JPS62172968A - ガス化及び投与装置 - Google Patents
ガス化及び投与装置Info
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- JPS62172968A JPS62172968A JP62011203A JP1120387A JPS62172968A JP S62172968 A JPS62172968 A JP S62172968A JP 62011203 A JP62011203 A JP 62011203A JP 1120387 A JP1120387 A JP 1120387A JP S62172968 A JPS62172968 A JP S62172968A
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- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 20
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
- B01F23/10—Mixing gases with gases
- B01F23/12—Mixing gases with gases with vaporisation of a liquid
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61M—DEVICES FOR INTRODUCING MEDIA INTO, OR ONTO, THE BODY; DEVICES FOR TRANSDUCING BODY MEDIA OR FOR TAKING MEDIA FROM THE BODY; DEVICES FOR PRODUCING OR ENDING SLEEP OR STUPOR
- A61M16/00—Devices for influencing the respiratory system of patients by gas treatment, e.g. ventilators; Tracheal tubes
- A61M16/10—Preparation of respiratory gases or vapours
- A61M16/14—Preparation of respiratory gases or vapours by mixing different fluids, one of them being in a liquid phase
- A61M16/147—Preparation of respiratory gases or vapours by mixing different fluids, one of them being in a liquid phase the respiratory gas not passing through the liquid container
-
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- A61M16/18—Vaporising devices for anaesthetic preparations
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ、技術分野
本発明は、特に、麻酔装置の新鮮ガス流に麻酔ガスを供
給することを意図した装置であって、ガス化を意図した
液体の源、ガス化室及びこのガス室からのガスを他のガ
ス、例えば該新鮮ガスと混合するために混合点に導くよ
うに配置された投与管路を含む投与及びガス化装置に関
する。
給することを意図した装置であって、ガス化を意図した
液体の源、ガス化室及びこのガス室からのガスを他のガ
ス、例えば該新鮮ガスと混合するために混合点に導くよ
うに配置された投与管路を含む投与及びガス化装置に関
する。
しかし、この技術に精通した者には、そのような装置は
他の目的、例えば人工呼吸装置の呼吸ガスの加湿のため
に使うこともできることは明らかであろう。
他の目的、例えば人工呼吸装置の呼吸ガスの加湿のため
に使うこともできることは明らかであろう。
口、背景技術
麻酔液をガス化するため又は新鮮なガス流の中に液体を
直接給湯するために、種々の実験が行われている。例え
ば、米国特許第3 251 361号及び第4 038
980号又はスエーデン特許出願84.03447−
9参照。しかし、そのようなシステムで均−且つ制御可
能な投与を行うことは困難であることが判っている。
直接給湯するために、種々の実験が行われている。例え
