JPS6221568B2 - - Google Patents
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- JPS6221568B2 JPS6221568B2 JP52097019A JP9701977A JPS6221568B2 JP S6221568 B2 JPS6221568 B2 JP S6221568B2 JP 52097019 A JP52097019 A JP 52097019A JP 9701977 A JP9701977 A JP 9701977A JP S6221568 B2 JPS6221568 B2 JP S6221568B2
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- gas
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Landscapes
- Separating Particles In Gases By Inertia (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は除塵と共に脱臭、脱硝等の処理を行う
触媒槽を備えたガス処理装置に関するものであり
さらに詳言すると多量のダストを含むいわゆるダ
ーテイ排ガスを処理しても目詰まりを起こさない
装置に係わるものである。
触媒槽を備えたガス処理装置に関するものであり
さらに詳言すると多量のダストを含むいわゆるダ
ーテイ排ガスを処理しても目詰まりを起こさない
装置に係わるものである。
ボイラー、焼却炉、乾燥室等から排出される排
ガスに含まれる窒素酸化物、一酸化炭素、悪臭物
等の有害物質を触媒により還元又は酸化して無害
な物質に変える処理方法は、小型のテストプラン
トでは成効するが、中型以上の装置では媒塵、副
生成物等の影響を受けて触媒槽の目詰まり及び触
媒の劣化が急速に進行するためトラブルが多発
し、未だに成功したとはいえない状況である。
ガスに含まれる窒素酸化物、一酸化炭素、悪臭物
等の有害物質を触媒により還元又は酸化して無害
な物質に変える処理方法は、小型のテストプラン
トでは成効するが、中型以上の装置では媒塵、副
生成物等の影響を受けて触媒槽の目詰まり及び触
媒の劣化が急速に進行するためトラブルが多発
し、未だに成功したとはいえない状況である。
ダストを通りやすくして目詰まりを防止するた
め、ハニカム型又はパイプ型触媒の使用が提案さ
れているが、粒状の触媒に比較すると高価な上に
排気にダストが混入し公害問題を発生する。又、
排ガスの通過する触媒の厚さがかなり厚いため、
抵抗が大きくドラフトに要するエネルギーもかな
り大きいという問題がある。
め、ハニカム型又はパイプ型触媒の使用が提案さ
れているが、粒状の触媒に比較すると高価な上に
排気にダストが混入し公害問題を発生する。又、
排ガスの通過する触媒の厚さがかなり厚いため、
抵抗が大きくドラフトに要するエネルギーもかな
り大きいという問題がある。
本発明は、目詰まり防止装置を備え、通過抵抗
の小さい薄層の触媒槽を持ち、媒煙等を含むダー
テイガスも処理し得る装置を提供することを目的
とするものである。
の小さい薄層の触媒槽を持ち、媒煙等を含むダー
テイガスも処理し得る装置を提供することを目的
とするものである。
上記目的を達成するため本発明の装置の要旨と
するところは、直立中空円塔内部に順次下から排
塵室、渦流室、一次集塵室、触媒室、二次集塵室
排気室を設け、その渦流室の上部に渦流羽根を設
け、その下部に処理ガスの吸入口を接線方向に開
口し、中央にダスト落下筒を取付け、一次集塵室
に円錐状の環状集塵部を形成し、その集塵部を渦
流室のダスト落下筒に接続し、触媒室に逆円錐形
の二重金網の内部に球状触媒を入れた触媒槽を取
付け、さらにその内側に触媒槽の円錐母線に沿う
パイプを設け、そのパイプを回転するモータを付
設し、パイプにあけた小孔から空気、蒸気等を噴
