JPS62189483A - 半導体レ−ザ−による静電潜像形成装置 - Google Patents

半導体レ−ザ−による静電潜像形成装置

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JPS62189483A
JPS62189483A JP61031580A JP3158086A JPS62189483A JP S62189483 A JPS62189483 A JP S62189483A JP 61031580 A JP61031580 A JP 61031580A JP 3158086 A JP3158086 A JP 3158086A JP S62189483 A JPS62189483 A JP S62189483A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、画像信号で1!調された半導体レーザー光に
よって、感光体表面に静電潜像を形成する装置に関し、
詳しくは、温度補償回路を備えた装置の改良に関する。
本発明の静電潜像形成vt置は、静電潜像をトナーで現
−して用紙上に転写する、いわゆる電子写真プロセスの
複写機、プリンタ等に利用される。
[従来の技術] 原稿像を露光走査等して1qた画像信号によってレーザ
ー光を変調し、該変調したレーザー光を感光体に照射し
て静電潜像を形成する装置であって、温度補償回路を備
えた装置が提供されている。
第3図は、半導体レーザーのP−1(光出力−順電流)
特性を示すグラフである。
図示のように該P−I特性は、環境温度に応じて定まる
1!m植を境界値として、急激に立上がる特性を示す。
換8ずれば、前記P−I特性は、潟度に応じてI軸方向
に平行移動する。したがって、温度変化によって光出力
は大きく変動し、画像情報に対する外乱となる。
これを補償するため、第4図図示のような温度補償(A
PC)回路が考案されている。
その原理は、発光している半導体レーザーL。
Dの光出力レベルを、フォトダイオードP、Dで検出し
てAPC部にフィードバックし、半導体レーザーL、D
の光出力レベルが一定となるように、信号?!!流1s
wにバイアス電流Ibaf重畳するというものである。
第5図は、上記原理を説明する図である。
図において、光出力レベルpsは、静II潜像の形成さ
れるべき感光体の感度に対応するレベルである。即ち、
該レベルps以上のレーザー光が感光体に入射すると、
該入射点の電位は、トナーによる現像(トナーの吸引及
び付着)が可能なレベルまで低下する。逆に、該レベル
Ps以下であれば、感光体での電位低下の程度は、トナ
ー付着には不十分なレベルである。
いま、図のようにpl  (Pl >Ps )を光出力
のオンレベル(入射点の電位を、トナー付着可能レベル
まで低下させる光出力レベル)として採用する。
スイッチング電流(画像信号に応じてレーザー光を変調
するm流)のオン時の電流値を■SWとすルト、温度1
0℃では、前記オンレベル光出力P1を得るために、 11G −1sw+ Iba  ・(1)の大きさのm
流を必要とする。
同様に、温度25℃では、 125−1sw+ rba−−−・(2)また、温度5
0℃では、 I50−1sw+ Iba” −−−−(3)をそれぞ
れ必要とする。
換言すれば、温度10℃ではIbaの大きさの電流を、
温度25℃ではIba−の大きさの電流を、また、温度
50℃ではIha−′の大きさの電流を、それぞれバイ
アス電流としてスイッチング電流IaWに彊畳すること
により、温度変動にかかわらず、一定のオンレベル光出
力P1を得ることができる。
上記第4図に示す回路は、かかる原理に基づくものであ
る。
[1発明が解決しようとする問題点] 上記回路において、スイッチング電流オフ時(I sw
−0)の光出力レベルPOは、PO〜0 ・・・(4) である。即ち、スイッチング電流オフ時においても、光
出力レベルは完全にはOとならず、弱い光出力が発生し
ている。これは、上記バイアス電流(10℃:Iba、
25℃:Jba−,50℃:fba″)に起因するもの
である。
かかる弱い光出力POは、 PO<Ps  ・・・(5) であり、光出力のオフレベル領域(入射点の電位を、ト
ナー付着可能レベルまで低下させない先出。
力レベルの範囲)にある。
しかし、光出力のオンレベル領域、あるいは、オフレベ
ル領域とは、正確には、確率的な表現であり、オフレベ
ル領域においてもトナーの付着が、レベル幀に応じた小
さな確率で発生プる。
このため、該小さな確率で発生するトナーの付着によっ
て、再現画像上の本来白色であるべき領域にも若干量の
トナーが一様に付着し、いわゆる「かぶり」と呼ばれる
現象が発生する また、複写機の待機状態あるいはイニシャライズ時等に
おいて、感光体の特定領域が、前記弱い光出力に照射さ
れ続け、光疲労をまねく。
本発明は、かかる事情に鑑み案出されたものであり、温
度補償用のバイアス電流I流に起因する「かぶり」現象
を、該バイアス電流の存在下においても防止することが
できるとともに、前記光疲労を防止できる装置の提供を
目的とする。
[問題点を解決するための手段] 本発明は、バイアス電流ではなく、光出力のバイアス成
分(バイアス成分流によって発生する光出力)を低減す
ることによって、前記「かぶり」現象等を抑制するもの
である。
即ち、本発明は、 画像信号によって変調された信号成分とパイアス成分と
からなるレーザー光を発光する半導体レーザーと、 前記レーザー光を伝送して、感光体の表面に結像させる
光学系と、 前記レーザー光の伝送経路に設置され、レーザー光の強
度を低下させる光強度低下手段と、を有することを特徴
とする半導体レーザーによる静電潜像形成装置である。
上記において、光強度低下手段は、半導体レーザーと感
光体との間に設置する。即ち、レーザー光強度の低下は
、電流(a(バイアス電流値)を低下させるのではなく
、レーザー光自体を低下させることによって実現する。
光強度低下手段としては、反射率の低い反射鏡、波長依