ば、米国特許第3 251 361号及び第4 038
980号又はスエーデン特許出願84.03447−
9参照。しかし、そのようなシステムで均−且つ制御可
能な投与を行うことは困難であることが判っている。
気相と液相が同時に存在する別のガス化室で麻酔液をガ
ス化する実験も行われている。しかし、ここで新しい液
体の補給で問題が生じた。この問題は、本発明の援助に
よる単純な方法で解決される。
ス化する実験も行われている。しかし、ここで新しい液
体の補給で問題が生じた。この問題は、本発明の援助に
よる単純な方法で解決される。
ハ0発明の開示
それで本発明は、上気の種類のガス化及び投与装置で、
更に詳しくは、そのガス化室は供給される液体がすぐガ
ス化するような温度で一定圧力に維持されるようにされ
ていることを特徴とする装置に関する。このようにして
、平衡に達した後に、一定温度且つ一定圧力の多量の均
一なガスが得られ、それから少ない母を麻酔装置の他の
ガス、例えば新鮮ガスの中へ容易に分配することができ
る。
更に詳しくは、そのガス化室は供給される液体がすぐガ
ス化するような温度で一定圧力に維持されるようにされ
ていることを特徴とする装置に関する。このようにして
、平衡に達した後に、一定温度且つ一定圧力の多量の均
一なガスが得られ、それから少ない母を麻酔装置の他の
ガス、例えば新鮮ガスの中へ容易に分配することができ
る。
該一定圧力は、ガス化されるべき液体を該圧力で供給す
ることによってもたらされるように整えられているのが
好ましい。これは、液体源がこの圧力に、圧力源から調
整器を経て同じ圧力のガス、例えば空気を供給すること
によって、維持されるようにされていることで達成でき
る。
ることによってもたらされるように整えられているのが
好ましい。これは、液体源がこの圧力に、圧力源から調
整器を経て同じ圧力のガス、例えば空気を供給すること
によって、維持されるようにされていることで達成でき
る。
投与を達成するために、投与管路は、開放周期及び/又
は開放時間を変えることができる時間制御弁を備えても
よい。その代りに、この投与管路は、好ましくは制御可
能な、絞り弁を備えてもよい。
は開放時間を変えることができる時間制御弁を備えても
よい。その代りに、この投与管路は、好ましくは制御可
能な、絞り弁を備えてもよい。
実用上、ガス化室を液体源より高い位置に配置し、且つ
それを液体源の底に近い点に始まり、好ましくはガス化
室の底の近くで終わる立上り管を経て液体源に接続する
のが適当であることが判っている。同時に、この投与管
路をガス化室から後者の最高点又はその点の近くで始め
ることが適当かもしれない。
それを液体源の底に近い点に始まり、好ましくはガス化
室の底の近くで終わる立上り管を経て液体源に接続する
のが適当であることが判っている。同時に、この投与管
路をガス化室から後者の最高点又はその点の近くで始め
ることが適当かもしれない。
本発明は、上記の投与弁のすぐ後に凝縮段階を挿入して
、液体の投与にも適用できる。それで、投与はガス状態
で行われ、それからそのガスが再び液体に変えられる。
、液体の投与にも適用できる。それで、投与はガス状態
で行われ、それからそのガスが再び液体に変えられる。
このようにして、他の方法では非常に困難な、特に少量
の液体の、投与のだの非常に精密な方法が得られる。
の液体の、投与のだの非常に精密な方法が得られる。
二、実施例
以下に添付の図面を参照して本発明の詳細な説明する。
例として、この添付の図面に示す、本発明の主題の好ま
しい実施例は、麻酔装置に使用することを意図している
。従って、この技術に精通した者には、同じ原理が他の
目的にも使えることは明らかだろうが、以下の説明では
そのような用途を参照する。
しい実施例は、麻酔装置に使用することを意図している
。従って、この技術に精通した者には、同じ原理が他の
目的にも使えることは明らかだろうが、以下の説明では
そのような用途を参照する。
図面に、麻酔液2の源1を示す。実用上、この源は、圧
力源から調整器を経て(これらを合せて3で示す)、定
圧を供給することを意図した、液体で満した耐圧ガラス
フラスコで構成してもよい。
力源から調整器を経て(これらを合せて3で示す)、定
圧を供給することを意図した、液体で満した耐圧ガラス
フラスコで構成してもよい。
これは、単純に管路4を経て圧縮空気を送ることによっ
てなしてもよい。それによって液2は、立上り管5を経
てガス化室6まで上がるようにされ、−〇 − その室は、模式的に示す加熱装置7によって、供給され
る液体が、大部分、すぐガス化するような温度に維持さ
