JPS62199337A - 平板状物体の保持装置 - Google Patents
平板状物体の保持装置Info
- Publication number
- JPS62199337A JPS62199337A JP4370486A JP4370486A JPS62199337A JP S62199337 A JPS62199337 A JP S62199337A JP 4370486 A JP4370486 A JP 4370486A JP 4370486 A JP4370486 A JP 4370486A JP S62199337 A JPS62199337 A JP S62199337A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- holes
- vacuum box
- suction
- vacuum
- suction ports
- Prior art date
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- Automatic Assembly (AREA)
- Feeding Of Workpieces (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は上面が平面状の物体(以下平面状物体と示す。
)を吸着して保持するための装置に関する。
(従来の技術)
工場等において壁パネルや薄形箱体のような平面状物体
を保持、搬送する装置としては、例えば実公昭52−3
1493号公報に示すような壁パネルの製造装置が提案
されている。このような平面状物体の吸着物体の吸着手
段としては、その−例として第5図に示すように、倒椀
状のバキュームカップのごとき吸着体1を平面状物体2
の平らな上面に当て、その内部の空気をブロア、真空ポ
ンプ、エセクタ等のような真空発生源3を用いて吸引す
ることにより、吸着体1の開口下端部へ平面状物体2を
吸着保持し、この状態で吸着体ごと平面状物体を運搬す
る方法が取られていた。
を保持、搬送する装置としては、例えば実公昭52−3
1493号公報に示すような壁パネルの製造装置が提案
されている。このような平面状物体の吸着物体の吸着手
段としては、その−例として第5図に示すように、倒椀
状のバキュームカップのごとき吸着体1を平面状物体2
の平らな上面に当て、その内部の空気をブロア、真空ポ
ンプ、エセクタ等のような真空発生源3を用いて吸引す
ることにより、吸着体1の開口下端部へ平面状物体2を
吸着保持し、この状態で吸着体ごと平面状物体を運搬す
る方法が取られていた。
しかしながら、このような方法においては、同一の形状
およびサイズの多くの平面状物体を保持および搬送する
場合は、なんら問題なく能率的に行なうことができるが
、形状およびサイズの異なる多種類の物体を吸着して搬
送する場合には、種類毎の段取替に時間がかかりこれが
生産性低下の一因となっていた。
およびサイズの多くの平面状物体を保持および搬送する
場合は、なんら問題なく能率的に行なうことができるが
、形状およびサイズの異なる多種類の物体を吸着して搬
送する場合には、種類毎の段取替に時間がかかりこれが
生産性低下の一因となっていた。
すなわち、吸着体1の数を多くするばかりでなくそれぞ
れに弁を取り付け、これらの弁をその都度開閉する方法
や、平面状物体のサイズ等に合わせて吸着体の当てる位
置を換える方法等が行なわれているが、いずれの方法に
おいても弁の開閉や位置換えに、いわゆる段取替に時間
がかかっていた。
れに弁を取り付け、これらの弁をその都度開閉する方法
や、平面状物体のサイズ等に合わせて吸着体の当てる位
置を換える方法等が行なわれているが、いずれの方法に
おいても弁の開閉や位置換えに、いわゆる段取替に時間
がかかっていた。
(発明が解決しようとする問題点)
このように従来の装置では段取替に時間がかかり、最近
の多品種生産方式における保持装置として適さないとい
う問題があった。
の多品種生産方式における保持装置として適さないとい
う問題があった。
そこで本発明は、このような問題を解決するためになさ
れたもので、物体の形状や大ぎさが変わっても変更を加
えることなくそのまま使用することができる平面状物体
の保持装置を提供することを目的とする。
れたもので、物体の形状や大ぎさが変わっても変更を加
えることなくそのまま使用することができる平面状物体
の保持装置を提供することを目的とする。
(問題点を解決するための手段)
本発明の平板状物体の保持装置は、真空発生源に接続さ
れた底面に多数の小径の吸引孔の穿設された真空箱と、
この真空箱の吸引孔に対応さけて該孔より大径の吸着口
が穿設され、前記真空箱の底面に吸引孔と対応させて設
けられたシール板とからなることにより、形状や大きざ
の異なる多種類の平面状物体をそのまま吸着して保持す
ることができるようにしたものである。
れた底面に多数の小径の吸引孔の穿設された真空箱と、
この真空箱の吸引孔に対応さけて該孔より大径の吸着口
が穿設され、前記真空箱の底面に吸引孔と対応させて設
けられたシール板とからなることにより、形状や大きざ
の異なる多種類の平面状物体をそのまま吸着して保持す
ることができるようにしたものである。
(作用)
本発明の平板状物体の保持装置においては、シール板の
多数の吸着口が平面状物体の上面に接触し、平面状物体
を吸着保持する。そしてこれと接触しない吸着口があっ
ても、これに対応する真空箱の小径の吸引孔から洩れ入
る空気は、真空発生源の強い空気吸引力により圧損バラ
ンスが保たれ、真空箱内部は充分高い真空度に保たれる
。
多数の吸着口が平面状物体の上面に接触し、平面状物体
を吸着保持する。そしてこれと接触しない吸着口があっ
ても、これに対応する真空箱の小径の吸引孔から洩れ入
る空気は、真空発生源の強い空気吸引力により圧損バラ
ンスが保たれ、真空箱内部は充分高い真空度に保たれる
。
従って平面状物体はシール板の前記非接吸着口以外の吸
