル濃度が上昇しやすく、浴濃度の補正ある
いは更新を頻繁に行なわねばならないという問題があっ
た。
率が低いことを利用して、陰極表面で発生する水素ガ
スにより酸化膜を還元活性化すると同時に、密着性の良
い薄いニッケル下地めっきを析出させ、活性化された素
材表面の再不導態化を防止するものであるが、腐食性の
高い塩酸を含むミストが飛散しやすく、作業環境の悪化
や周辺装置・機器類の著しい腐食を招きやすい。また浴
中の塩素イオンの陽極酸化による塩素ガスの発生を防止
するため、可溶性のニッケル陽極を用いる必要かあるが
、陽極電流効率に比べ陰極電流効率が著しく低いので、
浴中めニッケル濃度が上昇しやすく、浴濃度の補正ある
いは更新を頻繁に行なわねばならないという問題があっ
た。
〈発明が解決しようとする問題点〉
本発明の目的は、前記した従来技術の欠点を解消し、ス
テンレス鋼素材への新規な活性化処理方法を提供し、塩
酸ミストの飛散がなく、密着性の良いめっきを得ること
のできるステンレス鋼へのめっき方法を提供することに
ある。
テンレス鋼素材への新規な活性化処理方法を提供し、塩
酸ミストの飛散がなく、密着性の良いめっきを得ること
のできるステンレス鋼へのめっき方法を提供することに
ある。
く問題点を解決するための手段〉
このような目的を達成するための本発明は、予め清浄化
したステンレス鋼素材を、硫酸ニッケルと硫酸を含む水
溶液中で陰極電解処理した後、所望のめっきを行なうこ
とを特徴とするステンレス鋼へのめっき方法である。
したステンレス鋼素材を、硫酸ニッケルと硫酸を含む水
溶液中で陰極電解処理した後、所望のめっきを行なうこ
とを特徴とするステンレス鋼へのめっき方法である。
ここで、前記陰極電解処理において、用いる陽極を不溶
性陽極とすることが好ましい。
性陽極とすることが好ましい。
また、前記硫酸ニッケルと硫酸を含む水溶液が、ＮｉＳ
Ｏ４・６Ｈ２Ｏ、１００〜３００ｇ／ ｌ、）＋２ Ｓ
０４．９８ｖｏＪＺ！にとして、２０〜１５０ ｍｌ
／ ＩＩを含む水溶液であることか良い。
Ｏ４・６Ｈ２Ｏ、１００〜３００ｇ／ ｌ、）＋２ Ｓ
０４．９８ｖｏＪＺ！にとして、２０〜１５０ ｍｌ
／ ＩＩを含む水溶液であることか良い。
以下に本発明を更に詳細に説明する。
本発明方法に用いるステンレス鋼は、特に限定するもの
ではなく、５ｔＪＳ３０４等いかなる種類のステンレス
鋼を用いてもよいし、ステンレス鋼の形状は、板材、棒
材、線材等いかなる形状のものでもよい。
ではなく、５ｔＪＳ３０４等いかなる種類のステンレス
鋼を用いてもよいし、ステンレス鋼の形状は、板材、棒
材、線材等いかなる形状のものでもよい。
陰極電解処理を行なう以前のステンレス鋼素材への清浄
化処理は、陽極電解脱脂、酸洗い、水洗、揮発性有機溶
剤浸漬等の通常の清浄化処理を行なう。
化処理は、陽極電解脱脂、酸洗い、水洗、揮発性有機溶
剤浸漬等の通常の清浄化処理を行なう。
本発明方法で用いる陰極電解処理液の組成は、硫酸ニッ
ケル（６水塩として）１００〜３００ｇ／Ｉｌ、硫酸（
９８ｖｏｊ２ ！ｋ ） ２０〜１５０ ｎｌｌ ／
ｆｌのものが好ましく、硫酸ニッケル濃度が高過ぎるか
、硫酸濃度が低過ぎると、つきまわりが悪くなり、素材
の形状によっては局部的に密着性が低下する。また、こ
の逆の場合にはつきまわりは良好となるが、十分な密４
ｒ性を得るための処理時間を長くしなければならず作業
性が低下する。
ケル（６水塩として）１００〜３００ｇ／Ｉｌ、硫酸（
９８ｖｏｊ２ ！ｋ ） ２０〜１５０ ｎｌｌ ／
ｆｌのものが好ましく、硫酸ニッケル濃度が高過ぎるか
、硫酸濃度が低過ぎると、つきまわりが悪くなり、素材
の形状によっては局部的に密着性が低下する。また、こ
の逆の場合にはつきまわりは良好となるが、十分な密４
ｒ性を得るための処理時間を長くしなければならず作業
性が低下する。
また、処理条件は素材の種類などによっても異なるが、
通常、浴温は室温〜４０℃程度、陰極電流密度４〜２０
Ａ／ｄゴ、時間２０秒〜３分の範囲が好ましい。これは
、通常のめっきを行なう前に比較的大きな電流密度で短
時間のめフきを行ない、あらかじめ密着性のよい均一な
