JPS6221163A - 電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の技術分野］ この発明は、帯電特性、光感度特性及び耐環境性等が優
れた電子写真感光体に関する。

［発明の技術的青銅とその問題点コ 従来、電子写真感光体の先導Ｔ１層を形成する材料とし
て、ＣｄＳ、ＺｎＯ，Ｓｅ、５ｅ−Ｔｅ若しくはアモル
ファスシリコン等の無機材料又はポリ−Ｎ−ビニルカル
バゾール（ＰＶＣｚ）若しくはトリニトロフルオレン（
ＴＮＦ）等の有機材料が使用されている。しかしながら
、これらの従来の光導電性材料においては、光導電特性
上、又は製造上、種々の問題点があり、感光体システム
の特性をある程度犠牲にして使用目的に応じてこれらの
材料を使い分けている。

例えば、Ｓｅ及びＣｄＳは、人体に対して有害な材料で
あり、その製造に際しては、安全対策上、特別の配慮が
必要である。従って、製造装置が複雑となるため製造コ
ストが高いと共に、特に、Ｓｅは回収する必要があるた
め回収コストが付加されるという問題点がある。また、
Ｓｅ又は５ｅ−７ｅ系においては、結晶化温度が６５℃
と低いため、複写を繰り返している間に、残雪等により
光導電特性上の問題が生じ、このため、寿命が短いので
実用性が低い。

更に、ＺｎＯは、酸化還元が生じやすく、環境雰囲気の
影響を著しく受けるため、使用上、信頼性が低いという
問題点がある。

更にまた、ＰＶＣｚ及びＴＮＦ等の有機光導電性材料は
、発癌性物質である疑いが持たれており、人体の健康上
問題があるのに加え、有機材料は熱安定性及び耐摩耗性
が低く、寿命が短いという欠点がある。

一方、アモルファスシリコン（以下、ａ−５１と略す）
は、近時、光導電変換材料として注目されており、太陽
電池、薄膜トランジスタ及びイメージセンサへの応用が
活発になされている。このａ−８ｉの応用の一環として
、ａ−３ｉを電子写真感光体の光導電性材料として使用
する試みがなされており、ａ−３ｉを使用した感光体は
、無公害の材料であるから回収処理の必要がないこと、
他の材料に比して可視光領域で＾い分光感度を有するこ
と、表面ｌｉ！度が高く耐摩耗性及び耐ＷＪ撃性が優れ
ていること等の利点を有する。

このａ−８ｉは、カールソン方式に基づく感光体として
検討が進められているが、この場合に、感光体特性とし
て抵抗及び光感度が高いことが要求される、しかしなが
ら、この両特性を単一層の感光体で満足させることが困
難であるため、光導電層と導電性支持体との間に障壁層
を設け、光導電層上に表面電荷保持層を設けた積層型の
構造にすることにより、このような要求を満足させてい
る。

ところで、ａ−８ｔは、通常、シラン系ガスを使用した
グロー放電分解法により形成されるが、この際に、ａ−
８ｉｌｌ中に水素が取り込まれ、水素量の差により電気
的及び光学的特性が大きく変動する。即ち、ａ−８ｔｌ
ｌに侵入する水素の憬が多くなると、光学的バンドギャ
ップが大きくなり、ａ−８ｉの抵抗が高くなるが、それ
にともない、長波長光に対する光感度が低下してしまう
ので、例えば、半導体レーザを搭載したレーザビームプ
リンタに使用することが困難である。また、ａ　−８１
腹中の水素の含有量が多い場合は、成膜条件によって、
（ＳｆＨ２）ｎ及びＳ　ｉ　Ｈ２等の結合構造を有する
ものが膜中で大部分の領域を占める場合がある。そうす
ると、ボイドが増加し、シリコンダングリングボンドが
増加するため、光導電特性が劣化し、電子写真感光体と
して使用不能になる。逆に、ａ−８ｉ中に侵入する水素
の量が低下すると、光学的バンドギャップが小さくなり
、その抵抗が小さくなるが、長波長光に対する光感度が
増加する。しかし、水素含有量が少ないと、シリコンダ
ングリングボンドと結合してこれを減少させるべき水素
が少なくなる。このため、発生するキャリアの移動度が
低下し、寿命が短くなると共に、光導電特性が劣化して
しまい、電子写真感光体として使用し難いものとなる。

