JPS62193122A - パタ−ン位置合わせ方法 - Google Patents
パタ−ン位置合わせ方法Info
- Publication number
- JPS62193122A JPS62193122A JP61034225A JP3422586A JPS62193122A JP S62193122 A JPS62193122 A JP S62193122A JP 61034225 A JP61034225 A JP 61034225A JP 3422586 A JP3422586 A JP 3422586A JP S62193122 A JPS62193122 A JP S62193122A
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- JP
- Japan
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- pattern
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- pair
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- Granted
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ）産業上の利用分野
本発明はパターン位置合わせ方法に関し、特に一対の対
物レンズを用いて半導体装置を製造する際のパターンの
位置合わせ方法に関する。
物レンズを用いて半導体装置を製造する際のパターンの
位置合わせ方法に関する。
（ロ）従来の技術
半導体装置は年々集積度が増し、パターンの微細化が進
んでいる。従って半導体装置の製造装置にも変革が起っ
ており、光リングラフィ技術においてもコンタクト露光
方式から反射投影露光方式へと移行している。
んでいる。従って半導体装置の製造装置にも変革が起っ
ており、光リングラフィ技術においてもコンタクト露光
方式から反射投影露光方式へと移行している。
具体的に露光技術としては、工業調査会発行「最新ＬＳ
Ｉプロセス技術、第２６１頁〜第２６４頁に記載されて
いる如く、コンタクト露光方式、プロキシミティ露光方
式、反射型投影方式、縮小投影露光方式が知られており
、１：１の露光方法と５：１あるいは１０：１等の縮ノ
」１露光方法に大別される。
Ｉプロセス技術、第２６１頁〜第２６４頁に記載されて
いる如く、コンタクト露光方式、プロキシミティ露光方
式、反射型投影方式、縮小投影露光方式が知られており
、１：１の露光方法と５：１あるいは１０：１等の縮ノ
」１露光方法に大別される。
１：１の露光方法を採用するコンタクト露光方式、プロ
キシミティ露光方式あるいは反射型投影方式では、第４
図および第５図に示す如くマスクの左右に一対のキーパ
ターン（１１）（１２）を設け、各素子には夫々マニュ
アルアライメントマーク（１３）を設けている。第４図
はキーパターン（１１）（１２）を設けた位置を示す上
面図であり、ウェハの左右に離間してキーパターン（１
１）（１２）を設けている。第５図は第４図の左右のキ
ーパターン（１１）（１２）およびその周辺の各素子パ
ターン（１４）・・・（１４）の拡大図である。通常キ
ーパターン＜１１）（１２）は素子パターン〈１４）の
１個分を占有し、への字のターゲットマークで形成され
ている。各素子パターン（１４）・・・（１４）には各
素子を形成する上で必要なパターン（図示せず）と周辺
あるいはスクライブライン上にマニュアルアライメント
マーク（１３）が設けられている。
キシミティ露光方式あるいは反射型投影方式では、第４
図および第５図に示す如くマスクの左右に一対のキーパ
ターン（１１）（１２）を設け、各素子には夫々マニュ
アルアライメントマーク（１３）を設けている。第４図
はキーパターン（１１）（１２）を設けた位置を示す上
面図であり、ウェハの左右に離間してキーパターン（１
１）（１２）を設けている。第５図は第４図の左右のキ
ーパターン（１１）（１２）およびその周辺の各素子パ