存性なく光強度を一様に低下し得るニュートラルデンシ
ティフィルタ等を用いることができる。
また、低下させる程度は、20〜60%が実用的である
[作用] 第2図は、P−I特性の立上がり部(第3図参照)の拡
大図であり、光強度を低下させることにより、オンレベ
ル光出力P1は低下させることなく、オフレベル光出力
POのみを低下させ得る原理を説明する図である。
図において、Aは光強度を低下させない場合(従来)を
示し、Bは光強度を一様に低下さゼた場合(本発明)を
示す。
図示のように、八ではオンレベル光出力P1をA1  
<+3、Pl ”)点にて、また、オフレベル光出力P
OをAO(il、PO)点にてそれぞれ得ている。一方
、8ではオンレベル光出力P1を81(+4、PI)点
にて、また、オフレベル光出力PO′はBO(+2、P
O)点にてそれぞれ得ている。即ち、オンレベル光出力
をAとBとで等しくした場合において、オフレベル光出
力は、A>B (PO>PG −)とすることができる
[実施P/4] 以下、木発圓を図示する具体的な実施例に即して説明す
る。
第1図は、本実施例の静電潜像形成装置の構成を模式的
に示す斜視図である。
図示のように、本実施例装置は、画像信号によって変調
される半導体レーザー1と、該半導体レーザー1から出
射した光を平行光とするコリメータレンズ2と、高速で
回転しつつ該コリメータレンズ2から出射した平行光を
反射するポリゴンミラー3と、該ポリゴンミラー3から
の反射光を収束するf・θレンズ4と、該f・θレンズ
4からの出射光を反射して感光体ドラム5の表面に結像
させる折返しミラー6とからなる。なお、半導体レーザ
ー1の駆動回路としては、従来と同様に第4図に示す回
路を用いた。
上記構成において、半導体レーザー1と、コリメータレ
ンズ2と、ポリゴンミラー3と、f・θレンズ4と、感
光体ドラム5としては、従来と同様のものを用いている
しかし、折返しミラー6としては、反射率30%のもの
を用いている。なお、従来用いられていた折返しミラー
の反射率は90%以上であった。
上記実il1例によると、スイッチングTi流1 sw
のオフ時において、オフレベル光出力のレベルを従来よ
りも低減できる(第2図参照)。具体的には感光体の初
期表面電位VO−500V、現像バイアス電圧VB−4
00Vとしたとき、従来では、80Vの電圧降下があり
、vOは420Vとなったのに対し、本件発明の反射率
30%のミラーを用いた場合は初期表面電位はVO−4
80Vであり、現像バイアス電位に対し、かぶりマージ
ンを大きくとることができ、このため、「かぶり」現象
を有効に防止することができた。
また本実施例装置を搭載した複写機において、待機状態
あるいはイニシャライズ時等に、バイアス成分によって
感光体が照射され続けることもなくなり、感光体の光疲
労を防止でき、寿命を延長できた。
また、上記実施例では、光強度低下手段を、従来より装
置コンパクト化のため用いられている折返しミラーの反
射率を低減することで実現している。したがって、部品
数の増加もない。
なお、」:記実施例において、オンレベル光出力を従来
と同一レベルP1に保つため、バイアス電流を、11か
ら12に増加させている。換言ずれば、スイッチング電
流(SWは、変化していない。
これは、スイッチング時の立上がり特性を変化させない
ためである。したがって、スイッチング時の立」二がり
特性に影響しない場合は、バイアス電流は、変化させず
に、スイッチング電流を増加させてもよい。
また、上記実施例出は、SOSセンサの配置位置につい
ては言及されていないが、該センサは、光出力レベルを
低下させる以前の位置に配置するのが、望ましい。
なお、上記実施例ではバイアス電流を温度補償回路出力
によって制御される場合を示しているが、この他生導体
レーザのスイッチング特性を向上させるためのバイアス
電流分であっても同様である。
[効果] 以上、要するに本発明は、半導体レーザー1からの光を
感光体5に結像させる以前に、その強度を低下させる静
74潜微形成装置である。
実施例に詳述したように、本発明によると、バイアス電
流を減少させることなく、オフレベル時の光出力を低下
させることができる。したがって、温度補償回路に影響
を与えることなく、「かぶり」現象、あるいは、感光体
の光疲労を低減できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本実施例の静電潜像形成装置の構成を模式的
に示す斜視図である。第2図は、P−I(先出カー順m
流)特性の立上がり部の拡大図であり、光強度を低下さ
せることにより、オンレベル光出力P1は低下させるこ
となく、オフレベル光出力POのみを低下させ得る原理
を説明する図である。第3図は、半導体レーザーのP−
1特性を示すグラフである。第4図は、温度補償回路を
有プる半導体レーザーの駆動回路図である。w15図は
、駆動電流の成分と光出力との関係を説明する図である

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)画像信号によって変調された信号成分とバイアス
    成分とからなるレーザー光を発光する半導体レーザーと
    、 前記レーザー光を伝送して、感光体の表面に結像させる
    光学系と、 前記レーザー光の伝送経路に設置され、レーザー光の強
    度を低下させる光強度低下手段と、を有することを特徴
    とする半導体レーザーによる静電潜像形成装置。
  2. (2)前記特許請求の範囲第1項において、前記光学系
    は、前記光強度低下手段として機能する低反射率の反射
    鏡を有する半導体レーザーによる静電潜像形成装置。
  3. (3)前記特許請求の範囲第1項において、前記光強度
    低下手段は、レーザー光の強度を一様に低下させるニュ
    ートラルデンシティフィルタである半導体レーザーによ
    る静電潜像形成装置。
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