なお、長波長光に対する感度を高める技術として、シラ
ン系ガスとゲルマンＧｅＨ４とを混合し、グロー放電分
解することにより、光学的バンドギャップが狭い膜を生
成するものがあるが、一般に、シラン系ガスとＧｅＨ４
とでは、最適基板温度が異なるため、生成した膜は構造
欠陥が多く、良好な光導電特性を得ることができない。

また、ＧｅＨ４の廃ガスは酸化されると有毒ガスとなる
ので、廃ガス処理も複雑である。従って、このような技
術は実用性がない。

［発明の目的］ この発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであって
、帯電能が優れており、残留電位が低く、近赤外領域ま
での広い波長領域に亘って感度が高く、基板との１１！
肴性が良く、耐環境性が優れた電子写真感光体を提供す
ることを目的とする。

［発明の概要］ この発明に保養電子写真感光体は、導電性支持体と、こ
のｓ′Ｒ性支持体の上に形成された電荷移動層と、この
電荷移動層の上に形成された電荷発生層と、を有する電
子写真感光体において、前記電荷発生層は、炭素、窒素
及び酸素から選択された少なくとも一種の元素を含有す
るマイクロクリスタリンシリコンで形成され１乃至１０
μｍの層厚を有し、前記電荷移動層は、炭素、窒素及び
酸素から選択された少なくとも一種の元素を含有するマ
イクロクリスタリンシリコンで形成され３乃至８０μｍ
の層厚を有することを特徴とする。

この発明は、前述の従来技術の欠点を解消し、優れた光
導電特性（電子写真特性）と耐環境性とを兼備した電子
写真感光体を開発すべく本願発明者等が種々実験研究を
重ねた結果、マイクロクリスタリンシリコン（以下、μ
Ｃ−８ｉと略す）を電子写真感光体の少なくとも一部に
使用することにより、この目的を達成することができる
ことに想到して、この発明を完成させたものである。

［発明の実施例］ 以下、この発明について具体的に説明する。この発明の
特徴は１、従来のａ−８ｉの替りにμＣ−８１を使用し
たことにある。つまり、光導電層の全ての領域又は一部
の領域がマイクロクリスタリンシリコン（μＣ−８ｉ　
）で形成されているか、マイクロクリスタリンシリコン
とアモルファスシリコン（ａ−８＋　’）との混合体で
形成されているか、又はマイクロクリスタリンシリコン
とアモルファスシリコンとの積層体で形成されている。

また、機能分離型の電子写真感光体においては、電荷発
生層にμＣ−８ｉを使用している。

μＣ−８ｉは、以下のような物性上の特徴により、ａ−
８ｉ及びポリクリスタリンシリコン（多結晶シリコン）
から明確に区別される。即ち、Ｘ線回折測定においては
、ａ−８ｉは、無定形であるため、ハローのみが現れ、
回折パターンを認めることができないが、μＣ−８ｉは
、２θが２７乃至２８．５°付近にある結晶回折パター
ンを示す。また、ポリクリスタリンシリコンは暗抵抗が
１０６Ω・Ｃ１１であるのに対し、μＣ−８ｉは１０１
１Ω・１以上の暗抵抗を有する。このμＣ−８ｉは粒径
が約数十オングストローム以上である微結晶が集合して
形成されている。

μＣ−８ｉとａ−８ｉとの混合体とは、μＣ−３ｉの結
晶領域がａ−８ｉ中に混在していて、μＣ−８ｉ及びａ
−３ｉが同程度の体積比で存在するものをいう。また、
μＣ−８ｉとａ−３ｉとの積層体とは、大部分がａ−８
ｉからなる層と、μＣ−８ｉが充填された層とが！！４
層されているものをいう。

このようなμＣ−８ｉを有する光導電層は、ａ−８ｉと
同様に、高周波グロー放電分解法により、シランガスを
原料として、導電性支持体上にμＣ−８ｉを堆積させる
ことにより製造することができる。この場合に、支持体
の温度をａ−５ｉを形成する場合よりも高く設定し、高
周波電力もａ　−８ｉの場合よりも高く設定すると、μ
Ｃ−５ｉを形成しやすくなる。また、支持体温度及び高
周波電力を高くすることにより、シランガスなどの原料
ガスの流量を増大させるこ′とができ、その結果、成膜
速度を早くすることができる。また、原料ガスのＳｉＨ
＋及、び５ｉｚＨ６等の高次のシランガスを水素で希釈
したガスを使用することにより、μＣ−Ｓ　＋を一層高
効率で形成することができる。