ターン（１４）・・・（１４）の拡大図である。通常キ
ーパターン＜１１）（１２）は素子パターン〈１４）の
１個分を占有し、への字のターゲットマークで形成され
ている。各素子パターン（１４）・・・（１４）には各
素子を形成する上で必要なパターン（図示せず）と周辺
あるいはスクライブライン上にマニュアルアライメント
マーク（１３）が設けられている。
従来の露光方式ではキーパターン（１１）（１２）を用
いてマスクとウェハの位置合わせを自動的にマスク合わ
せ装置を用いて行い、続いて対物レンズを用いて各マニ
ュアルアライメントマーク（１３）を用いてオフセット
調整を行った後、露光をして各素子パターンを焼き付け
ている。このオフセット調整はマスクを作成する際に生
ずるキーパターン（１１）（１２）と各素子パターン（
１４）の誤差や製造中に生ずるウェハの歪による誤差を
手動で修正するものである。
いてマスクとウェハの位置合わせを自動的にマスク合わ
せ装置を用いて行い、続いて対物レンズを用いて各マニ
ュアルアライメントマーク（１３）を用いてオフセット
調整を行った後、露光をして各素子パターンを焼き付け
ている。このオフセット調整はマスクを作成する際に生
ずるキーパターン（１１）（１２）と各素子パターン（
１４）の誤差や製造中に生ずるウェハの歪による誤差を
手動で修正するものである。
（ハ）発明が解決しようとする問題点
しかしながら従来の露光方式ではマニュアルアライメン
トマークク１３）はキーパターン（１１）（１２）のへ
の字の頂点であるターゲットセンタＴＣの延長上に配置
される様に設定されていた。これはオフセット調整時に
一対の対物レンズを用いて左右のマニュアルアライメン
トマークク１３）を同時に見なから微調を行うためであ
る。一対の対物レンズは内側に同じ距離あるいは外側に
同じ距離だけ移動する機構を有しているので、ターゲッ
トセンタＴＣ上に位置すると左右のマニュアルアライメ
ントマーク（１３）を同時に捕えられるからである。
トマークク１３）はキーパターン（１１）（１２）のへ
の字の頂点であるターゲットセンタＴＣの延長上に配置
される様に設定されていた。これはオフセット調整時に
一対の対物レンズを用いて左右のマニュアルアライメン
トマークク１３）を同時に見なから微調を行うためであ
る。一対の対物レンズは内側に同じ距離あるいは外側に
同じ距離だけ移動する機構を有しているので、ターゲッ
トセンタＴＣ上に位置すると左右のマニュアルアライメ
ントマーク（１３）を同時に捕えられるからである。
ところがマニュアルアライメントマーク（１３）の位置
を固定すると極めてパターン設計に自由度を失う欠点が
ある。これを避ける意味でマニュアルアライメントマー
ク（１３）の位置を異ならせると、オフセット調整時に
一対の対物レンズで左右のマニュアルアライメントマー
ク（１３〉を同時に見ることができなくなり、オフセッ
ト調整に多大の時間を要し且つアライメント精度も低下
する欠点があった。
を固定すると極めてパターン設計に自由度を失う欠点が
ある。これを避ける意味でマニュアルアライメントマー
ク（１３）の位置を異ならせると、オフセット調整時に
一対の対物レンズで左右のマニュアルアライメントマー
ク（１３〉を同時に見ることができなくなり、オフセッ
ト調整に多大の時間を要し且つアライメント精度も低下
する欠点があった。
また同じターゲットセンタＴＣを複数工程で利用する場
合にはターゲットセンタＴＣの延長線上にマニュアルア
ライメントマーク（１３）を設ける場合１個のマニュア
ルアライメントマーク（１３） ｕか設けられず、複数
工程で夫々新しいマニュアルアライメントマーク（１３
）を利用できない欠点があった。
合にはターゲットセンタＴＣの延長線上にマニュアルア
ライメントマーク（１３）を設ける場合１個のマニュア
ルアライメントマーク（１３） ｕか設けられず、複数
工程で夫々新しいマニュアルアライメントマーク（１３
）を利用できない欠点があった。
（ニ）問題点を解決するための手段
本発明は斯上した欠点に鑑みてなきれ、マニュアルアラ
イメントマークをターゲットセンタＴＣより等距Ｓ＊間
