JPS62189732A - 半導体ウエハ用洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 足業上辺主皿ｌ立 本発明は、半導体装置の製造過程において半導体ウェハ
（以下小にウェハと称する）の洗浄工程で利用される半
導体ウェハ用洗浄装置に係り、特にウェハが収納された
ウェハキャリアを搭載したキャリアハンガーに対して洗
浄液をかける洗浄液放出手段を備えたものに関する。

従未久仮玉 例えば半導体装置の製造過程において、ウェハに所定の
デバイスを種々な工程を経て順次形成させる際、各デバ
イス形成工程のそれぞれの間にウェハを洗浄する工程を
介在させている。ウェハの洗浄工程では、適数枚のウェ
ハをウェハキャリアに収納した状態で、薬液−純水一薬
液一純水・・・といった具合に薬液槽および純水槽に交
互に浸漬させる方式がとられる。このような方式では、
複数個のウェハキャリアを一度に各洗浄槽に浸漬させる
ため、例えば第３図に示すようなキャリアハンガー５に
前記ウェハキャリアを搭載させて、これを適宜なハンガ
ー移送機でもって前記各洗浄槽に順次移送させて浸漬さ
せていくのが一般的である。

洗浄工程の流れを説明する。まず、キャリアハンガー５
の取手部５１をハンガー移送機のチャック機構で保持し
て、薬液槽内に浸漬させてウェハを薬液洗浄する。薬液
槽では薬液を約８０℃に恒温して気泡を発生させること
でウェハを洗浄させるのが能率的でもあり一般的でもあ
る。この後、再びキャリアハンガー５の取手部５１を前
記チャック機構で保持して薬液槽から取り出す。これを
ハンガー移送機でもって純水槽がある場所にまで移送さ
せてから、該純水槽にキャリアハンガー５を浸漬させて
、ウェハおよびキャリアハンガー５に付着している薬液
を洗い流す。

ところで、各洗浄槽内の洗浄液の量は、キャリアハンガ
ー５を洗浄槽へ浸漬させる際にチャック機構が前記洗浄
槽内の洗浄液に触れないように、キャリアハンガー５を
洗浄槽門番こ浸漬させた状態でキャリアハンガー５の取
手部５１が露出する程度にさせている。

■（′″゛　□占 しかしながら、薬液槽内において発生させている気泡が
薬液表面ではじけるため、キャリアハンガー５の取手部
５１およびその周辺に薬液が不意に付着してしまう。勿
論、上述したように、キャリアハンガー５およびウェハ
に付着している薬液は純水槽で洗い流すが、純水の量も
上記のように設定されζいるためにキャリアハンガー５
の取手部５１およびその周辺に不意に付着した薬液を洗
い流せない。このようにキャリアハンガー５に薬液が付
着していると、次に浸漬すべき薬液槽内の異なる薬液と
反応して、ウェハに形成しているデバイスに支障をきた
すおそれがあるので好ましくない。

そのため、純水の量を多くして前記薬液を洗い流すこと
が考えられるが、洗浄槽を大型にしなければならないと
共に、キャリアハンガー５の浸漬時にハンガー移送機の
チャック機構が純水に触れる９ととなり、チャック機構
が持つ微少な粉塵などが純水中に混入するから好ましく
ない。

このように、純水槽内の純水の量の設定に関して上記説
明したような相反する問題を生じる。

本発明は上記事情に鑑みて創案されたもので、チャック
機構が持つ微少な粉塵が純水中に混入されることなく、
キャリアハンガーの取手部およびその周辺に不意に付着
した薬液を簡単に洗い流すことができる半導体ウェハ用
洗浄装置を提供することを目的としている。

Ｕ朽占゛　゛るζめの−１ 本発明にかかる半導体ウェハ用洗浄装置は、半導体ウェ
ハが適数枚収納されたウェハキャリアを搭載したキャリ
アハンガーの上端側にある取手部をハンガー移送機のチ
ャック機構で保持して、種々な洗浄液を収納した複数の
洗浄槽に対して順次移送して浸漬させる半導体ウェハ用
洗浄装置であって、前記キャリアハンガーの取手部およ
びその周辺に対して洗浄液をかける洗浄液放出手段を前
記チャック機構に設けた構成にしている。

１刑 洗浄液放出手段から洗浄液を放出させると、キャリアハ
ンガーの取手部およびその周辺に対して前記洗浄液がか
かる。

１扇訓 以下図面を参照して本発明の一実施例について説明する
。第１図で例示している半導体ウェハ用洗浄装置におい
て、符号１はハンガー移送機を示しており、その下部に
はチャック機構２を備えている。ここで説明するハンガ
ー移送＃１１１は、例えば薬液および純水が別々に収納
された２つの洗浄槽３．４間においてキャリアハンガー
５（第３図参照）を移送させるようになっている。そし
て、ハンガー移送機ｌは、常時において洗浄槽３．４の
上方中間地点Ｐに位置し、破線で示すような径路に沿っ
て移動するように適宜に遠隔操作されるように構°成さ
れている。

さて、チャック機構２は第２図（ａ）および（ｂ）に示
すように、それぞれ平行に架設される操作環２１．２２
と、操作環２１．２２に固定されて連動する側面視略逆
さ凹状の可動片２３．２４とから構成されている。

