JPS62187802A - Beam splitter - Google Patents
Beam splitterInfo
- Publication number
- JPS62187802A JPS62187802A JP3139186A JP3139186A JPS62187802A JP S62187802 A JPS62187802 A JP S62187802A JP 3139186 A JP3139186 A JP 3139186A JP 3139186 A JP3139186 A JP 3139186A JP S62187802 A JPS62187802 A JP S62187802A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- refractive
- layers
- index
- index dielectric
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 16
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 15
- 238000003475 lamination Methods 0.000 claims description 6
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 16
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 abstract description 10
- 239000012788 optical film Substances 0.000 abstract description 7
- 238000004040 coloring Methods 0.000 abstract 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 17
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、可視光を透過さU・、測距用の赤外光を反射
さU゛ろビームスプリッタ−に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a beam splitter that transmits visible light and reflects infrared light for distance measurement.
(従来の技術)
レンズ系を通したアクティブ方式の自動焦点方式のビデ
オカメラにおいては、可視光を透過し、測距用の赤外光
(たとえば、波長880nmの単色光)を反射させるビ
ーl、スプリッターを用いると、光学系の構成が簡単に
なる。(Prior Art) In an active autofocus video camera that uses a lens system, a beam transmits visible light and reflects infrared light (for example, monochromatic light with a wavelength of 880 nm) for distance measurement. Using a splitter simplifies the configuration of the optical system.
このビームスプリッタ−には、誘電体の多層膜からなる
フィルタが使用できる。この多層膜は、高屈折率と低屈
折率の層を交互に重ねたもので、各層の境界での反射を
強めるため、各層厚は、基準波長のI/4とする。この
誘電体多層膜への入射光のうち、基準波長の近傍の波長
の成分は多く反射されるが、それ以外の成分は多く透過
する。A filter made of a dielectric multilayer film can be used for this beam splitter. This multilayer film is made up of alternating layers of high refractive index and low refractive index, and the thickness of each layer is set to I/4 of the reference wavelength in order to strengthen reflection at the boundary between each layer. Of the light incident on this dielectric multilayer film, many components of wavelengths near the reference wavelength are reflected, but many other components are transmitted.
したがって、可視光を透過し、測距用の赤外光を反射す
るように、誘電体材料、基準波長などを設計すればよい
。Therefore, the dielectric material, reference wavelength, etc. may be designed to transmit visible light and reflect infrared light for distance measurement.
(発明が解決しようとする問題点)
ところで、誘電体多層膜を用いたビームスプリッタ−を
入射角45°で使用する場合には、偏光のS成分とP成
分とのバランスが悪くなり、反射の効率が悪くなる。こ
れについて更に詳しく説明すると、一般に、プリズムを
構成する基材の屈折率を18とし、高屈折率誘電体層の
屈折率を’11、低屈折率誘電体層の屈折率をn、とし
て、両誘電体層がそれぞれλ/4の光学的膜厚(λ:基
準波長)ごとに交互に積層された構成を有するビームス
プリッタ−においては、
ns’/ 2−(n −n )”/ (no’+ n%
)I L
の条件を満足する場合に、偏光のS成分と■〕酸成分の
分離が最大になる。このために、プリズムを構成する基
材の屈折率と一方の誘電体層の構成物質とが決まると、
他方の誘電体層の屈折率は上記条件より求められる屈折
率からかけはなれた値をとる必要があり、従ってその屈
折率はある程度決まってしまう。(Problems to be Solved by the Invention) By the way, when using a beam splitter using a dielectric multilayer film at an incident angle of 45°, the balance between the S component and the P component of polarized light becomes poor, resulting in a decrease in reflection. It becomes less efficient. To explain this in more detail, generally, the refractive index of the base material constituting the prism is 18, the refractive index of the high refractive index dielectric layer is '11, and the refractive index of the low refractive index dielectric layer is n. In a beam splitter having a structure in which dielectric layers are alternately laminated with an optical thickness of λ/4 (λ: reference wavelength), ns'/2-(n-n)"/(no' +n%
) I L , the separation of the S component and the acid component of the polarized light becomes maximum. For this reason, once the refractive index of the base material constituting the prism and the constituent material of one dielectric layer are determined,
The refractive index of the other dielectric layer needs to take a value far from the refractive index determined by the above conditions, and therefore, the refractive index is determined to a certain extent.