射し、触媒槽に付着したダストを逆洗すると共に
触媒の前処理又は再生処理を行うようにしたこと
にある。
するところは、直立中空円塔内部に順次下から排
塵室、渦流室、一次集塵室、触媒室、二次集塵室
排気室を設け、その渦流室の上部に渦流羽根を設
け、その下部に処理ガスの吸入口を接線方向に開
口し、中央にダスト落下筒を取付け、一次集塵室
に円錐状の環状集塵部を形成し、その集塵部を渦
流室のダスト落下筒に接続し、触媒室に逆円錐形
の二重金網の内部に球状触媒を入れた触媒槽を取
付け、さらにその内側に触媒槽の円錐母線に沿う
パイプを設け、そのパイプを回転するモータを付
設し、パイプにあけた小孔から空気、蒸気等を噴
射し、触媒槽に付着したダストを逆洗すると共に
触媒の前処理又は再生処理を行うようにしたこと
にある。
本発明の装置の構成を図面に示す実施例に基づ
いて説明する。第1図に示すように、直立処理円
塔1の内部に下から、順次、排塵室2、渦流室
3、環状溝状の一次集塵室4、触媒室5、環状溝
状の二次集塵室6を設け、渦流室3の下部に吸入
パイプ7の吸入口を接線方向に開口する。渦流室
3の上部に渦流羽根8を中央にダスト落下筒13
を取付ける。一次集塵室4の下側に円錐ガイド9
を取付けガイド9の外周と一次集塵室4の内周の
間に一次集塵室10を形成する。一次集塵室4と
触媒室5を山型断面ガイド11で仕切る。二次集
塵室6は触媒室5の上部外周にあり、その内周と
触媒室5の外周の間に二次集塵室12が形成され
る。触媒室5の上に排気室14を同軸に設け、そ
の排気室に排気ダクト15が開口し、排気ダクト
15は直接又は排気フアン16を介して外気に開
口する。一次及び二次集塵部10,12はリター
ンパイプ17を介して渦流室3内の落下筒13に
内通している。リターンパイプ17は落下筒13
内において接線ないし弦方向に開口し、落下筒1
3の中央に一次集塵室4に至る通気パイプ18を
設ける。
いて説明する。第1図に示すように、直立処理円
塔1の内部に下から、順次、排塵室2、渦流室
3、環状溝状の一次集塵室4、触媒室5、環状溝
状の二次集塵室6を設け、渦流室3の下部に吸入
パイプ7の吸入口を接線方向に開口する。渦流室
3の上部に渦流羽根8を中央にダスト落下筒13
を取付ける。一次集塵室4の下側に円錐ガイド9
を取付けガイド9の外周と一次集塵室4の内周の
間に一次集塵室10を形成する。一次集塵室4と
触媒室5を山型断面ガイド11で仕切る。二次集
塵室6は触媒室5の上部外周にあり、その内周と
触媒室5の外周の間に二次集塵室12が形成され
る。触媒室5の上に排気室14を同軸に設け、そ
の排気室に排気ダクト15が開口し、排気ダクト
15は直接又は排気フアン16を介して外気に開
口する。一次及び二次集塵部10,12はリター
ンパイプ17を介して渦流室3内の落下筒13に
内通している。リターンパイプ17は落下筒13
内において接線ないし弦方向に開口し、落下筒1
3の中央に一次集塵室4に至る通気パイプ18を
設ける。
触媒室5内には逆円錐形の触媒槽20を軸心に
配設する。触媒槽20は内外二重の金網網21,
22とその間に充てんした粒状触媒(アルミナ、
白金、パラジウム、活性炭等)23より成立して
いる。その内側の円錐状金網21の母線に沿う噴
出管30を備えた逆洗装置24を排気室14の天
井の軸心に取付けたロータリジヨイント25から
つり下げる。逆洗装置24はロータリジヨイント
25を介して排気室14の上に設けた減速モータ
26の回転駆動を受け軸心を中心に回転する。
配設する。触媒槽20は内外二重の金網網21,
22とその間に充てんした粒状触媒(アルミナ、
白金、パラジウム、活性炭等)23より成立して
いる。その内側の円錐状金網21の母線に沿う噴
出管30を備えた逆洗装置24を排気室14の天
井の軸心に取付けたロータリジヨイント25から
つり下げる。逆洗装置24はロータリジヨイント
25を介して排気室14の上に設けた減速モータ
26の回転駆動を受け軸心を中心に回転する。