して左右に設けることにより、マニュアルアライメント
マークを設けられる位置の任意性を増加させて設計の自
由度を持たせたパターン位置合わせ方法を提供するもの
である。
イメントマークをターゲットセンタＴＣより等距Ｓ＊間
して左右に設けることにより、マニュアルアライメント
マークを設けられる位置の任意性を増加させて設計の自
由度を持たせたパターン位置合わせ方法を提供するもの
である。
（ホ）作用
本発明に依れば、マニュアルアライメントマークをター
ゲットセンタＴＣより左右に等距離離して複数個設けて
いるので、キーパターンを用いてマスク合わせ装置で自
動的に位置合わせを行った後一対の対物レンズを左右に
動かしても同時にマニュアルアライメントマークを見る
ことができる。
ゲットセンタＴＣより左右に等距離離して複数個設けて
いるので、キーパターンを用いてマスク合わせ装置で自
動的に位置合わせを行った後一対の対物レンズを左右に
動かしても同時にマニュアルアライメントマークを見る
ことができる。
（へ）実施例
本発明に依るパターン位置合わせ方法を第１図及至第３
図を参照して詳述する。
図を参照して詳述する。
第１図に示す左右のパターンは、第２図に示したマスク
の左右に離間して設けられるキーパターン（１）（２）
およびその周辺の各素子パターン（図示せず）の拡大図
である。
の左右に離間して設けられるキーパターン（１）（２）
およびその周辺の各素子パターン（図示せず）の拡大図
である。
本発明に依る位置合わせ用マークはキーパターン（１）
（２）と マニュアルアライメントマーク（３）より構
成されている。キーパターン（１）（２）は第２図に示
す如く、左右に離間して設けられ、通常各キーパターン
（１）（２）は素子パターン（４）の１個分を占有して
形成される。キーパターン（１）（２）の形状はへの字
のターゲットマークで形成され、ウェハ上（７）への字
マークを位置させてマスク上の平行に離間した２つのハ
の字のターゲットマーク（図示せず）の中間に位置合わ
せを行う。キーバタ−ン（１）（２）には第１図では１
種しかないが、複数種のターゲットマーク（５）を有し
、ターゲットマークの頂点を結ぶ点線をターゲットセン
タＴＣと呼んでいる。従って各ターゲットマーク毎に異
なるターゲットセンタＴＣを有する。マニュアルアライ
メントマーク（３）・・・（３）は各素子パターン（４
）毎に設けられ、各素子パターン（４）の周辺あるいは
隣接したスクライブライン上に設けられる。マニュアル
アライメントマーク（３）・・・（３）は正方形又は長
方形状の枠内に種々の拡散やエツチング等のプロセス工
程に対応した指示マークを設けて形成される。
（２）と マニュアルアライメントマーク（３）より構
成されている。キーパターン（１）（２）は第２図に示
す如く、左右に離間して設けられ、通常各キーパターン
（１）（２）は素子パターン（４）の１個分を占有して
形成される。キーパターン（１）（２）の形状はへの字
のターゲットマークで形成され、ウェハ上（７）への字
マークを位置させてマスク上の平行に離間した２つのハ
の字のターゲットマーク（図示せず）の中間に位置合わ
せを行う。キーバタ−ン（１）（２）には第１図では１
種しかないが、複数種のターゲットマーク（５）を有し
、ターゲットマークの頂点を結ぶ点線をターゲットセン
タＴＣと呼んでいる。従って各ターゲットマーク毎に異
なるターゲットセンタＴＣを有する。マニュアルアライ
メントマーク（３）・・・（３）は各素子パターン（４
）毎に設けられ、各素子パターン（４）の周辺あるいは
隣接したスクライブライン上に設けられる。マニュアル
アライメントマーク（３）・・・（３）は正方形又は長
方形状の枠内に種々の拡散やエツチング等のプロセス工
程に対応した指示マークを設けて形成される。
本発明の特徴はキーパターン（１）（２）とマニュアル
アライメントマーク（３）・・・（３′）との位置関係
にある。即ちキーパターン（１）（２）のターゲットマ
ーク（５）のターゲットセンタＴＣから左右に等距離ａ
だけ離間して同一のマニュアルアライメントマーク（３
）（３’）を各素子パターン内あるいは隣接したスクラ