第１図は、この発明に係る電子写真感光体を製造する装
置を示す図である。ガスボンベ１，２゜３．４には、例
えば、夫々ＳｆＨ＋　、Ｂ２　Ｈａ　。

Ｈ２、ＣＨ４等の原・料ガスが収容されている。これら
のガスボンベ１．２．３．４内のガスは、流量調整用の
バルブ６及び配管７を介して混合器８に供給されるよう
になっている。各ボンベには、圧力計５が設置されてお
り、この圧力計５を監視しつつ、パルプ６を調整するこ
とにより、混合器８に供給する各原料ガスの流量及び混
合比を調節することができる。混合器８にて混合された
ガスは反応容器９に供給される。反応容器９の底部１１
には、回転軸１０が鉛直方向の回りに回転可能に取りつ
けられており、この回転軸１０の上端に、円板状の支持
台１２がその面を回転軸１０に垂直にして固定されてい
る。反応容器９内には、円筒状の電極１３がその軸中心
を回転軸１０の軸中心と一致させて底部１１上に設置さ
れている。

感光体のドラム基体１４が支持台１２上にその軸中心を
回転軸１０の軸中心と一致させて載置されており、この
ドラム基体１４の内側には、ドラム基体加熱用のヒータ
１５が配設されている。電極１３とドラム基体１４との
間には、高周波電源１６が接続されており、電極１３及
びドラム基体１４間に高周波電流が供給されるようにな
っている。回転軸１０はモータ１８により回転駆動され
る。反応容器９内の圧力は、圧力計１７により監視され
、反応容器９は、ゲートバルブ１８を介して真空ポンプ
等の適宜の排気手段に連結されている。

このように構成される装置により感光体を製造する場合
には、反応容器９内にドラム基体１４を設置した後、ゲ
ートバルブ１９を開にして反応容器９内を約０．１トル
（Ｔｏｒｒ）の圧力以下に排気する。次いで、ボンベ１
．２．３．４から所要の反応ガスを所定の混合比で混合
して反応容器９内に導入する。この場合に、反応容器９
内に導入するガス流量は、反応容器９内の圧力が０．１
乃至１トルになるように設定する。次いで、モータ１８
を作動させてドラム基体１４を回転させ、ヒータ１５に
よりドラム基体１４を一定温度に加熱すると共に、高周
波電源１６により電極１３とドラム基体１４との間に高
周波電流を供給して、両者間にグロー放電を形成する。

これにより、ドラム基体１４上にマイクロクリスタリン
シリコン（μＣ−８：）が堆積する。なお、原料ガス中
にＮ２０．ＮＨ３、ＮＯ２、Ｎ２　、ＣＨ４。

Ｃ２８４，０２ガス等を使用することにより、これらの
元素をμＣ−８ｉ中に含有させることができる。

このように、この発明に係る電子写真感光体は従来のａ
−３ｉを使用したものと同様に、クローズドシステムの
製造装置で製造することができるため、人体に対して安
全である。また、この電子写真感光体は、耐熱性、耐湿
性及び耐摩耗性が優れているため、長期に亘り繰り返し
使用しても劣化が少なく、寿命が長いという利点がある
。さらに、ＧｅＨ＋等の長波長増感用ガスが不要である
ので、廃ガス処理設備を設ける必要がなく、工業的生産
性が著しく高い。

μＣ−８ｉには、水素を０．１乃至３０原子％含有させ
ることが好ましい。これにより、暗抵抗と明抵抗とが調
和のとれたものになり、光導電特性が向上する。μＣ−
Ｓ　＋の光学的エネルギギャップＥａは、ａ−８ｉの光
学的エネルギギャップＥａ　（１，６５乃至１．７０８
Ｖ）に比較して小さい。つまり、μＣ−８ｉの光学的エ
ネルギギャップは、μＣ−Ｓ　＋微結晶の結晶粒径及び
結晶化度により変化し、結晶粒径及び結晶化度の増加に
より、その光学的エネルギギャップが低下して、結晶シ
リコンの光学的エネルギギャップ１．１ｅＶに近づく。

ところで、μｃ−ｓ　ｒ頃及びａ−３ｉ１１は、この光
学的エネルギギャップよりも大きなエネルギの光を吸収
し、小さなエネルギの光は透過する。このため、ａ−８
ｉは可視光エネルギしか吸収しないが、ａ−’３ｉより
光学的エネルギギャップが小さなμＣ−８ｉは、可視光
より長波長であってエネルギが小さな近赤外光までも吸
収することができる。従って、μＣ−Ｓ　＋は広い波長
領域に亘って高い光感度を有する。