ごく薄いニッケルめっき面をつくることにより、めっき
のつきまわりのおそい部分が液に侵されるのを防いだり
、また水素の発生によって表面の清浄作用を行なうため
である。
通常、浴温は室温〜４０℃程度、陰極電流密度４〜２０
Ａ／ｄゴ、時間２０秒〜３分の範囲が好ましい。これは
、通常のめっきを行なう前に比較的大きな電流密度で短
時間のめフきを行ない、あらかじめ密着性のよい均一な
ごく薄いニッケルめっき面をつくることにより、めっき
のつきまわりのおそい部分が液に侵されるのを防いだり
、また水素の発生によって表面の清浄作用を行なうため
である。
また、陰極電解処理に用いる陽極はニッケルを用いても
良いが、白金、白金めっきチタン、カーボン電極等の不
溶性陽極を用いると、処理液の濃度変化を著しく小さく
することができ、浴濃度の補正や、浴液の交換の必要が
ほとんどなく、繰返し長期間使用しても陰極電解処理液
の管理が安価で容易である。硫酸ニッケルと硫酸を含む
水溶液の上記陰極電解処理液を用いると、従来用いられ
てきたウッドニッケルストライク浴と異なり、実質的に
塩素イオンを含まないので、不溶性陽極を用いても有害
な塩素の発生がない。
良いが、白金、白金めっきチタン、カーボン電極等の不
溶性陽極を用いると、処理液の濃度変化を著しく小さく
することができ、浴濃度の補正や、浴液の交換の必要が
ほとんどなく、繰返し長期間使用しても陰極電解処理液
の管理が安価で容易である。硫酸ニッケルと硫酸を含む
水溶液の上記陰極電解処理液を用いると、従来用いられ
てきたウッドニッケルストライク浴と異なり、実質的に
塩素イオンを含まないので、不溶性陽極を用いても有害
な塩素の発生がない。
陰極電解処理後のめっきは、光沢ニッケルめっき、銀め
っき、金めつき、半田めっき、等種々の通常のめっきを
広範囲に良好に行なうことができる。
っき、金めつき、半田めっき、等種々の通常のめっきを
広範囲に良好に行なうことができる。
く実 施 例〉
以下、本発明について実施例により具体的に説明する。
実施例１
厚さ０．１２ｍｍ、幅１５ｍｍのステンレス鋼（５Ｏ５
３０４）の板を用意し、下記の工程に従ってニッケルめ
っきを行なった。
３０４）の板を用意し、下記の工程に従ってニッケルめ
っきを行なった。
（１） 陽極電解脱脂：水酸化ナトリウム３０ｇ／２、
炭酸ナトリウム３０ｇ、ｌ、界面活性剤０．５ｇ／Ｒ，
の脱脂液中で、６０℃、陽極電流密度５八／ｄｒｎ’、
処理時間３０秒の条件で陽極電解脱脂を行なった。
炭酸ナトリウム３０ｇ、ｌ、界面活性剤０．５ｇ／Ｒ，
の脱脂液中で、６０℃、陽極電流密度５八／ｄｒｎ’、
処理時間３０秒の条件で陽極電解脱脂を行なった。
（２） 酸洗：１Ｏｖｏｊｌｌ、塩酸中に、室温で３０
秒間浸を貞した。
秒間浸を貞した。
（３） 陰極電解処理による活性化： ＮｉＳＯ４・６
Ｈ２０２４０ｇ／ Ｉｔ、 Ｈ２Ｓ０４ （９８ｖｏ
ｆｆｉ＊ ） ５０ ｍＭ／１の活性化処理液中で２
５℃、陰極電流密度１０Ａ／ｄｒｎ２．１分間陰極電解
処理を行なった。陽極にはカーボン電極をイ吏用した。
Ｈ２０２４０ｇ／ Ｉｔ、 Ｈ２Ｓ０４ （９８ｖｏ
ｆｆｉ＊ ） ５０ ｍＭ／１の活性化処理液中で２
５℃、陰極電流密度１０Ａ／ｄｒｎ２．１分間陰極電解
処理を行なった。陽極にはカーボン電極をイ吏用した。
（４） 光沢ニッケルめっき：硫酸ニッケル２４０ｇ／
Ｌ、塩化ニッケル４５ｇ／ｕ、ホウ酸４０ｇ／ｆｉ、光
沢剤荏原ニージンライト製＄６１０．４ ｒ＊ｌ／ ｌ
、＃６３、１０社／２、ｐＨ３，６の光沢ニッケルめっ
き液で５５℃、陰極電流密度５八／ｄｒｎ２．３分間の
条件でめっきを行ない、厚さ約３μの均一な外観の光沢
ニッケルめっき板を得た。
Ｌ、塩化ニッケル４５ｇ／ｕ、ホウ酸４０ｇ／ｆｉ、光
沢剤荏原ニージンライト製＄６１０．４ ｒ＊ｌ／ ｌ
、＃６３、１０社／２、ｐＨ３，６の光沢ニッケルめっ
き液で５５℃、陰極電流密度５八／ｄｒｎ２．３分間の
条件でめっきを行ない、厚さ約３μの均一な外観の光沢
ニッケルめっき板を得た。
上記の光沢ニッケルめっきステンレス板を折り曲げ６１
９０度て３回曲げ戻した結果、めっきの剥離は認められ