更に、ともに光学的膜厚が基準波長λの1/4である高
屈折率誘電体層と低屈折率誘電体層とを交互に積Hした
ビームスプリッタ−においては、可視光領域の特定波長
に透過率のくぼみが生じる。Furthermore, in a beam splitter in which high refractive index dielectric layers and low refractive index dielectric layers, both of which have an optical thickness of 1/4 of the reference wavelength λ, are laminated alternately, A depression in transmittance occurs.
このくぼみを「リップル」というが、このようなリップ
ルを生じるビームスプリッタ−の透過光は色付いてしま
う。These depressions are called "ripples," and the light transmitted through a beam splitter that causes such ripples becomes colored.
そこで、本発明の目的は、約45°の入射角で用いられ
、可視光を透過させるとともに赤外光を反射させるプリ
ズム式のビームスプリッタ−において、偏光のS成分と
P成分との分離を抑えるとともに、可視光領域において
上記リップルのない均一な分光透過率を有するビームス
プリッタ−を提供することにある。Therefore, an object of the present invention is to suppress the separation of the S component and the P component of polarized light in a prism type beam splitter that is used at an incident angle of about 45 degrees and transmits visible light and reflects infrared light. Another object of the present invention is to provide a beam splitter that has uniform spectral transmittance without the ripples in the visible light region.
(問題点を解決するための手段)
上記目的を達成するために、本発明の発明者はλ/4の
光学的膜厚を有する高・低誘電体層の交互積層構成では
上記リップルを消すことができないので、各誘電体層の
光学的膜厚を種々変更して試行錯誤を繰り返した結寒、
高屈折率誘電体層の光学的膜厚をλ/4からずらすこと
なく、低屈折率誘電体層の光学的膜厚をλ/4から僅か
にずらずことによって」二足リップルを消すことができ
ることに気付いて、本発明に至ったのである。(Means for Solving the Problems) In order to achieve the above object, the inventors of the present invention have discovered that the above ripples can be eliminated in an alternately laminated structure of high and low dielectric layers having an optical thickness of λ/4. Since it was not possible to do this, we repeatedly changed the optical thickness of each dielectric layer through trial and error.
By slightly shifting the optical thickness of the low refractive index dielectric layer from λ/4 without shifting the optical thickness of the high refractive index dielectric layer from λ/4, it is possible to eliminate the bipedal ripple. They realized that it could be done and came up with the present invention.
従って、本発明は、約1,52の屈折率を有するガラス
からなる第1のプリズムと、約1.52の屈折率を有す
るガラスからなる第2のプリズムとの接合面に形成され
る多層膜を有するビームスプリッタ−において、上記多
層膜は、高屈折率誘電体からなる高屈折率層と低屈折率
誘電体からなる低屈折率層との交互積層構成を有すると
ともに、上記第1・第2のプリズムに接する層はいずれ
ら高屈折率層であり、更に以下の条件を満足することを
特徴とする。Therefore, the present invention provides a multilayer film formed on the joint surface of a first prism made of glass having a refractive index of about 1.52 and a second prism made of glass having a refractive index of about 1.52. In the beam splitter, the multilayer film has an alternate lamination structure of high refractive index layers made of a high refractive index dielectric material and low refractive index layers made of a low refractive index dielectric material, and the above-mentioned first and second The layers in contact with the prism are all high refractive index layers, and are further characterized by satisfying the following conditions.
1.90≦nH≦2.30 1.47≦nI、≦1.80 n、、d、、 = 0 、25λ 0.27λ≦nL九≦0.35λ 但し、ここで、’IIは各高屈折率層の屈折率、J。1.90≦nH≦2.30 1.47≦nI, ≦1.80 n,,d,,=0,25λ 0.27λ≦nL9≦0.35λ However, here, 'II is the refractive index of each high refractive index layer, and J is the refractive index of each high refractive index layer.