このような特性を有するμＣ−８ｉは、半導体レーザを
光源に使用したレーザプリンタ用の感光体材料として好
適である。このａ−３ｉをレーザプリンタ用の感光体に
使用すると、半導体レーザの光波長が７９０ｎｍとａ−
８ｉが高感度である波長領域より長いため、感光体感度
が不十分になり、このため、半導体レーザの能力以上の
レーザ強度を感光体に印加する必要があって、実用上問
題がある。一方、μＣ−８ｉで感光体を形成した場合に
は、その高感度領域が近赤外領域にまでのびているので
、光感度特性が極めて優れた半導体レーザプリンタ用の
感光体を得ることができる。

このような優れた光感度特性を有するμＣ−３ｉの光導
電特性を一層向上させるために、μＣ−３ｉに水素を含
有させ８ことが好ましい。μＣ−８ｉｌへの水素のドー
ピングは、例えば、グロー放電分解法による場合は、Ｓ
ｉＨ＋及び５ｉ２Ｈｓ等のシラン系の原料ガスと、水素
等のキャリアガスとを反応容器内に導入してグロー放電
させるか、Ｓ　ｉ　Ｆ４及び５ｉＣＩ４等のハロゲン化
ケイ素と、水素ガスとの混合ガスを使用してもよいし、
また、シラン系ガスと、ハロゲン化ケイ素との混合ガス
で反応させてもよい。更に、グロー放電分解法によらず
、スパッタリング等の物理的な方法によってもμＣ−８
ｉ層を形成することができる。なお、μＣ−８ｉを含む
光導電層は、光導電特性上、１乃至８０ｕｍの膜厚を有
することが好ましく、更に膜厚を５乃至５０μｍにする
ことが望ましい。

光導電層は、実質的に全ての領域をμＣ−８ｉで形成し
てもよいし、ａ−８ｉとμＣ−５ｉとの混合体又は８ｉ
層体で形成してもよい。帯電能は、積層体の方が高く、
光感度は、その体積比にもよるが、赤外領域の長波長領
域では混合体の方が高く、可視光領域では両者はほとん
ど同一である。

このため、感光体の用途により、実質的に全ての領域を
μＣ−８ｉにするか、又は混合体若しくは積層体で構成
すればよい。

μＣ−８ｉに、窒素Ｎ、炭素Ｃ及び酸素Ｏがら選択され
た少なくとも１種の元素をドーピングすることが好まし
い。これにより、μＣ−８ｉの暗抵抗を高くして光導電
特性を高めることができる。

これらの元素はμＣ−８ｉの粒界に析出し、またシリコ
ンダングリングボンドのターミネータとして作用して、
バンド間の禁ｔｉｌｌ中に存在する状態密度を減少させ
、これにより、暗抵抗が高くなると考えられる。

導電性支持体と光導電層との間に、障壁層を配設するこ
とが好ましい。この障壁層は、導電性支持体と、光導電
層との間の電荷の流れを抑制することにより、光導電性
部材の表面における電荷の保持機能を高め、光導電性部
材の帯電能を高める。

カールソン方式においては、感光体表面に正帯電させる
場合には、支持体側から光導電層へ電子が注入されるこ
とを防止するために、障壁層をｐ型にする。一方、感光
体表面に負帯電させる場合には、支持体側から光導電層
へ正孔が注入されることを防止するために、障壁層をｎ
型にする。また、障壁層として、絶縁性の膜を支持体の
上に形成することも可能である。障壁層はμＣ−８ｉを
使用して形成してもよいし、ａ−３ｉを使用して障壁層
を構成することも可能である。

μＣ−８ｉ及びａ−５ｉをｐ型にするためには、周期律
表の第■族に属する元素、例えば、ホウ素Ｂ、アルミニ
ウムＡＩ、ガリウムＧａ、インジウムｌｎ、及びタリウ
ムＴＩ等をドーピングすることが好ましく、μＣ−８ｉ
層をｎ型にするためには、周期律表の第Ｖ族に属する元
素、例えば、窒素Ｎ１リンＰ１ヒ素ＡＳ、アンチモンＳ
ｂ１及びビスマス８１等をドーピングすることが好まし
い。