イブライン上に一対設けているのである。この関係を満
足するとき一対の対物レンズをターゲットセンタＴＣよ
り内側にａだけ移動すると、第１図の左側に示すキーパ
ターン（１）（ＩＩＩＪでは矢印の如く各素子バクーン
（４）の右側のマニュアルアライメントマーク（３゛）
を見ることができ、第１図の右側に示すキーパターン（
２）側では矢印の如く各素子パターン（４）の左側のマ
ニュアルアライメントマーク（３）を見ることができる
。逆に一対の対物レンズをターゲットセンタＴＣより外
側にａだけ移動すると、第１図の左側に示すキーパター
ン（１）側では矢印の如く各素子パターン（４）の左側
のマニュアルアライメントマーク（３）を見ることがで
き、第１図の右側に示すキーパターンク２〉側では矢印
の如く各素子パターン（４）の右側のマニュアルアライ
メントマーク（３゛）を見ることができる。後は一対の
対物レンズを内側あるいは外側に各素子パターン（４）
の横サイズだけ移動すれば隣接する各素子パターン（４
）のマニュアルアライメントマーク（３）・・・（３゛
〉を次々に一対の対物レンズを用いて同時に見ることが
できる。
アライメントマーク（３）・・・（３′）との位置関係
にある。即ちキーパターン（１）（２）のターゲットマ
ーク（５）のターゲットセンタＴＣから左右に等距離ａ
だけ離間して同一のマニュアルアライメントマーク（３
）（３’）を各素子パターン内あるいは隣接したスクラ
イブライン上に一対設けているのである。この関係を満
足するとき一対の対物レンズをターゲットセンタＴＣよ
り内側にａだけ移動すると、第１図の左側に示すキーパ
ターン（１）（ＩＩＩＪでは矢印の如く各素子バクーン
（４）の右側のマニュアルアライメントマーク（３゛）
を見ることができ、第１図の右側に示すキーパターン（
２）側では矢印の如く各素子パターン（４）の左側のマ
ニュアルアライメントマーク（３）を見ることができる
。逆に一対の対物レンズをターゲットセンタＴＣより外
側にａだけ移動すると、第１図の左側に示すキーパター
ン（１）側では矢印の如く各素子パターン（４）の左側
のマニュアルアライメントマーク（３）を見ることがで
き、第１図の右側に示すキーパターンク２〉側では矢印
の如く各素子パターン（４）の右側のマニュアルアライ
メントマーク（３゛）を見ることができる。後は一対の
対物レンズを内側あるいは外側に各素子パターン（４）
の横サイズだけ移動すれば隣接する各素子パターン（４
）のマニュアルアライメントマーク（３）・・・（３゛
〉を次々に一対の対物レンズを用いて同時に見ることが
できる。
次に第３図に本発明の他の実施例を示す。木実施例は１
つのターゲットセンタＴＣに対して複数のターゲットマ
ーク （５）（５’）を設けこれに対応して複数組のマ
ニュアルアライメントマーク（３）・・・（３’ ）（
６）・・・（６゛）を設けるものである。内側に設けた
ターゲットセンタＴＣより距Ｍａだけ左右に離間したタ
ーゲットマーク（５）に対応した第１組の一対の同一の
マニュアルアライメントマーク＜３＞（３゛）と外側に
設けたターゲットセンタＴＣより距離すだけ左右に離間
したターゲットマーク（５′）に対応した第２組の一対
の同一のマニュアルアライメントマーク（６）（６’）
とで形成されている８本実施例では１つのターゲットセ
ンタＴＣに対して複数組のマニュアルアライメントマー
ク（３）（３’ ）（６）＜６’ ）を全く任意の位置
に設けることが可能となり、同一ターゲットセンタＴＣ
を用いても各工程で新しいマニュアルアライメントマー
ク（３）（３’ ）（６）（６’ ）を利用でき、マニ
ュアルアライメントマーク（３）（３’）（６）（６’
）が見易くなる。しかも複数組のマニュアルアライメン
トマーク（３）（３’）（ｓ）（６′）は前述した実施
例と同様にして一対の対物レンズで同時に見ることがで
きる。
つのターゲットセンタＴＣに対して複数のターゲットマ
ーク （５）（５’）を設けこれに対応して複数組のマ
ニュアルアライメントマーク（３）・・・（３’ ）（
６）・・・（６゛）を設けるものである。内側に設けた