は各低屈折率層の屈折率、nItdllは各高屈折率層
の光学的膜厚、n+、dbは各低屈折率層の光学的膜厚
、λは基準波長である。is the refractive index of each low refractive index layer, nItdll is the optical thickness of each high refractive index layer, n+, db is the optical thickness of each low refractive index layer, and λ is the reference wavelength.
(作 用)
高屈折率誘電体層の屈折率及び光学的膜厚と、低屈折率
誘電体層の屈折率及び光学的膜厚とを上述した範囲内に
設定することにより、可視光領域におけるリップルを消
して、可視光領域全体にわたって均一な分光透過率を有
するビームスプリッタ−が得られる。更に、本発明にお
いては、上記屈折率の条件を満足しないので、偏光のS
成分とP成分との分離ら抑えられる。(Function) By setting the refractive index and optical thickness of the high refractive index dielectric layer and the refractive index and optical thickness of the low refractive index dielectric layer within the above-mentioned ranges, By eliminating ripples, a beam splitter with uniform spectral transmittance over the entire visible light region is obtained. Furthermore, in the present invention, since the above refractive index condition is not satisfied, the polarized light S
Separation between the component and the P component can be suppressed.
(実施例) 以下、添付の図面を参照して本発明の詳細な説明する。(Example) Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
レンズ系を通したアクティブ方式による自動焦点方式の
ビデオカメラにおいて使用するビームスプリッタ−を、
第1図に示すように、第1.第2の2個の直角プリズム
1.2を多層膜3を介して紫外線硬化樹脂4を用いて斜
面ではり合計て製作する。この多層膜3は、45°の入
射角0で入射する先のうち、測距用に用いる赤外光(こ
こでは、波長880 nmの単色光)を反射させ、可視
域400〜700 niの光を透過させる。A beam splitter used in an autofocus video camera that uses an active method through a lens system.
As shown in FIG. A second two rectangular prisms 1.2 are manufactured by gluing them together on an inclined surface using an ultraviolet curing resin 4 via a multilayer film 3. This multilayer film 3 reflects infrared light (here, monochromatic light with a wavelength of 880 nm) used for distance measurement, which is incident at an incident angle of 0 at 45°, and reflects light in the visible range of 400 to 700 ni. Transmit.
プリズム1.2としては、屈折率が約1.52のガラス
からなるしのが用いられる。多層膜3は、第2図に示す
ように、1.90〜2.30の屈折率を有する高屈折率
誘電体からなる高屈折率誘電体層1−1と、!、47〜
1.80の屈折率を有する低屈折率誘電体からなる低屈
折率誘電体層りとの交互積層構成からなり、その交互積
層繰り返し回数をNとすると、Nは3以上である。As the prism 1.2, a prism made of glass having a refractive index of about 1.52 is used. As shown in FIG. 2, the multilayer film 3 includes a high refractive index dielectric layer 1-1 made of a high refractive index dielectric having a refractive index of 1.90 to 2.30. , 47~
It has an alternate lamination structure with a low refractive index dielectric layer made of a low refractive index dielectric having a refractive index of 1.80, and when the number of times the alternate lamination is repeated is N, N is 3 or more.
多層膜3の第1プリズムl側と第2プリズム2側とにそ
れぞれ接する最外層は、とらに高屈折率誘電体層1■で
形成する。そして、各高屈折率誘電体層Hの光学的膜厚
は、J、li W、11波長をλとしたときにそれぞれ
0.25λであり、各低屈折率誘電体層しの光学的膜厚
は、それぞれ、0,27λ〜0゜35λの範囲内である
。このように、本発明によれば、高屈折率誘電体層1−
1の光学的膜厚nIt dl+の低屈折率誘電体層りの
光学的膜厚nb九との比を従来のrlJ(0,25λ:
0.25λ)からCらすことによって、従来は可視光領
域に生じていた透過率のリップルをなくすことができる
。The outermost layer of the multilayer film 3, which is in contact with the first prism l side and the second prism 2 side, respectively, is formed of a high refractive index dielectric layer 12. The optical film thickness of each high refractive index dielectric layer H is 0.25λ, respectively, where J, li W, and 11 wavelengths are λ, and the optical film thickness of each low refractive index dielectric layer H is 0.25λ, respectively. are within the range of 0.27λ to 0°35λ, respectively. Thus, according to the present invention, the high refractive index dielectric layer 1-
The ratio of the optical film thickness nIt dl+ of 1 to the optical film thickness nb9 of the low refractive index dielectric layer is expressed as the conventional rlJ (0,25λ:
By increasing C from 0.25λ), ripples in transmittance that conventionally occur in the visible light region can be eliminated.