このｎ型不純物又はｎ型不純物のドーピングにより、支
持体側から光導電層へ電荷が移動することが防止される
。

光導電層の上に表面層を設けることが好ましい。

光導電層のμＣ−８ｉは、その屈折率が３乃至４と比較
的大きいため、表面での光反射が起きやすい。このよう
な光反射が生じると、光導電層に吸収される光量の割合
いが低下し、光損失が大きくなる。このため、表面層を
設けて反射を防止することが好ましい。また、表面層を
設けることにより、光導電層が損傷から保護される。さ
らに、表面層を形成することにより、帯電能が向上し、
表面に電荷がよくのるようになる。表面層を形成する材
料としては、Ｓｉ３　Ｎ４．５ｉ０２．５ｉＣ１ＡＩ２
０３　、ａ−８ｉＮ：Ｈ，ａ−８ｉＯ：Ｈ１及びａ−８
ｉＣ：Ｈ等の無機化合物及びポリ塩化ビニル及びポリア
ミド等の有機材料がある。

電子写真感光体に適用される光導電性部材としては、上
述のごとく、支持体上に障ｗ層を形成し、この障壁層上
に先導Ｎ層を形成し、この光導電層の上に表面層を形成
したものに限らず、支持体の上に電荷移動層（ＣＴＬ）
を形成し、電荷移動層の上に電荷発生ＩＮ（ＣＧＬ）を
形成した機能分離型の形態に構成することもできる。こ
の場合に、電荷移動層と、支持体との間に、障壁層を設
けてもよい。電荷発生層は、光の照射によりキャリアを
発生する。この電荷発生層は、層の一部又は全部がマイ
クロクリスタリンシリコンμＣ−８ｉでできており、そ
の厚さは１乃至１０μｍにすることが好ましい。電荷移
動層は電荷発生層で発生したキャリアを高効率で支持体
側に到達させる層であり、このため、キャリアの寿命が
長く、移動度が大きく輸送性が高いことが必要である。

電荷移動層はμＣ−８ｉで形成することができる。暗抵
抗を高めて帯電能を向上させるために、周期律表の第ｍ
族又は第■族のいずれか一方に属する元素をライトドー
ピングすることが好ましい。また、帯電能を一層向上さ
せ、電荷移動層と電荷発生層との両機能を持たせるため
に、Ｃ，Ｎ、Ｏの元素のうち、いずれか１種以上を含有
させてもよい。

電荷移ａｍは、その膜厚が薄過ぎる場合及び厚過ぎる場
合はその機能を充分に発揮しない。このため、電荷移動
層の厚さは３乃至８０μｍであることが好ましい。

障壁層を設けることにより、電荷移動層と電荷発生層と
を有する機能分離型の感光体においても、その電荷保持
機能を高め、帯電能を向上させることができる。なお、
障壁層をｐ型にするか、又はｎ型にするかは、その帯電
特性に応じて決定される。この陣Ｗ１１Ｉ！は、ａ−３
ｉで形成してもよく、またμＣ−８ｉで形成してもよい
。

この出願に係る発明の特徴は、電荷移１１１１が。

その層厚が３乃至８０μｍであって、Ｃ，Ｏ，Ｎから選
択された少なくとも一種の元素を含有するμＣ−Ｓ　＋
で形成されており、電荷発生層が、その層厚が１乃至１
０μｍであって、Ｃ，Ｏ，Ｎから選択された少なくとも
一種の元素を含有するμＣ−８ｉで形成されていること
にある。第２図及び第３図は、この発明を具体化した電
子写真感光体の断面図であり、第２図においては、アル
ミニウム製導電性支持体２１上に、電荷移動層２３が形
成され、電荷移動Ｗｉ２３の上に電荷発生！１２４が形
成されている。一方、第３因においては、電荷発生層２
４の上に更に表面１！２５が形成されている。電荷発生
！！２４は、少なくともその一部が、μＣ−５ｉかうな
り、電荷移動１２３はμＣ−３ｉで形成されている。