第2図に示すように、触媒槽20の内外金網2
1,22の間の層厚は20ないし100mmであり、
金網21,22の上部は二重コーンプレート27
に接続し下部はコーンキヤツプ28に接続してい
る。二重コーンプレート27の内外コーンの間に
比較的大きな環状空間があるので、そこまで始め
に粒状触媒23を一杯に詰めておけば、使用中に
触媒の隙間が詰つて容積が縮小しても触媒の上面
が金網21,22の上縁よりも低くなることはな
い。逆洗パイプ24は相互に内通する軸心管29
と金網21の母線に沿う噴出管30よりなり、噴
出管30に5mm程度のピツチで細孔31を多数設
けると共に、噴出管30の裏側に沿つて隔板32
を取付ける。軸心管29を圧縮空気、蒸気等の気
体源(図示せず)に配管したロータリジヨイント
25に接続し、噴出管30を回転しながらその細
孔31から気体を金網21,22中の触媒23に
噴射して触媒を逆洗する。
1,22の間の層厚は20ないし100mmであり、
金網21,22の上部は二重コーンプレート27
に接続し下部はコーンキヤツプ28に接続してい
る。二重コーンプレート27の内外コーンの間に
比較的大きな環状空間があるので、そこまで始め
に粒状触媒23を一杯に詰めておけば、使用中に
触媒の隙間が詰つて容積が縮小しても触媒の上面
が金網21,22の上縁よりも低くなることはな
い。逆洗パイプ24は相互に内通する軸心管29
と金網21の母線に沿う噴出管30よりなり、噴
出管30に5mm程度のピツチで細孔31を多数設
けると共に、噴出管30の裏側に沿つて隔板32
を取付ける。軸心管29を圧縮空気、蒸気等の気
体源(図示せず)に配管したロータリジヨイント
25に接続し、噴出管30を回転しながらその細
孔31から気体を金網21,22中の触媒23に
噴射して触媒を逆洗する。
次に、本発明の装置の動作を同じく実施例に基
づいて説明する。排気フアン16を起動するか、
排気ダクト15に自然ドラフトをかけると、処理
すべきダーテイガスは吸入パイプ7より渦流室3
へ接線方向に吸引され内部を旋回しながら上昇
し、渦流羽根8を通過して渦流となり一次集塵室
4に入る。一次集塵室4においてばい煙等20ミク
ロン以上のダストは渦流による遠心力でガイド1
1の周壁に衝突し失速して一次集塵部10に落下
し、さらに戻りパイプを経て落下筒17に入る。
細かいダストとガスはガイド11の中央を通り触
媒室5に入り、旋回しながら触媒槽20に到達す
る。ガスは粒状触媒23を通過する時に処理され
て無害になり排気室14から排気ダクト15を経
て放出される。一方、ダストは触媒23の表面に
とどまりそのまゝでは触媒の目を詰めることにな
るが、逆洗パイプ24が回転しながら圧縮空気等
を触媒槽20の内側から噴射するので、触媒23
の表面に付着したダストは吹き払われ目詰まりは
全く生じない。吹き飛ばされたダストは渦流に乗
り上昇し上部の二次集塵室6に入り二次集塵部に
たまる、さらにリターンパイプ17を通り落下筒
13に至る。一次及び二次集塵部10,12から
落下筒13に入つたダストとガスは旋回し、ガス
は中央の通気パイプ18を通り上昇するが、ダス
トは下の排塵室2に落ちる。排塵室2内のダスト
は適当な時に排出される。
づいて説明する。排気フアン16を起動するか、
排気ダクト15に自然ドラフトをかけると、処理
すべきダーテイガスは吸入パイプ7より渦流室3
へ接線方向に吸引され内部を旋回しながら上昇
し、渦流羽根8を通過して渦流となり一次集塵室
4に入る。一次集塵室4においてばい煙等20ミク
ロン以上のダストは渦流による遠心力でガイド1
1の周壁に衝突し失速して一次集塵部10に落下
し、さらに戻りパイプを経て落下筒17に入る。
細かいダストとガスはガイド11の中央を通り触
媒室5に入り、旋回しながら触媒槽20に到達す
る。ガスは粒状触媒23を通過する時に処理され
て無害になり排気室14から排気ダクト15を経
て放出される。一方、ダストは触媒23の表面に
とどまりそのまゝでは触媒の目を詰めることにな