れるようになる。この加熱は、図示の場合は制御装置8
によって制御され、次にその装置はマイクロプロセッサ
等9によって制御される。これは、破線10によって示
す。破線11は、同じマイクロプロセッサ9が、投与管
路の流れを制御する、模式的に示すソレノイド弁13用
の制御装置12をどのようにして制御できるかを示す。
てなしてもよい。それによって液2は、立上り管5を経
てガス化室6まで上がるようにされ、−〇 − その室は、模式的に示す加熱装置7によって、供給され
る液体が、大部分、すぐガス化するような温度に維持さ
れるようになる。この加熱は、図示の場合は制御装置8
によって制御され、次にその装置はマイクロプロセッサ
等9によって制御される。これは、破線10によって示
す。破線11は、同じマイクロプロセッサ9が、投与管
路の流れを制御する、模式的に示すソレノイド弁13用
の制御装置12をどのようにして制御できるかを示す。
この投与管路14は、なおその上に又は二者択一的に、
これも、破線16で示すように、事によるとマイクロプ
ロセッサ9によって制御されるかもしれない絞り弁15
を含むかもしれない。この投与管路14は、わずかな部
分だけを示す新ガス管路17で終る。最後に数字18は
、マイクロプロセッサも、3で示す調整器とガス源の組
合せを制御するようにされてもよいことを示す破線を指
す。
これも、破線16で示すように、事によるとマイクロプ
ロセッサ9によって制御されるかもしれない絞り弁15
を含むかもしれない。この投与管路14は、わずかな部
分だけを示す新ガス管路17で終る。最後に数字18は
、マイクロプロセッサも、3で示す調整器とガス源の組
合せを制御するようにされてもよいことを示す破線を指
す。
へロタン、nフラン又はイソフランのような、普通に起
きる麻酔液の問題のとき、ガス化室6の中で約70〜8
0℃の温度を使用するのが適当と判っている。同時に、
水柱400vの大きさ、即ち0.4barのオーダの圧
力を使用するのが適当と判っている。この結果、ガス化
室内の圧力は、水柱400αを超えないかもしれない。
きる麻酔液の問題のとき、ガス化室6の中で約70〜8
0℃の温度を使用するのが適当と判っている。同時に、
水柱400vの大きさ、即ち0.4barのオーダの圧
力を使用するのが適当と判っている。この結果、ガス化
室内の圧力は、水柱400αを超えないかもしれない。
何故なら、そのような場合、液体に圧縮し戻されるから
である。上記の温度範囲内で、液体は、ガス化室に入る
とすぐガス化する。同時に、投与管路14を経て分配さ
れる液体はもう導入することはできない。
である。上記の温度範囲内で、液体は、ガス化室に入る
とすぐガス化する。同時に、投与管路14を経て分配さ
れる液体はもう導入することはできない。
実用的実施例では、ソレノイド12に一定開放時間、即
ち60m5を使用し、この開放周期はQ、1Hzと10
Hzの間で変わる。同時に、ここではストローク当り1
j11!の投与をするように設定された絞り弁15を使
用する。その結果、その投与量は、0.1d!/sと1
0d/Sの間で容易に変えることができる。二者択一的
に又はなおその上に、それは開放時間を変えることも可
能であろう。
ち60m5を使用し、この開放周期はQ、1Hzと10
Hzの間で変わる。同時に、ここではストローク当り1
j11!の投与をするように設定された絞り弁15を使
用する。その結果、その投与量は、0.1d!/sと1
0d/Sの間で容易に変えることができる。二者択一的
に又はなおその上に、それは開放時間を変えることも可
能であろう。
ソレノイド弁を使うと、これは約20m5の最低時間か
ら永久に開いたままに保つことまで可能であろう。
ら永久に開いたままに保つことまで可能であろう。
圧力も、勿論、変えることができるが、通常麻酔ガスが
液体の形で供給されるフラスコの丈夫さで実際上制限さ
れる。この圧力は、もし圧力が低すぎると、容器1の中
の液面の高さがこの投与量に対する決定的重要さを得る
という事実によって下方に制限される。実際には、水柱
100c11と800cmの間の圧力を使うのが好まし
い。
液体の形で供給されるフラスコの丈夫さで実際上制限さ
れる。この圧力は、もし圧力が低すぎると、容器1の中
の液面の高さがこの投与量に対する決定的重要さを得る
という事実によって下方に制限される。実際には、水柱
100c11と800cmの間の圧力を使うのが好まし
い。
当然、本発明は単純に上記の実施例に限定されないが、
添付の特許請求の範囲内で変えてもよい。
添付の特許請求の範囲内で変えてもよい。
例えば、本発明は、又液体の投与に適用してもよい。そ