以下、本発明の実施例を具体的に説明ずろ。以下の実施
例1〜3においては、高屈折率誘電体としてはAlx0
t(屈折率1.62)が用いられる。ここで、高屈折率
誘電体層■]を構成する高屈折率誘電体としては、上記
のほかに、Zr0y、TiCL、Cent、H「0.な
ど力く適用可能であり、一方、低屈折率誘電体層りを構
成する低屈折率誘電体としては、上記のほかに、MgO
t、Y t Osなどが適用可能である。Examples of the present invention will be described in detail below. In Examples 1 to 3 below, the high refractive index dielectric is Alx0
t (refractive index 1.62) is used. Here, as the high refractive index dielectric constituting the high refractive index dielectric layer 1, in addition to the above, Zr0y, TiCL, Cent, H'0. In addition to the above, the low refractive index dielectric constituting the dielectric layer includes MgO.
t, Y t Os, etc. are applicable.
実施例1
実施例Iの構成を第1表に示す。本実施例は、上記交互
積層繰り返し回数NがIOの実施例である。Example 1 The structure of Example I is shown in Table 1. This embodiment is an embodiment in which the number N of repetitions of alternate lamination is IO.
ここで、実施例1の構成は、
ガラス+[0,251−1・0.29L]”・Q、25
11+ガラスと表すことができる。但し、[0,251
−1・0.29L]”は、光学的膜厚か0.25λの高
屈折率誘電体層Hと光学的膜厚が0.29λの低屈折率
誘電体層■7とが交互に10ffづつ積層されているこ
とを示す。実施例1のビームスプリッタ−の分光透過率
特性を第3図に示す。Here, the configuration of Example 1 is as follows: glass + [0,251-1・0.29L]”・Q, 25
It can be expressed as 11+ glass. However, [0,251
-1・0.29L]" is a high refractive index dielectric layer H with an optical thickness of 0.25λ and a low refractive index dielectric layer ■7 with an optical thickness of 0.29λ, alternately 10ff each. The spectral transmittance characteristics of the beam splitter of Example 1 are shown in FIG.
以下余白
第1表
(λ;I020nIn)
実施例2
本実施例は、
ガラス+[0,2514・0.29L]3・0.251
4+ガラスで表され、従ってN=3である。各誘電体層
の構成物質は実施例1と同じである。本実施例の分光透
過率特性を第4図に示す。Below is the margin Table 1 (λ; I020nIn) Example 2 In this example, Glass + [0,2514・0.29L]3・0.251
It is represented by 4+glass, so N=3. The constituent materials of each dielectric layer are the same as in Example 1. The spectral transmittance characteristics of this example are shown in FIG.
実施例3
本実施例は、
ガラス+[0,25H・0゜29L]”・0.25H+
ガラスで表され、従ってN;22である。各誘電体層の
構成物質は実施例Iと同じである。本実施例の分光透過
率特性を第5図に示す。Example 3 In this example, Glass+[0,25H・0°29L]”・0.25H+
It is represented by glass and therefore N;22. The constituent materials of each dielectric layer are the same as in Example I. The spectral transmittance characteristics of this example are shown in FIG.
実施例4 本実施例の構成を第2表に示す。Example 4 The configuration of this embodiment is shown in Table 2.
従って、本実施例の構成は、
ガラス+[0,25H・0.29L]区0・0.25H
+ガラスで表され、N=IOである。尚、本実施例にお
いて低屈折率誘電体としては、Y、0.に代えてMgO
を用いることもできる。本実施例の分光透過率特性を第
6図に示す。Therefore, the configuration of this example is: Glass + [0,25H・0.29L] Ward 0・0.25H
+Glass, N=IO. In this example, the low refractive index dielectrics include Y, 0. MgO instead of
You can also use The spectral transmittance characteristics of this example are shown in FIG.
第2表 (λ= 100 Onm) 実施例5 本実施例の構成を第3表に示す。Table 2 (λ=100 Onm) Example 5 The configuration of this embodiment is shown in Table 3.
従って、本実施例の構成は、
ガラス+[0,25H・083比コ1°・0.25I(
+ガラスで表され、N=10である。本実施例の分光透
過率特性を第7図に示す。Therefore, the configuration of this example is as follows: glass + [0,25H・083 ratio 1°・0.25I (
+glass, and N=10. The spectral transmittance characteristics of this example are shown in FIG.
以下余白 第3表 (λ=1050nm) 実施例6 本実施例の構成を第4表に示す。Margin below Table 3 (λ=1050nm) Example 6 Table 4 shows the configuration of this embodiment.
従って、本実施例の構成は、
ガラス+[0,25N・0.32L]”・0.2511
+ガラスで表され、N=IOである。本実施例の分光透
過率特性を第8図に示す。Therefore, the configuration of this example is as follows: glass + [0.25N・0.32L]”・0.2511
+Glass, N=IO. The spectral transmittance characteristics of this example are shown in FIG.
以下余白
第4表
(λ= I O00os)
以上に説明した各実施例のビームスプリッタ−は、次の
ようにして製造される。まず、第1プリズムlを基板と
して多層膜3の各層を電子ビーム法により順に真空蒸着
する。各層の蒸着材料は上記のとおりである。蒸着時の
真空度はほぼ3XlO’Torrであり、基板を約30
0℃に加熱して、両蒸着材料をそれぞれ交互に所定の光
学的膜厚となるまで蒸着する。次に第2プリズムの対抗
する面に紫外線硬化樹脂4を塗布して両プリズム1.2
を貼り合わせた後に、紫外線硬化樹脂4を硬化させろ。Table 4 below with margins (λ=IO00os) The beam splitters of each of the embodiments described above are manufactured in the following manner. First, each layer of the multilayer film 3 is sequentially vacuum-deposited using the first prism 1 as a substrate by an electron beam method. The vapor deposition materials for each layer are as described above. The degree of vacuum during vapor deposition was approximately 3XlO'Torr, and the substrate was
It is heated to 0° C., and both deposition materials are alternately deposited until a predetermined optical film thickness is reached. Next, apply ultraviolet curing resin 4 to the opposing surfaces of the second prism, and
After pasting them together, cure the ultraviolet curing resin 4.
この紫外線硬化樹脂4の屈折率はほぼ1.51であり、
プリズム1.2の屈折率とほぼ同じであるので、第2プ
リズム2と紫外線硬化樹脂4との間に光量のロスはない
と考えられろ。The refractive index of this ultraviolet curing resin 4 is approximately 1.51,
Since the refractive index is almost the same as that of the prism 1.2, it is considered that there is no loss in the amount of light between the second prism 2 and the ultraviolet curing resin 4.
第3図〜第8図のグラフかられかるように、400〜7
00r++nの可視光は、はとんど透過し、しから、透
過率曲線のリップルは小さく、透過率の波長依存性が少
ない。一方、測距用の赤外光(波長=880nm)の透
過率は、N=3の場合で約50%であり、Nが増すと小
さくなり、N−22の場合ではほとんど0になる。すな
わち、層数を増すことにより、880nmでの反射光を
より多く取り出すことができる。以上の測定結果から、
高屈折率誘電体層trと低屈折率誘電体JPiLとの交
互積層繰り返し回数Nを3以上にすれば、400〜70
0nmの可視域で光を透過させ、測距用の赤外光を反射
させろことができる。Nが3より少ないと、測距用赤外
光の透過率が大きくなって反射先乗が不足する。また、
Nを23以上としても赤外光の反射特性の、向上は期待
できないので、Nは22以下である方が望ましい。As can be seen from the graphs in Figures 3 to 8, 400 to 7
Most of the visible light of 00r++n is transmitted, so the ripple in the transmittance curve is small, and the wavelength dependence of the transmittance is small. On the other hand, the transmittance of infrared light for distance measurement (wavelength = 880 nm) is about 50% when N=3, decreases as N increases, and becomes almost 0 when N-22. That is, by increasing the number of layers, more reflected light at 880 nm can be extracted. From the above measurement results,
If the number of times N of alternate lamination of the high refractive index dielectric layer tr and the low refractive index dielectric JPiL is set to 3 or more, 400 to 70
It can transmit light in the visible range of 0 nm and reflect infrared light for distance measurement. If N is less than 3, the transmittance of infrared light for distance measurement becomes large and the reflection pre-order is insufficient. Also,
Even if N is set to 23 or more, no improvement in infrared light reflection characteristics can be expected, so N is desirably 22 or less.