電荷発生Ｍ２４が、主としてμＣ−８ｉで形成されてい
ることにより、μＣ−８ｉが赤外領域にて高光吸収度を
有しているため、感光体を可視光ｆ！４域から近赤外領
域（例えば、半導体レーザの発振波長である７９０ｎｍ
付近）まで、高感度化することができる。つまり、μＣ
−８ｉは、その光学的エネルギギャップＥａがａ−３ｉ
の光学的エネルギギャップ１．６５．乃至１．７０ｅＶ
よりも小さいため、近赤外光を吸収して電荷を発生する
る用を有する。このため、μＣ−８ｉを電荷発生層に使
用することにより、ＲＰＣ（普通紙複写橢）及び半導体
レーザを使用したレーザプリンタの双方にこの感光体を
使用することが可能になる。

μＣ−３ｉ自体は、若干、ｎ型であるが、主としてこの
μｃ−ｓ　ｒからなる電荷発生１２４に周期律表の第ｍ
族に属する元素をライトドープ（１０−７乃至１０−３
原子％）することにより、電荷発生層２４は、ｉ型（真
性）半導体になり、暗抵抗が高くなり、ＳＮ比と帯電能
が向上する。

また、電荷発生ＷＩＩ２４に、Ｃ，Ｏ，Ｎのうち少なく
とも一種の元素を光導電率が低下しない程度に含有させ
ることにより、帯電能（電荷保持機能）を一層高めるこ
とができる。電荷発生Ｊｉ２４の層厚は、１乃至１０μ
ｍである。電荷発生層の層厚が１０μｍを超えると、成
寝に長時間を必要とし、また、層が剥離しやすくなる。

一方、電荷発生層２４の層厚が１μｍ未満であると、キ
ャリアの発生効率が低い。以上のような理由から、電荷
発生層２４の層厚を１乃至１０μｍにし、更に好ましく
は、層厚は４乃至８μｍである。

電荷移動層２３は、電荷発生層２４で発生した電荷を高
効率で支持体２１に移動させるために設けられた層であ
り、μＣ−８ｉで形成されている。

この電荷移動＠２３に周期律表第■族に属する元素をラ
イトドープすることにより、その暗抵抗を高め、電荷保
持機能を間接的に高めることができる。また、電荷移動
層２３に、電荷のημτ積が低下しない程度にＣ，Ｏ，
Ｎを含有させてもよい。

μＣ−３ｉに、Ｃ，０，Ｎをドーピングすることにより
、可視光に対する感度を島めることができ、その１０％
の添加でａ−８ｉと同様の作用を期待することができる
。電荷移動層は、キャリアを捕獲するトラップ（状態密
度）が存在しないことが理想的である。このため、トラ
ップとなるシリコンダングリングボンドを除去するため
に、微量のＣ，Ｏ，Ｎを電荷移動！！２３に含有させる
ことが好ましい。このＣ，Ｏ，Ｎの量は、キャリアの走
行性を考慮すると、２０原子％以下であることが好まし
い。電荷移動層のＦＩＪ厚は、３乃至８０μｍである。

電荷移動層の帯電能を高く維持するためには、層厚を厚
くすることが必要である一方、電荷移動層が厚すぎると
、キャリアが走行しにくくなり、キャリアが支持体まで
到達することが困難になる。このような理由により、電
荷移動層２３の層厚は、３乃至８０μｍ、好ましくは、
１０乃至５０μｍ１更に好ましくは、１５乃至３０μｍ
である。

第３図に示すように、電荷発生層２４の上に、表面層２
５を形成した光導電性部材においては、この表面層２４
が、Ｃ，Ｏ，Ｎのうち、少なくとも１種以上の元素を含
有するａ−８ｉ（ａ−８ｉＣ；Ｈｌａ−８ｉＯ；Ｈｌａ
−３ｉＮ；Ｈ，ａ−８ｉＣＮ；Ｈ等）で形成されている
。これにより、光導電層の表面が保護され、耐環境性及
び帯電能が向上する。このＣ，Ｏ，Ｎの含有量は、１０
乃至５０原子％であることが好ましい。