着口に充分な吸引力で吸着保持されることになる。
着口に充分な吸引力で吸着保持されることになる。
(実施例)
以下本発明を図面に示す実施例について説明する。
第1図は本発明の平板状物体の保持搬送装置の一実施例
を示す要部断面図である。
を示す要部断面図である。
図において、符号4は縦1400mm、横3100mm
の矩形の底面を有する薄い箱形の真空箱を示し、その底
面5全体には多数の小径の吸引孔6が互いに等しい短い
間隔をおいてそれぞれ配設されている。
の矩形の底面を有する薄い箱形の真空箱を示し、その底
面5全体には多数の小径の吸引孔6が互いに等しい短い
間隔をおいてそれぞれ配設されている。
これらの吸引孔6は、直径が5Tl111程度の円形の
形状を有しており、約60+nm間隔で並んでいる。
形状を有しており、約60+nm間隔で並んでいる。
この吸引孔6に対応させて、真空箱4の底面5には吸引
孔6より大径の吸着ロアが穿設されている発泡ウレタン
ゴムのようなシール材8が貼着されて一体化した構造を
なしている。この吸着ロアは直径4!onTIl程度の
円形状に形成され吸引口6と同心的になるように構成さ
れている。シール材8の厚みとしては10〜20mm程
度のものが好ましい。
孔6より大径の吸着ロアが穿設されている発泡ウレタン
ゴムのようなシール材8が貼着されて一体化した構造を
なしている。この吸着ロアは直径4!onTIl程度の
円形状に形成され吸引口6と同心的になるように構成さ
れている。シール材8の厚みとしては10〜20mm程
度のものが好ましい。
また前記吸引孔6により外部と連通された真空箱4の内
部は、真空ポンプ、□ブロアー等のような強力な真空発
生源3に連結されている。真空発生源3の能力としては
、風ff145m’/min、 、静圧500m1水柱
程度のものが用いられる。
部は、真空ポンプ、□ブロアー等のような強力な真空発
生源3に連結されている。真空発生源3の能力としては
、風ff145m’/min、 、静圧500m1水柱
程度のものが用いられる。
このような構造の実施例の装置を用いて種々の大きざの
平面状物体2を吸着ロアに吸着させ搬送させたところ、
最大で縦1400n+v+ 、横3100mmのものか
ら最小で縦300能、横300romのもの(いずれも
15Illv厚で1Tn2当りの重さが20kqのもの
)までの平面状物体2を装置になんら変更を加えること
なく保持搬送することができた。
平面状物体2を吸着ロアに吸着させ搬送させたところ、
最大で縦1400n+v+ 、横3100mmのものか
ら最小で縦300能、横300romのもの(いずれも
15Illv厚で1Tn2当りの重さが20kqのもの
)までの平面状物体2を装置になんら変更を加えること
なく保持搬送することができた。
以上の実施例では吸着ロアの吸引孔6が常に開口してい
る構造の例を示したが、次に吸引孔6の変形例を開示す
る。
る構造の例を示したが、次に吸引孔6の変形例を開示す
る。
第2図(a>は、吸引孔6に長脚の弁棒10を有する弁
9を装着したもので、通常は弁9が落下していて吸引孔
6を閉塞している。そして第2図(b)に示すように弁
9の弁棒10の下端が平面状物体2の上面に接触すると
弁棒10が上昇し、弁9が弁棒10ごと上に持ち上げら
れて開口し、吸引孔6から内部の空気が吸引されるよう
に構成されでいる。
9を装着したもので、通常は弁9が落下していて吸引孔
6を閉塞している。そして第2図(b)に示すように弁
9の弁棒10の下端が平面状物体2の上面に接触すると
弁棒10が上昇し、弁9が弁棒10ごと上に持ち上げら
れて開口し、吸引孔6から内部の空気が吸引されるよう
に構成されでいる。
第3図は、弁9を枢着した例を示すもので、同様の作用
を有するものである。
を有するものである。
また第4図に示すように吸引孔6に軟質プラスチック等
のパイプ11を嵌着した構造とすることもできる。この
ような@造にした場合は、平面状物体2を吸着していな
い吸引孔6が、これに嵌着されたパイプ11がその内部
を通る空気の大きな流速でつぶされるために、径がせば
められる。従って、吸引孔6から洩れ入る空気の量を茗
しく少なくし、ここからの圧ノ月員失を小さくすること
ができるという利点がある。
のパイプ11を嵌着した構造とすることもできる。この
ような@造にした場合は、平面状物体2を吸着していな
い吸引孔6が、これに嵌着されたパイプ11がその内部
を通る空気の大きな流速でつぶされるために、径がせば
められる。従って、吸引孔6から洩れ入る空気の量を茗
しく少なくし、ここからの圧ノ月員失を小さくすること
ができるという利点がある。
(発明の効果)
以上の説明から明らかなように、本発明の装置によれば
、段取替等の操作を必要とせず、多種類の平面状物体を
吸着し保持することができる。
、段取替等の操作を必要とせず、多種類の平面状物体を
吸着し保持することができる。
第1図は本発明の平板状物体の保持装置の一実施例の要
部断面図、第2図および第4図はそれぞれ別の吸引孔の
実施例の要部を示す断面図、第5図は従来の保持搬送方
法を示す断面図である。 3・・・・・・・・・真空発生源 4・・・・・・・・・真空箱 6・・・・・・・・・吸引孔 7・・・・・・・・・吸着口 8・・・・・・・・・シール材 出願人 積水化学工業株式会社第1図 第2図 第3図 第5図 手続補正書く方式) 1、事件の表示 昭和61年 特許願第 43704号 2、発明の名称 平板状物体の保持装置 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 郵便番号 530 住 所 大阪市北区西天満二丁目4番4号4、補正命令
の日付 昭和61年5月27日(発送日) 5、補正の対象 6、補正の内容 (1)明細書の第7頁第10行に、 「第2図および第4図」とあるのを、 「第2図、第3図および第4図」に補正する。 以上
部断面図、第2図および第4図はそれぞれ別の吸引孔の
実施例の要部を示す断面図、第5図は従来の保持搬送方
法を示す断面図である。 3・・・・・・・・・真空発生源 4・・・・・・・・・真空箱 6・・・・・・・・・吸引孔 7・・・・・・・・・吸着口 8・・・・・・・・・シール材 出願人 積水化学工業株式会社第1図 第2図 第3図 第5図 手続補正書く方式) 1、事件の表示 昭和61年 特許願第 43704号 2、発明の名称 平板状物体の保持装置 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 郵便番号 530 住 所 大阪市北区西天満二丁目4番4号4、補正命令
の日付 昭和61年5月27日(発送日) 5、補正の対象 6、補正の内容 (1)明細書の第7頁第10行に、 「第2図および第4図」とあるのを、 「第2図、第3図および第4図」に補正する。 以上
Claims (1)
- (1)真空発生源に接続された底面に多数の小径の吸引
孔の穿設された真空箱と、この真空箱の吸引孔に対応さ
せて該孔より大径の吸着口が穿設され、前記真空箱の底
面に吸引孔と対応させて設けられたシール板とからなる
ことを特徴とする平板状物体の保持装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4370486A JPS62199337A (ja) | 1986-02-27 | 1986-02-27 | 平板状物体の保持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4370486A JPS62199337A (ja) | 1986-02-27 | 1986-02-27 | 平板状物体の保持装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62199337A true JPS62199337A (ja) | 1987-09-03 |
Family
ID=12671203
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4370486A Pending JPS62199337A (ja) | 1986-02-27 | 1986-02-27 | 平板状物体の保持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62199337A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01221283A (ja) * | 1988-02-29 | 1989-09-04 | Mitsubishi Electric Corp | 画像記録装置 |
| US6631935B1 (en) * | 2000-08-04 | 2003-10-14 | Tru-Si Technologies, Inc. | Detection and handling of semiconductor wafer and wafer-like objects |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4869251A (ja) * | 1971-12-23 | 1973-09-20 | ||
| JPS4953567A (ja) * | 1972-09-27 | 1974-05-24 | ||
| JPS5032650A (ja) * | 1973-07-27 | 1975-03-29 | ||
| JPS5020080B1 (ja) * | 1970-12-30 | 1975-07-11 |
-
1986
- 1986-02-27 JP JP4370486A patent/JPS62199337A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5020080B1 (ja) * | 1970-12-30 | 1975-07-11 | ||
| JPS4869251A (ja) * | 1971-12-23 | 1973-09-20 | ||
| JPS4953567A (ja) * | 1972-09-27 | 1974-05-24 | ||
| JPS5032650A (ja) * | 1973-07-27 | 1975-03-29 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01221283A (ja) * | 1988-02-29 | 1989-09-04 | Mitsubishi Electric Corp | 画像記録装置 |
| US6631935B1 (en) * | 2000-08-04 | 2003-10-14 | Tru-Si Technologies, Inc. | Detection and handling of semiconductor wafer and wafer-like objects |
| US6688662B2 (en) | 2000-08-04 | 2004-02-10 | Tru-Si Technologies, Inc. | Detection and handling of semiconductor wafers and wafer-like objects |
| US7104579B2 (en) | 2000-08-04 | 2006-09-12 | Tru-Si Technologies Inc. | Detection and handling of semiconductor wafers and wafer-like objects |
| US7144056B2 (en) | 2000-08-04 | 2006-12-05 | Tru-Si Technologies, Inc. | Detection and handling of semiconductor wafers and wafers-like objects |
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