ターゲットセンタＴＣより距Ｍａだけ左右に離間したタ
ーゲットマーク（５）に対応した第１組の一対の同一の
マニュアルアライメントマーク＜３＞（３゛）と外側に
設けたターゲットセンタＴＣより距離すだけ左右に離間
したターゲットマーク（５′）に対応した第２組の一対
の同一のマニュアルアライメントマーク（６）（６’）
とで形成されている８本実施例では１つのターゲットセ
ンタＴＣに対して複数組のマニュアルアライメントマー
ク（３）（３’ ）（６）＜６’ ）を全く任意の位置
に設けることが可能となり、同一ターゲットセンタＴＣ
を用いても各工程で新しいマニュアルアライメントマー
ク（３）（３’ ）（６）（６’ ）を利用でき、マニ
ュアルアライメントマーク（３）（３’）（６）（６’
）が見易くなる。しかも複数組のマニュアルアライメン
トマーク（３）（３’）（ｓ）（６′）は前述した実施
例と同様にして一対の対物レンズで同時に見ることがで
きる。
本発明に依れば、キーパターン（１）（２）を用いて機
械的に自動位置合わせを行った後、一対の対物レンズを
用いてオフセット調整を行う。このオフセット調整では
ターゲットセンタＴＣよりａ又はｂだけ左右に離れた位
置にマニュアルアライメントマーク（３）・・・（３’
）（６）・・・（６゛）を設けているので、一対の対物
レンズを外側又は内側に移動しても必ず両視野に同時に
同一のマニュアルアライメントマーク（３）・・・（３
’）（６）・・・（６′）を見ることができる。
械的に自動位置合わせを行った後、一対の対物レンズを
用いてオフセット調整を行う。このオフセット調整では
ターゲットセンタＴＣよりａ又はｂだけ左右に離れた位
置にマニュアルアライメントマーク（３）・・・（３’
）（６）・・・（６゛）を設けているので、一対の対物
レンズを外側又は内側に移動しても必ず両視野に同時に
同一のマニュアルアライメントマーク（３）・・・（３
’）（６）・・・（６′）を見ることができる。
（ト）発明の効果
本発明に依れば、マニュアルアライメントマーク（３）
・・・（３′）を従来のターゲットセンタＴＣの延長上
以外にも設定でき、更にターゲットセンタＴＣより左右
に等距離だけ離間して同一のマニュアルアライメントマ
ーク（３）・・・（３′）を設けるのみで良く、マニュ
アルアライメントマーク（３）・・・（３゛）の位置を
選択でき、パターン設計の自由度を大巾に向上できる。
・・・（３′）を従来のターゲットセンタＴＣの延長上
以外にも設定でき、更にターゲットセンタＴＣより左右
に等距離だけ離間して同一のマニュアルアライメントマ
ーク（３）・・・（３′）を設けるのみで良く、マニュ
アルアライメントマーク（３）・・・（３゛）の位置を
選択でき、パターン設計の自由度を大巾に向上できる。
また本発明に依ればターゲットセンタＴＣの位置が任意
であり、種々の位置にターゲットマーク（５）を設ける
ことができる。従って本発明は従来のキーパターン（１
）（２）を用いても良く、既存のキーパターン（１）（
２）がそのまま使用できる利点がある。
であり、種々の位置にターゲットマーク（５）を設ける
ことができる。従って本発明は従来のキーパターン（１
）（２）を用いても良く、既存のキーパターン（１）（
２）がそのまま使用できる利点がある。
次に本発明ではマニュアルアライメントマーク（３）・
・・（３′）の位置を変更しても従来と全く同じ様に一
対の対物レンズの両視野に同時にマニュアルアライメン
トマーク（３）・・・（３゛）を見ながらオフセット調
整が行なえ、オフセット調整の時間の短縮を図れ、アラ
イメント精度も向上できる。
・・（３′）の位置を変更しても従来と全く同じ様に一
対の対物レンズの両視野に同時にマニュアルアライメン
トマーク（３）・・・（３゛）を見ながらオフセット調
整が行なえ、オフセット調整の時間の短縮を図れ、アラ
イメント精度も向上できる。
更に本発明では１つのターゲットセンタＴＣに対して複
数組のマニュアルアライメントマーク（３）（３’）（
６）（６’）を設けられるので、複数工程でのターゲッ
トセンタＴＣを共通にしても各工程で新たなマニュアル
アライメントマーク（３）（３’ ）（６）（６′）を
