JPS62202304A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の技術分野］ 本発明は磁気ヘッドの製造方法に係り、特に小型の磁気
記録再生装置用として好適な磁気ヘッドの製造方法にＰ
Ａ′７ｊる。

［発明の技術的背景とその問題点］ 近年ビデオテープレコーダなどの磁気記録再生装置の小
型化、高性能化に伴い、記録密度もより高いものが要求
されている。この要求に対応する磁気ヘッドも狭トラツ
ク、高飽和磁束密度を有するものが従来から種々提案さ
れている。例えば第１０図に示すようにフェライトより
なる１対の磁気コアＩａ、　ｌｂのギャップ対向面２ａ
、　２ｂ及びカラス充填溝３ａ、　３ｂの表面にスパッ
タリングなどの真空薄膜形成技術により、センダスト、
アモルファスなどの強磁性金属膜４ａ、　４ｂを形成す
る。そしてこれらの半コアｌａ、　ｉｂを非磁性薄膜を
介して突き合わせ磁気ギャップ５を形成し、溶融ガラス
６ａ、６ｂにより接合接着して磁気ヘッドを構成したも
のがある。しかしながらこの構造の磁気ヘッドでは、強
磁性金属１１１４ａ、　４ｂと半コアｌａ、ｌｂとのそ
れぞれの境界面７ａ、　７ｂが疑似ギャップとして動き
、再生出力信号へ悪影響を及ぼす。この問題を解決する
ため第１１図及び第１２図、第１３図に示すように、前
記境界面８ａ乃至８ｄ、９ａ、　９ｂ及び１０ａ、　１
０ｂがそれぞれギャップ５に対し非平行になるように形
成された磁気ヘッドが提案されている。

ところで、完成後の磁気ヘッドはより小型化のために、
基板となるフェライトウェハの形状は薄板化される傾向
にある。このため第１４図に示すように半コアｌａ、１
ｂの素材でめるフェライトウェハ１１の平面度は強磁性
金属膜形成用溝１２の加工による影響を受けやすく、加
工後に溝加工面１３が凹状となる反りωが発生する。ざ
らに前記溝１２の加工後に強磁性金属膜４を形成するた
め、フェライトと膜材料との熱膨張係数の差により膜形
成後の冷却によってウェハが応力を受け、反りωはざら
に大きくなる。またこのときに溝１２の内面以外のギャ
ップ対向面１４上にも強磁性金属膜４が付着するため、
反りωに対して一層大きな影響を及ぼす。

この場合、強磁性金属膜４は通常プラズマ中で形成され
るために温度上昇は避けられず、フェライトウェハ１１
の反りωを矯正して他のガラスベースなどの平面上に貼
り付けるような方法を採ることができない。その後フェ
ライトウェハ１１は余分な強磁性金属１１！４を除去す
ると同時に、上述した反りを除去するために、通常アル
ミナ粉などによって両面ラッピング加工される。しかし
この場合第１５図に示ずように、ラッピング加工性の差
により溝加工面１３のみ反りωが除去され、無加工面１
５は反りωが殆んど除去されない。このことはラッピン
グ加工中のフェライトウェハ１１への荷重を増大して反
りを矯正することによって防げるが、形成された強磁性
金属膜４に影＠を及ぼし、剥離などの発生の原因となる
ので好ましくない。この結果、第１６図に示すようにフ
ェライトウェハｌｌａ、１１ｂはギャップ接合時に加圧
Ｐを増大しても、ウェハ１１の長ざ方向全域に亘って不
均一なギャップ１６を形成しやすい。このためギャップ
接合接着前にフェライトウェハ１１を他のガラスベース
などの平面上に反り矯正しながら貼り付け、その後片面
ラッピング加工などを追加して両面が平行に仕上がるよ
うにしなければならず、工程が増加し加工処理単位を減
少しなければならないという問題があった。

また前述した通り、第１７図に示すように強磁性金属膜
４は本来形成されるべきフェライトウェハ１１の溝１２
の内面のみならずギャップ対向面１４にも形成されてし
まう。このため第１８図に示すように強磁性金属膜４が
フェライトウェハ１１の全体の反り以外に個々の溝１２
の内面のフェライトウェハ１１にも影響を及ぼし、結果
的にはフェライトウェハ１１内にクラック１７を発生さ
せるという問題もあった。この原因は前述したようにラ
ッピング加工によってギャップ対向面１４部分の強磁性
金ｆｆ１ｌｌ！Ｉ４が除去されるために、それまで釣り
合っていた金属膜４内部の応力のバランスがくずれて境
界面近傍のフェライトウェハ１１の耐性がなくなるため
である。このクラック１７か発生すると、後工程の機械
加工時に強磁性金属１１１４は殆んどの場合剥離してし
まい、歩留りを低下させる結果となる。