のような仮想の用途では、模式的に示す装置15は、ガ
ス状態で計量した液体の量がその液体形を回復する凝縮
装置を構成してもよい。
のような仮想の用途では、模式的に示す装置15は、ガ
ス状態で計量した液体の量がその液体形を回復する凝縮
装置を構成してもよい。
図は、本発明の好ましい実施例を模式的に示す。
1・・・・・・液体源
3・・・・・・調整器
5・・・・・・立上り管
6−:・・・ガス化室
13・・・・・・時間制御弁
14・・・・・・投与管路
15・・・・・・絞り弁
17・・・・・・混合点
Claims (8)
- (1)特に、麻酔装置の新鮮ガス流に麻酔ガスを供給す
ることを意図した装置であつて、ガス化を意図した液体
の源(1)、ガス化室(6)、及びこのガス化室(6)
からのガスを他のガス、例えば該新鮮ガスと混合するた
めに混合点(17)に導くように配置された投与管路(
14)を含む投与及びガス化装置に於いて、このガス化
室は、供給される液体が、大部分、すぐガス化するよう
な所定の温度で一定圧力に維持されるようにされている
ことを特徴とする装置。 - (2)特許請求の範囲第1項記載の装置に於いて、該一
定圧力は、ガス化されるべき液体がそれ自身も該圧力で
供給されるようにされることでもたらされるように整え
られていることを特徴とする装置。 - (3)特許請求の範囲第2項記載の装置に於いて、液体
の源(1)が該一定圧力に、圧力源から調整器(3)を
経て同じ圧力のガスを供給することによつて、維持され
るようにされていることを特徴とする装置。 - (4)特許請求の範囲第2項記載の装置に於いて、投与
管路(14)が開放周期及び/又は開放時間を変えるこ
とができる時間制御弁(13)を備えることを特徴とす
る装置。 - (5)特許請求の範囲第1項から第3項のいずれか一つ
の項に記載の装置に於いて、投与管路(14)が、好ま
しくは制御可能な、絞り弁(15)を備えることを特徴
とする装置。 - (6)特許請求の範囲第1項から第5項のいずれか一つ
の項に記載の装置に於いて、ガス化室(6)が、液体の
源(1)より高い位置に配置され、且つ液体の源の底に
近い点に始まり、好ましくはガス化室の底の近くで終わ
る立上り管(5)を経てそれに接続されていることを特
徴とする装置。 - (7)特許請求の範囲第6項記載の装置に於いて、投与
管路(14)がガス化室(6)からその最高点又はこの
点の近くで始まることを特徴とする装置。 - (8)液体の投与に関し特許請求の範囲第1項から第7
項のいずれか一つの項に記載の装置に於いて、その投与
がガス状態で行われ、それからそのガスが再び液体に変
えられることを特徴とする装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SE8600250-8 | 1986-01-21 | ||
| SE8600250A SE450995B (sv) | 1986-01-21 | 1986-01-21 | Doserings- och forgasningsanordning, foretredesvis avsedd for tillforsel av narkosgas till en ferskgasstrom i en narkosanleggning |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62172968A true JPS62172968A (ja) | 1987-07-29 |
Family
ID=20363163
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62011203A Pending JPS62172968A (ja) | 1986-01-21 | 1987-01-20 | ガス化及び投与装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4750483A (ja) |
| EP (1) | EP0231513B1 (ja) |
| JP (1) | JPS62172968A (ja) |
| DE (1) | DE3681910D1 (ja) |
| ES (1) | ES2025059B3 (ja) |
| SE (1) | SE450995B (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0451900U (ja) * | 1990-09-07 | 1992-04-30 |
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