ず密着性は良好であった。また、４５０℃に加熱したホ
ットプレート上で３分間加熱した後も、めっきのフクレ
、剥離などの異常は認められなかった。
９０度て３回曲げ戻した結果、めっきの剥離は認められ
ず密着性は良好であった。また、４５０℃に加熱したホ
ットプレート上で３分間加熱した後も、めっきのフクレ
、剥離などの異常は認められなかった。
実施例２
直径１．ｏｎｏｎのステンレス鋼線を用意し、下記の工
程に従って銀めっきを行なった。
程に従って銀めっきを行なった。
（１）〜（３） 実施例１の（１）〜（３）に同じ。
（４） 銅ストライクめっきニジアン化銅５０ｇ／ｌ’
、 シアン化カリウム８３ｇ／ｆｆｉ、ロア セＪＬ／
塩４０ｇ／ｌのアルカリ鋼めっき液で、５０℃、陰極電
流密度２八／ｄｒｎ’、３０秒間銅ストライクめっきを
行なった。
、 シアン化カリウム８３ｇ／ｆｆｉ、ロア セＪＬ／
塩４０ｇ／ｌのアルカリ鋼めっき液で、５０℃、陰極電
流密度２八／ｄｒｎ’、３０秒間銅ストライクめっきを
行なった。
（５） 銀めっきニジアン化銀２ｇ／ｌ、シアン化カリ
ウム７０ｇ／ＩＬの銀ストライクめっき液で室温、陰極
電流密度４Ａ／ｄｍ′、５秒間ストライクめっきを行な
った後、引続いてシアン化銀５０ｇ／ｆｉ、シアン化カ
リウム８０ｇ／Ｉ１．の銀めっき液で室温、陰極電流密
度２ Ａ／ｄｒｎ２．４分間めっきを行ない、厚さ約５
μの銀めっき線を得た。
ウム７０ｇ／ＩＬの銀ストライクめっき液で室温、陰極
電流密度４Ａ／ｄｍ′、５秒間ストライクめっきを行な
った後、引続いてシアン化銀５０ｇ／ｆｉ、シアン化カ
リウム８０ｇ／Ｉ１．の銀めっき液で室温、陰極電流密
度２ Ａ／ｄｒｎ２．４分間めっきを行ない、厚さ約５
μの銀めっき線を得た。
上記の銀めっきステンレス鋼線を実施例１と同様にして
、折曲げおよび加熱試験に供したが、めっきの剥離、フ
クレ等の異常は認められず、密着性は良好であった。
、折曲げおよび加熱試験に供したが、めっきの剥離、フ
クレ等の異常は認められず、密着性は良好であった。
なお、実施例１．２の活性化処理液は繰返し使用後も浴
組成の変動は掻くわずかであった。
組成の変動は掻くわずかであった。
〈発明の効果〉
本発明のステンレス鋼へのめっき方法によれば、硫酸ニ
ッケルと硫酸を含む水溶液中で陰極電解処理した後所望
のめっきを行なうことができるので、ステンレス鋼素材
表面に密着性および外観の良好な各種のめっきが可能で
あり、更に次のような効果が得られる。
ッケルと硫酸を含む水溶液中で陰極電解処理した後所望
のめっきを行なうことができるので、ステンレス鋼素材
表面に密着性および外観の良好な各種のめっきが可能で
あり、更に次のような効果が得られる。
（１） 従来の化学研磨あるいは電解研磨等を利用する
活性化処理方法を用いためつきでしばしば見られる素地
荒れによる外観不良かない。
活性化処理方法を用いためつきでしばしば見られる素地
荒れによる外観不良かない。
（２） ウッドニッケルストライク法のように腐食性の
強い塩酸を使用しないので作業環境への悪影響や、周辺
装置・機器等の損傷か少ない。
強い塩酸を使用しないので作業環境への悪影響や、周辺
装置・機器等の損傷か少ない。
（３） 陰極電解処理用の陽極として不溶性陽極が使用
できるので、活性化処理浴の組成変動を極〈小さく抑え
られ、陰極電解液等の浴管理が容易となる。
できるので、活性化処理浴の組成変動を極〈小さく抑え
られ、陰極電解液等の浴管理が容易となる。
出 願 人 日立電線株式会社
Claims (3)
- （１）予め清浄化したステンレス鋼素材を、硫酸ニッケ
ルと硫酸を含む水溶液中で陰極電解処理した後、所望の
めっきを行なうことを特徴とするステンレス鋼へのめっ
き方法。 - （２）前記陰極電解処理において、用いる陽極を不溶性
陽極とすることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記
載のステンレス鋼へのめっき方法。 - （３）前記硫酸ニッケルと硫酸を含む水溶液が、ＮｉＳ
Ｏ＿４・６Ｈ＿２Ｏ、１００〜３００ｇ／ｌ）Ｈ＿２Ｓ
Ｏ＿４、９８ｖｏｌ％として、２０〜１５０ｍｌ／ｌを