次に、この発明の実施例について説明する。

１１１上 導電性基板としてのＡ１製ドラム　（直径８０ｍｍ、長
さ３５０ｍｍ＞をトリクレンで脱脂し、洗浄し乾燥させ
た後、反応容器内に装填した。このドラムは、必要に応
じてその表面が酸処理、アルカリ処理又はサンドブラス
ト処理され、その干渉防止が図られる。反応容器内を、
図示しない拡散ポンプにより、排気し、杓１０うの真空
度にする。その後、ドラム基体を加熱し、約３００℃に
保持する。次いで、５００８ＣＣＭの流量の５ｉｔ−Ｉ
＋ガス、このＳｉＨ４ガス流量に対する流量比が１０−
８の８２　Ｈｓガス、１１００５ＣＣのＣＨ４ガス及び
７００ＳＣＣＭのＨ２ガスを混合して反応容器に供給し
た。その後、メカニカルブースタポンプ及びロータリポ
ンプにより反応容器内を排気し、その圧力を１トルに調
整した。電極に１３．５６ＭＨｚで１．５ＫＷの高周波
電力を印加して、電極とドラム基体との間に、Ｓ　ｉ　
Ｈ４、Ｈ２、Ｂ２　Ｈｓ及びＣＨ４のプラズマを生起さ
せ、支持体２１上に炭素を含むμＣ−８ｉ層である電荷
移動層２３を２０μｍ形成した。

その後、ＳｉＨ＋ガスの流量を２００８ＣＣＭ。

８２　Ｈｓ　（７）Ｓ　ｉ　Ｈ４ニ対スル流［１比を１
０−７、ＣＨ４ガスの流量を２０ＳＣＣＭ、Ｈ２ガスの
流量を２８ＬＭに設定してこれらのガスを反応容器内に
導入した。反応圧力が１．２トルの状態で２ＫＷの電力
を投入して成膜し、１０μｍの電荷発生層（μｃ−ｓ＋
ｍ）を形成した。次いで、同様の操作により、Ｃ，０，
Ｎを含有するａ−８ｉを成膜し、表面層を形成した。こ
のようにして成膜した感光体を７９０ｎｍの発振波長の
半導体レーザを搭載したレーザプリンタに搭載して画像
を形成したところ、感光体表面における露光量が２５８
　ｒ　Ｑ　／　ｃｄであっても、解像度が高い鮮明な画
像を形成することができた。また、複写を繰返して転写
プロセスの再現性及び安定性を調査したところ、転写画
像は極めて良好であり１、耐コロナ性、耐湿性及び耐摩
耗性等が優れていることが実証された。

［発明の効果］ この発明によれば、Ａ抵抗で帯電特性が濁れており、ま
た可視光及び近赤外光領域において高光感度特性を有し
、製造が容易であり、実用性が高い光導電性部材を得る
ことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明に係る光導電性部材の製造装置を示す
図、第２図及び第３図はこの発明の実施例に係る光導電
性部材を示す断面図である。 １．２，３．４；ボンベ、５：圧力計、６；バルブ、７
；配管、８；混合器、９；反応容器、１０；回転軸、１
３；電極、１４；ドラム基体、１５；ヒータ、１６：高
周波′Ｒ源、１９：ゲートバルブ、２１；支持体、２３
；電荷移動層、２４；電荷発生層、２５：表面層 出願人代理人　弁理士　鈴江武彦 第ｉＷＪ

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. （１）導電性支持体と、この導電性支持体の上に形成さ
   れた電荷移動層と、この電荷移動層の上に形成された電
   荷発生層と、を有する電子写真感光体において、前記電
   荷発生層は、炭素、窒素及び酸素から選択された少なく
   とも一種の元素を含有するマイクロクリスタリンシリコ
   ンで形成され１乃至１０μｍの層厚を有し、前記電荷移
   動層は、炭素、窒素及び酸素から選択された少なくとも
   一種の元素を含有するマイクロクリスタリンシリコンで
   形成され３乃至８０μｍの層厚を有することを特徴とす
   る電子写真感光体。
2. （２）前記電荷発生層は、水素を含有することを特徴と
   する特許請求の範囲第１項に記載の電子写真感光体。
3. （３）前記電荷発生層は、周期律表の第III族又は第Ｖ
   族に属する元素から選択された少なくとも一種の元素を
   含有することを特徴とする特許請求の範囲第１項又は第
   ２項に記載の電子写真感光体。
4. （４）前記電荷移動層は、水素を含有することを特徴と
   する特許請求の範囲第１項に記載の電子写真感光体。
5. （５）前記電荷移動層は、周期律表の第III族又は第Ｖ
   族に属する元素から選択された少なくとも一種の元素を
   含有することを特徴とする特許請求の範囲第１項又は第
   ４項に記載の電子写真感光体。
6. （６）前記電荷移動層は、炭素、窒素及び酸素から選択
   された少なくとも一種の元素を含有することを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項、第４項又は第５項のいずれか
   １項に記載の電子写真感光体。
7. （７）前記電荷発生層の上には、表面層が形成されてい
   ることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の電子
   写真感光体。