(発明の効果)
本発明のビームスプリッタ−においては、入射n145
°で使用される場合に、偏光のS成分とP成分との分離
をできるだけ減少せしめることができろとともに、特定
の波長(特に赤外光)に対しては高い反射率を得、一方
、可視光領域においては分光透過率曲線のリップルを抑
えて均一な透過率を得ることができる。このために、可
視光領域の透過光に色付きが生じろことらない。(Effect of the invention) In the beam splitter of the present invention, the incident n145
When used at In the optical region, uniform transmittance can be obtained by suppressing ripples in the spectral transmittance curve. For this reason, there is no possibility that the transmitted light in the visible light region will be colored.
第1図は、本発明の実施例のビームスプリッタ−の図式
的な断面図である。
第2図は、誘電体多層膜の構成を示す図である。
第3図〜第8図は、それぞれ、本発明の実施例のビーム
スプリッタ−の透過率曲線のグラフである。
1.2・・・プリズム、 3・・・多層誘電膜、r−
t・・・高屈折率誘電体層、L・・・低屈折率誘電体層
。
特許出願人 ミノルタカメラ株式会社代 理 人
弁理士 青白 葆ほか2名第1図
(it%タト尤)
第2図
第3図
IJS4図 成長 (nm)第5図
シ従A (nm)
液長 (nm)
第6図
成長(nm)
第7図
第8図
派長(nm)
手続補正書(自制
昭和61年4月3日FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a beam splitter according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a diagram showing the structure of a dielectric multilayer film. 3 to 8 are graphs of transmittance curves of beam splitters according to embodiments of the present invention, respectively. 1.2... Prism, 3... Multilayer dielectric film, r-
t...High refractive index dielectric layer, L...Low refractive index dielectric layer. Patent applicant: Minolta Camera Co., Ltd. Agent: Patent attorney: Aobai Ao and two others Figure 1 (IT% Tato Yu) Figure 2 Figure 3 IJS Figure 4 Growth (nm) Figure 5
Shift A (nm) Liquid length (nm) Figure 6 Growth (nm) Figure 7 Figure 8 Branch length (nm) Procedural amendment (self-control April 3, 1986)
Claims (2)
のプリズムと、約1.52の屈折率を有するガラスから
なる第2のプリズムとの接合面に形成される多層膜を有
するビームスプリッターにおいて、 上記多層膜は、高屈折率誘電体からなる高屈折率層と低
屈折率誘電体からなる低屈折率層との交互積層構成を有
するとともに、 上記第1・第2のプリズムに接する層はいずれら高屈折
率層であり、更に以下の条件を満足することを特徴とす
るビームスプリッター; 1.90≦n_H≦2.30 1.47≦n_L≦1.80 n_Hd_H=0.25λ 0.27λ≦n_Ld_L≦0.35λ 但し、ここで、 n_H:各高屈折率層の屈折率、 n_L:各低屈折率層の屈折率、 n_Hd_H:各高屈折率層の光学的膜厚、n_Ld_
L:各低屈折率層の光学的膜厚、λ:基準波長、 である。(1) A first made of glass having a refractive index of about 1.52.
In a beam splitter having a multilayer film formed on the joint surface of a prism of 1.0 and a second prism made of glass having a refractive index of about 1.52, the multilayer film has a high refractive index made of a dielectric material with a high refractive index. The prism has an alternate laminated structure of index layers and low refractive index layers made of a low refractive index dielectric, and the layers in contact with the first and second prisms are both high refractive index layers, and further satisfy the following conditions. A beam splitter characterized by: 1.90≦n_H≦2.30 1.47≦n_L≦1.80 n_Hd_H=0.25λ 0.27λ≦n_Ld_L≦0.35λ where, n_H: each height refractive index of the refractive index layer, n_L: refractive index of each low refractive index layer, n_Hd_H: optical thickness of each high refractive index layer, n_Ld_
L: optical thickness of each low refractive index layer, λ: reference wavelength.