含む水溶液である特許請求の範囲第１項または第２項に
記載のステンレス鋼へのめっき方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15384085A JPS6217196A (ja) | 1985-07-12 | 1985-07-12 | ステンレス鋼へのめつき方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15384085A JPS6217196A (ja) | 1985-07-12 | 1985-07-12 | ステンレス鋼へのめつき方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6217196A true JPS6217196A (ja) | 1987-01-26 |
Family
ID=15571247
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15384085A Pending JPS6217196A (ja) | 1985-07-12 | 1985-07-12 | ステンレス鋼へのめつき方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6217196A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6439395A (en) * | 1987-08-06 | 1989-02-09 | Kawasaki Steel Co | Manufacture of stainless steel strip galvanized with zn or zn-ni alloy |
| WO2003095713A1 (en) * | 2002-05-07 | 2003-11-20 | University Of Southern California | Conformable contact masking methods and apparatus utilizing in situ cathodic activation of a substrate |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56152957A (en) * | 1980-04-28 | 1981-11-26 | Hitachi Cable Ltd | Pretreatment of metallic wire body for plating |
-
1985
- 1985-07-12 JP JP15384085A patent/JPS6217196A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56152957A (en) * | 1980-04-28 | 1981-11-26 | Hitachi Cable Ltd | Pretreatment of metallic wire body for plating |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6439395A (en) * | 1987-08-06 | 1989-02-09 | Kawasaki Steel Co | Manufacture of stainless steel strip galvanized with zn or zn-ni alloy |
| WO2003095713A1 (en) * | 2002-05-07 | 2003-11-20 | University Of Southern California | Conformable contact masking methods and apparatus utilizing in situ cathodic activation of a substrate |
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