このチャック機構２には、洗浄液を放出させる洗浄液放
出手段６が取りつけられている。前記の操作環２１．２
２はそれぞれの軸を中心として回動されるものであって
、矢印Ａ方向に回転させると可動片２３．２４を矢印Ｂ
方向に所定角度回動させることができる。可動片２３．
２４の各突き合わせ面には、両者を突き合わせた状態に
て逆さ凸状の開口が形成される切欠部２３ａ、２４ａを
有している（第２図（ｂｌ参照）。この切欠部２３ａ、
２４ａに、第３図に示すキャリアハンガー５の上端側に
ある取手部５１が保持されるのである。そして、洗浄液
放出手段６としては、本実施例において十字状のシャワ
ー配管を用いており、シャワー配管の洗浄液放出孔は下
方に開口しているので、下方に洗浄液が放出されるよう
になっている。即ち、洗浄液放出手段６は、丁度、キャ
リアハンガー５の取手部５１およびその周辺に洗浄液を
かけるようにチャック機構２に取りつけられている。

このような洗浄装置を用いてウェハを洗浄する手順につ
いて述べる。約２０〜３０枚のウェハ７が収納されたウ
ェハキャリア８をキャリアハンガー５に搭載する。キャ
リアハンガー５の取手部５１をチャック機構２でもって
保持して、矢印の如く径路に沿って薬液が入れられた洗
浄槽３に浸漬させてから、キャリアハンガー５をチャッ
ク機構２から解放する。このチャック機構２をハンガー
移送機１と共に上昇させて中間地点Ｐに戻す。この洗浄
槽３内では薬液を約８０℃に恒温して気泡を発生させる
ことでウェハ７を洗浄するため、どうしても、気泡が薬
液表面ではじけてキャリアハンガー５の取手部５１およ
びその周辺に不意に付着することは避けられない。

薬液洗浄を終えてから、キャリアハンガー５およびウェ
ハ７に付着している薬液を純水で洗い流すため、再びチ
ャック機構２でキャリアハンガー５の取手部５１を保持
して洗浄槽３から取り出し、ハンガー移送機１によって
キャリアハンガー５を破線で示す径路に沿って矢印の如
く移送させて純水を収納させた洗浄槽４（具体例を第４
図に示している）内に浸漬させる。こうしてから、キャ
リアハンガー５をチャック機構２から解放して、チャッ
ク機構２をキャリアハンガー５の上方で停止させておき
、洗浄液放出手段６から純水を放出して、キャリアハン
ガー５の取手部５１およびその周辺に不意に付着した薬
液を洗い流す。これと同時に、第４図に示すように洗浄
槽４内にて、その底面から純水を出し入れして、洗浄槽
４のフランジ部４１に純°水をオーバフローさせるよう
な方式でもって、キャリアハンガー５およびウェハ７に
付着している薬液を洗い流す。なお、第４図において洗
浄槽４のシャワー配管４２は、純水の出し入れ時にウェ
ハ７に純水をかけるものである。

このような手順により、薬液−純水→薬液−純水・・・
といった具合に繰り返して種々な薬液でもってウェハを
多数回にわたって洗浄させる。

なお、本発明は上記実施例で説明したチャック機構２に
限定されるものでなく、さらに洗浄液放出手段６もシャ
ワー配管だけに限定されないことは言うまでもない。

発訓久班来 本発明の半導体ウェハ用洗浄装置では、キャリアハンガ
ーの取手部およびその周辺に対して、チャック機構に設
けた洗浄液放出手段でもって洗ａＥ液をかけるように構
成している。このため、薬液が収納された洗浄槽から純
水が収納された洗浄槽にキャリアハンガーを移したとき
に、キャリアハンガ一本体およびウェハに付着している
薬液を洗い流すことは勿論、純水を収納している洗浄槽
を大型にせず、しかもチャック機構が持つ微少な粉塵を
純水中に混入させずにキャリアハンガーの取手部および
その周辺に不意に付着した薬液をも簡単に洗い流すよう
にできる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の洗浄装置を示す概略図、第
２図（ａ）は同洗浄装置のチャック機構の全体を示す斜
視図、第２図ｔｂ＋は同チャック機構に対する洗浄液放
出手段の取付状態を示す斜視説明図、第３図はキャリア
ハンガーを示す斜視図、第４図は純水が収納される洗浄
槽の具体例を示す図である。 １・・・ハンガー移送機 ２・・・チャック機構 ３．４・・・洗浄槽 ５・・・キャリアハンガー ５１・・・取手部 ６・・・洗浄液放出手段 ７・・・ウエハ ８・・・ウェハキャリア。 特許出願人　　　　ローム株式会社 代理人　弁理士　　大　西　孝　治 第１図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）半導体ウェハが適数枚収納されたウェハキャリア
   を搭載したキャリアハンガーの上端側にある取手部をハ
   ンガー移送機のチャック機構で保持して、種々な洗浄液
   を収納した複数の洗浄槽に対して順次移送して浸漬させ
   る半導体ウェハ用洗浄装置において、前記キャリアハン
   ガーの取手部およびその周辺に対して洗浄液をかける洗
   浄液放出手段を前記チャック機構に設けていることを特
   徴とする半導体ウェハ用洗浄装置。