返し回数が3以上であることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載のビームスプリッター。(2) The beam splitter according to claim 1, wherein the number of repetitions of the alternate lamination structure of high refractive index layers and low refractive index layers is 3 or more.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3139186A JPS62187802A (en) | 1986-02-14 | 1986-02-14 | Beam splitter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3139186A JPS62187802A (en) | 1986-02-14 | 1986-02-14 | Beam splitter |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62187802A true JPS62187802A (en) | 1987-08-17 |
Family
ID=12329961
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3139186A Pending JPS62187802A (en) | 1986-02-14 | 1986-02-14 | Beam splitter |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62187802A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0217701U (en) * | 1988-07-19 | 1990-02-06 | ||
| US5973835A (en) * | 1996-11-23 | 1999-10-26 | Industrial Technology Research Institute | Multilayer thin-film broad-band polarizing beam-splitter |
| JP2008015240A (en) * | 2006-07-06 | 2008-01-24 | Olympus Corp | Optical element, two-plate unit including this optical element, imaging device, and endoscope |
| JP2010250339A (en) * | 1999-02-04 | 2010-11-04 | Oerlikon Trading Ag Truebbach | Spectral selective optical splitter and recombination apparatus and method for manufacturing the same |
-
1986
- 1986-02-14 JP JP3139186A patent/JPS62187802A/en active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0217701U (en) * | 1988-07-19 | 1990-02-06 | ||
| US5973835A (en) * | 1996-11-23 | 1999-10-26 | Industrial Technology Research Institute | Multilayer thin-film broad-band polarizing beam-splitter |
| JP2010250339A (en) * | 1999-02-04 | 2010-11-04 | Oerlikon Trading Ag Truebbach | Spectral selective optical splitter and recombination apparatus and method for manufacturing the same |
| JP2008015240A (en) * | 2006-07-06 | 2008-01-24 | Olympus Corp | Optical element, two-plate unit including this optical element, imaging device, and endoscope |
| US8203787B2 (en) | 2006-07-06 | 2012-06-19 | Olympus Corporation | Optical device, two-plate unit, imaging instrument, and endoscope equipped with optical device |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4733926A (en) | Infrared polarizing beamsplitter | |
| US5850309A (en) | Mirror for high-intensity ultraviolet light beam | |
| US5071225A (en) | Beam splitter for producing a plurality of splitted light beams for each of wavelength components of an incident light beam | |
| US6310729B1 (en) | Dichroic mirror | |
| US4367921A (en) | Low polarization beam splitter | |
| US8817371B1 (en) | Polarizing beam splitters | |
| JPH05188202A (en) | Multilayer optical thin film | |
| CN109001849B (en) | Efficient antireflection film with wide wavelength range and optical system | |
| JPH11202127A (en) | Dichroic mirror | |
| JP3584257B2 (en) | Polarizing beam splitter | |
| JPH07111482B2 (en) | Multi-layer antireflection film | |
| JP2009192708A (en) | Beam splitter, single-lens reflex digital camera using the same, and autofocus video camera | |
| JPH052101A (en) | Optical component | |
| JP2566634B2 (en) | Multi-layer antireflection film | |
| JP3710664B2 (en) | Polarizing filter | |
| JPH0528361B2 (en) | ||
| JP3044359B2 (en) | Optical system with multilayer anti-reflection coating | |
| JPH08110406A (en) | Optical multilayer film | |
| JPS6028603A (en) | Prism type beam splitter | |
| JP2001350024A (en) | Polarizing beam splitter | |
| JPH05264802A (en) | Multilayered antireflection film | |
| TWI900452B (en) | Optical filter and matching composite layer thereof | |
| JP3113371B2 (en) | Multi-layer anti-reflective coating | |
| JPS6356605A (en) | Half-mirror | |
| US7289267B2 (en) | Polarizing beam splitter |