［発明の目的］ 本発明は上述した点に鑑みてなされたものでおり、少な
い工数で歩留りよくフェライトウェハ全長にわたって均
一なギャップを形成することのできる磁気ヘッドの製造
方法を提供することを目的とする。

［発明の概要］ 本発明は強磁性醸化物からなる１対の磁気コア半体のギ
ャップ溝底面がギャップ対向面に対し非平行になるよう
にイオンビームエツチング加工によりギャップ溝を形成
する工程と、このギャップ溝内に強磁性金属膜を薄膜形
成加工により形成する工程と、これらの１対の磁気コア
半体を突き合せて磁気ギャップを形成する工程とにより
磁気ヘッドを製造し、均一なギャップを形成できるよう
にしたものである。

［発明の実施例］ 以下、本発明に係る磁気ヘッドの製造方法の一実施例を
図面を参照して説明する。

第１図乃至第８図に本発明の一実施例による製造工程を
示す。これらの図において第１０図乃至第１６図に示す
従来例と同一または同等部分には同一符号を付して示す
。まず、第１図に示すようにフェライトウェハ基板１１
にメタルマスク１８を被覆し密着固定する。このメタル
マスク１８には磁気ヘッド完成後の記録再生トラック幅
にほぼ等しい幅のスリット窓１８ａが形成されている。

この場合、フェライトウェハ１１の表面はできるだけ表
面粗さを小さく仕上げておくことが望ましく、このこと
によりメタルマスク１８をフェライトウェハ１１に密着
させることができる。そして後述するイオンビームエツ
チング及びスパッタリングの両工程においてビームが前
記フェライトウェハ１１とメタルマスク１８との間にま
わり込んで、スリット１８ａより大きい範囲に衝突する
ことを防止できる。またメタルマスク１８はチタニウム
合金などのイオンビームに対してエツチングレートの極
めて小ざい材質で形成されてあり、第２図に示すように
スリット１８ａのフェライトウェハ１１に密着する面側
の幅は図示せぬ磁気ヘッドトラック幅ＴＷにほぼ等しく
なっている。スリット１８ａの抜は角度θとメタルマス
ク１８の厚さｔとは、メタルマスク１８に斜め方向から
入射したイオンビームＩｂを妨げ、フェライトウェハ１
１上の一部に影となる部分Ｓをつくる。

このことはイオンビームＩｂにより形成されるギャップ
溝の底面形状に大きく影響する。このためスリット１８
ａの扱は角度θとメタルマスク１８の厚ざｔとは前記底
面の曲率ができる限り小ざくなるように選定する必要が
ある。この手段としては例えば第３図に示すように真空
装置内でフェライトウェハ１１を首振り運動体１９の表
面に固定した状態でイオンビームエツチングすることに
より、相対的にイオンビームＩｂの入射角度を連続的に
変化させる。この結果、第４図に示すように中央か僅か
に浅くなった底面形状のギャップ溝２０が形成される。

次にメタルマスク１８で被覆されたままのフェライトウ
ェハ１１に垂直方向よりスパッタリングなどの薄膜形成
手段によりギャップ溝２０にセンダスト、アモルファス
などの高飽和磁束密度を有する強磁性金属膜２１を堆積
させる。そして第５図に示すようにメタルマスク１８を
取り除くことによってギャップ溝２０内にのみ強磁性金
属膜２１を形成する。最後に第６図に示すようにトラッ
ク幅規制用ガラス充填溝２２ａ、２２ｂ　、コイル巻装
窓用溝２３を従来通り形成し、フェライトウェハｌｌａ
、ｌｌｂのギャップ対向面を＠面加工したのち、高温炉
内にてガラス２４を溶融充填することによって両ウェハ
１１ａ。