用いることができ、マニュアルアライメントマーク（３
）（３’ ）（６）（６’ ）が見易くアライメント精
度を向上できる。
数組のマニュアルアライメントマーク（３）（３’）（
６）（６’）を設けられるので、複数工程でのターゲッ
トセンタＴＣを共通にしても各工程で新たなマニュアル
アライメントマーク（３）（３’ ）（６）（６′）を
用いることができ、マニュアルアライメントマーク（３
）（３’ ）（６）（６’ ）が見易くアライメント精
度を向上できる。
第１図は本発明のパターン位置合わせ方法を説明する上
面図、第２図は本発明に用いたキーパターンの位置を説
明する上面図、第３図は本発明の他の実施例を説明する
上面図、第４図は従来のキーパターンの位置を説明する
上面図、第５図は従来のパターン位置合わせ方法を説明
する上面図である。 （１）（２）はキーパターン、（３）（３’ ＞（６）
＜６’ ）はマニュアルアライメントマーク、（４）は
素子パターン、（５）はターゲットマークである。 出願人 三洋電機株式会社 外１名 代理人 弁理士 佐 野 静 末 弟１図 第３図 第４図 第５図
面図、第２図は本発明に用いたキーパターンの位置を説
明する上面図、第３図は本発明の他の実施例を説明する
上面図、第４図は従来のキーパターンの位置を説明する
上面図、第５図は従来のパターン位置合わせ方法を説明
する上面図である。 （１）（２）はキーパターン、（３）（３’ ＞（６）
＜６’ ）はマニュアルアライメントマーク、（４）は
素子パターン、（５）はターゲットマークである。 出願人 三洋電機株式会社 外１名 代理人 弁理士 佐 野 静 末 弟１図 第３図 第４図 第５図
Claims (1)
- （１）キーパターンと各素子毎に設けたマニュアルアラ
イメントマークとを有するマスクを用いて前記キーパタ
ーンで自動位置合わせを行った後に一対の対物レンズを
用いて左右のマニュアルアライメントマークを用いてオ
フセット調整を行うパターン位置合わせにおいて、前記
キーパターンのターゲットマークの中心線より等距離離
間した左右の位置に複数個の前記マニュアルアライメン
トマークを設け、前記一対の対物レンズで前記マニュア
ルアライメントマークを同時に見てオフセット調整を行
うことを特徴とするパターン位置合わせ方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61034225A JPS62193122A (ja) | 1986-02-19 | 1986-02-19 | パタ−ン位置合わせ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61034225A JPS62193122A (ja) | 1986-02-19 | 1986-02-19 | パタ−ン位置合わせ方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62193122A true JPS62193122A (ja) | 1987-08-25 |
| JPH0222531B2 JPH0222531B2 (ja) | 1990-05-18 |
Family
ID=12408202
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61034225A Granted JPS62193122A (ja) | 1986-02-19 | 1986-02-19 | パタ−ン位置合わせ方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62193122A (ja) |
-
1986
- 1986-02-19 JP JP61034225A patent/JPS62193122A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0222531B2 (ja) | 1990-05-18 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |