JPS6220343A

JPS6220343A - ウエハ位置決め装置

Info

Publication number: JPS6220343A
Application number: JP15811585A
Authority: JP
Inventors: Naoto Nakajima; 直人中島; Tetsuzo Tanimoto; 谷本　哲三
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1985-07-19
Filing date: 1985-07-19
Publication date: 1987-01-28

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔発明の利用分野〕本発明はウェハ位置決め装置に係り、特に、高集積度の
半導体集積回路の製造装置に好適な′ウェハ位置決め装
置に関する。

〔発明の背景〕

ＬＳＩなどの半導体集積回路は、ウェハと呼ばパれる切
り欠き（これをオリＪ−ンプ゛−ションフラ゛ットと言
い、以下、オリフラと略す）を有する゛円板状の基板上
に作られる。ウェハ露光装置す）の゛ような半導体集積
回路の製造装置では、まず、゛ウェハを外周を基準に位
置決めする必要があり１（従来は、特開昭５Ｏ−２ｉ６
Ｂ２号公報に記載のよりな′ウェハ外周に機械的に接触
し゛（オリフラを検出゛１２、位置決めする装置が用い
られていた。この・装置では、機械的ブよ接触に伴い、
ウェハの欠け・や異物が発生する可能性が高く、特に高
集積１８ｉ１３の半ｉｐｊ体集績回路では、歩止り低丁
の大きな原因の一つどなっていた。これに対して、特開
昭。

５７−ｊ８０１４１号公報に示されるようなウェハ外周
。

に非接触で位置決めな行５ウェハ位置決め装置。

が考案された。この装置によれば、ウェハ外周、。

の位置を光学的に検出し、その結果に基いてつ゛エバを
移動させ位置決めするので、上記異物発′生に伴う歩止
り低下の問題は解決できるものである。しかるに、この
ウェハ位置決め装置では゛、オリフラの向きを検出する
ため、ウェハを回転５させる必要があり、ウェハ位置決
めに時間を要。

した。さらに、このウェハの回転は、オリフラ゛の向き
によらずウェハの中心を位置決めするこ゛とが必要な場
合にも不可避であった。　　　　。

〔発明の目的］　　　　　　　　　　　　　　　１０本
発明の目的は、ウェハ外周に非接触でかつ゛、オリフラ
の向きによらず、ウェハを回転せずに・一定位置に位置
決めすることが可能なウェハ位・置決め装置を提供する
ことにある。

〔発明の概要〕１５オリフラがなげれば、２方向からウニノーの工。

ソジ位置を検出することで外周に非接触に位置。

決めすることが可能である。本発明は、１検出。

方向に対して２個の７オトセンサ（検出手段）。

をオリフラ部の角度（約４０°）よりも広い角度。。

に配置して設けることにより、−万の７オトセンサ視野
にオリフラ部が向いた場合にも、他方のフォトセンサに
よりウニノ・の円周部を検出することを特徴とするもの
である。

〔発明の実施例〕

以下、本発明の一実施例を第１〜第６図を用゛いて説明
する。

本実施例は、ウェハチャック２、Ｘｙステージ″６、搬
送アーム６、フォトセンサ７ａ、ｂ　〜１０ａ、ｂ　’
および制御回路１１．１４より構成されている。よ１０
り詳しく説明すると、ウニノ・チャック２は、上・而に
ウニノ・１を真空吸着することが可能であり・、かつ、
ｘｙステージ３上に固定されており、サー・ボアンプ１
３．１６およびモータ４，５によりｘｙ平面・内の位置
を制御可能な構成としている。さらに１−搬送アーム６
は昇降および揺動が可能であり、。

その先端はウェハ１を真空吸着することが可能。

な構成となっている。その上で、ウニノ・チャン。

り２の周囲には、投光器７ａ〜１０ａおよび受光器　。

７ｂ〜１０ｂより成る４ＷＡの７オトセンサが設げられ
、。

・　３　・ている。この４個のフォトセンサは、検出範囲゛（φ１
ａｍ）内にあるウェハの面積に比例した出力。

を発生するもので、ｙ軸を中心として挾み角θ５−４５
°の角度に２個、同じくｙ軸を中心とし。

て挾み角θ５−４５°の角度に残り２＠が配置され５て
いる。このフォトセンサの出力は、選択回路。

１２．１５およびサーボアンプ１３．１６より成る制御
゛回路１１．１４の伝達される構成である。　　　　続
いて、本実施例の動作について説明する。。

まず、ウェハ１は外部の搬送経路（図省略）よ】０り搬
送アーム６によりウニノ・チャック２上へ搬。

込され真空吸着される。この状態で、サーポア・ンプ１
３．Ｉ６の目標値をフォトセンサ検出視野の・５０％を
ウェハ１が遮蔽している場合の出力値と。

して、制御系１１．１４を作動させる。選択回路１２１
し１５は、それぞれ、受光器７ｂ８ｂ１　または、９ｂ
１０ｂ。

のうち高い万の出力値をサーボアンプ１３．１６へ。

伝達する。したがって、フォトセンサ検出視野。

以外にオリフラが位置している場合は無論のこ。

と、第２図に示すように、フォトセンサ検出視。。

・　４　・野の１つ（８ａ）にオリフラが向いていたとしても、他
方（７ａ）の出力により制御回路１４はｘｙステージ゛
３を移動させ、ウェハ１を所定位置に位置決めすること
ができる。また、オリフラ部の角度θｏｆは約４０°と
、フォトセンサの挾み角θ５＝４５°よ５り小さく、２
個のフォトセンサが同時にオリフ。

う部を検出することはない。（第３図）したが゛って、
本実施例によれば、ウェハ１を回転する″ことなく、か
つ、オリフラの向きによらず、つ・エバ１の回転中心０
を一定位置に位置決めする１０ことが可能である。

続いて、別の実施例について、第４図を用い。

て説明する。本実施例は、前述の実施例とは、・６　（
ｖＡのフォトセンサ２１〜２６と４個の選択回路２８−
Ｐ−３１，２個の差動アンプ３２．３３ならびに変換回
路１５３４より成る制御回路２７を備える点で異なって
い。

る。本実施例の動作は、まず、フォトセンサ２２゜２３
．２５．２６および選択回路２８，３０、差動アンプ３
２に。

より第３図中でｙ軸より反時計回りに３０″傾い。

た方向（Ｌｌ）のウェハ１７の偏りを求める。同様に。

、ノ第１・セン−ｖ２１．２２，２４．２５および選択
回路２９゜ろ１、差動アンゾ肩に、Ｌす■方向のウニノ
＼１７の偏りな求める。・二の１１．Ｖ２方向のつｆノ
飄の偏りを変換回路ろ４によりｘｙステージ１８の移動
量−に変換”Ｉ７てウェハ１７を所定位置に位置決めす
るもので゛ある。

さらに、斗：　：ｔ７１Ｓの実施例とは六なイ）実施例
を第゛５図に示す。本実施例は、８個のノ第１・セン″
す５９〜４６と制餌１回路４６を備える構ｈ、である。

その゛動作は、自明である。　　　　　　　　　　　　
１０また、前述のすべての実Ｍｕ例が、−１皮ウコーノ
・・を位置決めＩまた後、搬送系につ、１−ノ・な保持
させ−その間にｘｙステージを移動させ用度ウニノ・を
真。

空吸着するととで、ウニノ飄チャックにつ工ノーを５偏
心なく載置することがｉｊｌ能である。さらに、１゜制
御系は、前述の説明で示し、たようなアブログ、制御の
制御回路の他、マイク「１′７ンピユータの。

ような比較演遅処理が可能な１ｔ制御系でも可能で。

ル〕る。

〔発明の効果〕

＋−発明によれば、ウェハ外周に非接触でかつ、オリフ
ラの向きによらず、（７かも、ウェハを回転すること）
１：　＜位置決めすることができるので、つ丁ハの損１
易および異′吻の発生を抑え、集積回“路素子の歩留り
を自重・する効果がある他、位置ゝ決め時間を高速化す
る効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の構成な示す斜視゛図、第２
図は同じくウェハ位置決め状態を示す。平面図、第３図は同じく別のウェハ位置決め状１０態を
示す平面図、第４図は別の実施例な示゛ず平・面図、第
５図はさらに別の実施例を示ず”＋ｆ７−面図・である
。

Claims

【特許請求の範囲】

１、少なくとも２方向にウェハの位置を送り得る送り機
構と、ウェハを搬入、搬送する搬送機構と、ウェハチャ
ックと搬送機構の少なくともいずれか一方を昇降可能と
する機構より成るウェハ位置決め装置において、ウェハ
表面および外周に非接触で、かつ、ある特定の範囲内で
ウェハ外周の位置を検出する検出手段を、１方向につい
て２個の検出手段を１対としてウェハ中心に対して所定
の角度を成すように設け、さらに、この検出手段の対を
少なくとも２方向に対して、検出手段の総数が４個以上
となるようにして設けた上で、この検出手段の出力によ
り上記送り機構を制御する制御系を設けたことを特徴と
するウェハ位置決め装置。