ｔｉｂを接合接着する。このことによって磁気ギャップ
５を形成し、所望のアジマス角度で切断して第７図及び
第８図に示す磁気へラドコアを完成する。

本実施例によれば、強磁性金属１２１を形成するための
ギャップ溝２０を形成したのちのフェライトウェハ１１
基板内に残留する応力を、従来の機械加工によって形成
した場合と比較して十分に小さくできる。従って、この
応力を原因とするフェライトウェハ１１の反りを発生さ
せない加工が可能となる。また前記強磁性金属膜２１の
形成はメタルマスク１８で被覆して行なわれるため、ギ
ャップ溝２０以外のフェライトウェハ１１のギャップ対
向面１４には強磁性金属膜２１が付着しない。このため
センダスト、アモルファスなどの強磁性金属とフェライ
トとの熱膨張係数の差による応力は小ざくなり、フェラ
イトウェハ１１への応力の影響を軽減できる。

この結果、従来例に見られるようなフェライトウェハ１
１の反りを小さくすることができ、一定の厚さに仕上げ
ることができる。そしてギャップ接合接着時にギャップ
長全長にわたって厚さを一定にすることが容易になる。

また従来はフェライトウェハ１１のごく限られた一部に
しか形成できなかった強磁性金属膜を、首振り運動をさ
せることにより広範囲に形成させることができるため１
対のフェライトウェハ１１からとれる磁気へラドチップ
の収率を向上させることができる。ざらにまた従来は強
磁性金属膜４を形成したのちフェライトウェハ１１の両
面ラッピングなどの工程が必要でおったが、形成する金
属膜２１の厚さをギャップ溝２０の深さと一致するよう
に制御すれば、ギャップ接合接着前のギャップ対向面１
４の鏡面加工以外にラッピングなどの加工をする必要が
なくなり、゛工数を削滅することができる。またこの結
果フェライトコア１１の表面に発生するクラックを抑え
ることができ、強磁性金属膜２１の剥離が防止できて磁
気へラドチップの歩留りを増大させることができる。

本実施例ではフェライトコア１１とメタルマスク１８の
密着度をよくするためにフェライトコア１１の表面粗さ
をできる限り小さくする場合につい℃説明したが、第９
図に示すようにフェライトウェハ１１の表面に必らかし
めフォトレジスト２５を塗布してあくことにより同様の
効果を得ることもできる。

［発明の効果］ 上述したように本発明によれば、フェライトウェハに対
しイオンビームエツチングを行なって、底面形状がギャ
ップ対向面と非平行になるようなギャップ溝を形成し、
次にギャップ溝にのみ強磁性金属膜を薄膜形成加工によ
り形成するようにしたので、少ない工数で歩留りよくフ
ェライトウェハ全長にわたって均一なギャップを形成す
ることができる。

【図面の簡単な説明】 第１図乃至第６図は本発明に係る磁気ヘッドの製造方法
の一実施例による製造工程を示す図であり、第１図及び
第６図は斜視図、第２図乃至第５図は正面図、第７図は
本実施例により製造された磁気へラドチップの斜視図。 第８図は第７図の要部拡大平面図、第９図は本発明の他
の実施例を示す正面図、第１０図乃至第１３図はそれぞ
れ従来の磁気ヘッドチップを示す斜視図、第１４図乃至
第１８図は従来の磁気ヘッドチップの製造工程における
問題点を示す図で第１４図及び１５図は斜視図、第１６
図乃至第１８図は正面図である。 ｌａ、ｌｂ・・・磁気コア　２ａ、　２ｂ、　１４・・
・ギャップ対向面４ａ、　４ｂ、　２１・・・強磁性金
属膜５・・・磁気ギャップ　１２．２０・・・ギャップ
溝１８・・・メタルマスク　１８ａ・・・スリット窓代
理人　弁理士　則　近　憲　右 同　　宇治　弘 第１図 第２図 ｌｂ 第３図 第６図 第７図 第８図 第１１図 第１２図 第１３図 第１４図 り 第１５図 第１６図

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）強磁性酸化物からなる１対の磁気コア半体のギャ
   ップ溝底面がギャップ対向面に対し非平行になるように
   イオンビームエッチング加工によりギャップ溝を形成す
   る工程と、このギャップ溝内に強磁性金属膜を薄膜形成
   加工により形成する工程と、これらの１対の磁気コア半
   体を突き合せて磁気ギャップを形成する工程とを具備し
   たことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
2. （２）特許請求の範囲第１項において、イオンビームエ
   ッチング加工はスリット窓が形成されたメタルマスクを
   介して磁気コア半体を首振り運動させながら行なうこと
   を特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
3. （３）特許請求の範囲第１項または第２項において強磁
   性金属膜の形成はメタルマスクを介して行なうことを特
   徴とする磁気ヘッドの製造方法。