るが、逆洗パイプ24が回転しながら圧縮空気等
を触媒槽20の内側から噴射するので、触媒23
の表面に付着したダストは吹き払われ目詰まりは
全く生じない。吹き飛ばされたダストは渦流に乗
り上昇し上部の二次集塵室6に入り二次集塵部に
たまる、さらにリターンパイプ17を通り落下筒
13に至る。一次及び二次集塵部10,12から
落下筒13に入つたダストとガスは旋回し、ガス
は中央の通気パイプ18を通り上昇するが、ダス
トは下の排塵室2に落ちる。排塵室2内のダスト
は適当な時に排出される。
触媒槽20の層厚は、処理ガス量にもよるが、
20ないし100mmと薄く通気抵抗も小さい。又、広
い円錐面の全面を旋回するガスを触媒23に通気
させるので、ガスは部分的に片寄らず均一に通
る。球状粒体の触媒23を二重金網21,22の
間に充てんするだけで特別の担体を必要としない
ので、触媒コストは非常に割安になる。気体噴出
孔31の裏側に隔板32を付設してその部分の処
理ガスの流れを庶断すると共に噴出気流の拡散も
防止しているので噴出気体の逆洗作用は非常に強
力なものになる。
20ないし100mmと薄く通気抵抗も小さい。又、広
い円錐面の全面を旋回するガスを触媒23に通気
させるので、ガスは部分的に片寄らず均一に通
る。球状粒体の触媒23を二重金網21,22の
間に充てんするだけで特別の担体を必要としない
ので、触媒コストは非常に割安になる。気体噴出
孔31の裏側に隔板32を付設してその部分の処
理ガスの流れを庶断すると共に噴出気流の拡散も
防止しているので噴出気体の逆洗作用は非常に強
力なものになる。
逆洗装置24の細孔31から噴出する気体とし
て蒸気を使用すると、触媒23に付着したカーボ
ン、タール等は水性ガス反応を起こすので触媒表
面から簡単に除去することができる。又、触媒を
酸化又は還元する気体を細孔31から噴出するこ
ともできるので、逆洗装置24は触媒の目詰まり
を防止するだけでなく、触媒の前処理や再生処理
にも使用することができる。
て蒸気を使用すると、触媒23に付着したカーボ
ン、タール等は水性ガス反応を起こすので触媒表
面から簡単に除去することができる。又、触媒を
酸化又は還元する気体を細孔31から噴出するこ
ともできるので、逆洗装置24は触媒の目詰まり
を防止するだけでなく、触媒の前処理や再生処理
にも使用することができる。
本発明装置はガス中のダストの大部分を渦流に
よつて遠心分離させた後、まず山形ガイドによつ
て金網倒立円錐形触媒層の頂点付近に集め、引続
き該槽の外側を旋回させつつ槽全面をほぼ均等に
通過させようとするもので、槽の層厚を薄くする
ことができ、充てんされた触媒は各処において全
部有効に作用するとともに通気抵抗も小さく、更
に逆洗用の噴出管の左右には隔板が付設されてい
るので逆洗作用中においてその部分の処理ガスの
流れを遮断し、同時に噴出気流を金網面に強力に
直射させてダストの目詰りを可及的に防止するこ
とができ、前記各作用の協働により装置の大きさ
の割に多量のダーテイガスを処理し得る等の効果
がある。
よつて遠心分離させた後、まず山形ガイドによつ
て金網倒立円錐形触媒層の頂点付近に集め、引続
き該槽の外側を旋回させつつ槽全面をほぼ均等に
通過させようとするもので、槽の層厚を薄くする
ことができ、充てんされた触媒は各処において全
部有効に作用するとともに通気抵抗も小さく、更
に逆洗用の噴出管の左右には隔板が付設されてい
るので逆洗作用中においてその部分の処理ガスの
流れを遮断し、同時に噴出気流を金網面に強力に
直射させてダストの目詰りを可及的に防止するこ
とができ、前記各作用の協働により装置の大きさ
の割に多量のダーテイガスを処理し得る等の効果
がある。
第1図は本発明の一実施例の装置の縦断面図、
第2図は第1図の要部の斜視図である。 1……処理円塔、2……排塵室、3……渦流
室、4……一次集塵室、5……触媒室、6……二
次集塵室、7……吸入パイプ、8……渦流羽根、
9……円錐ガイド、11……山型ガイド、13…
…落下筒、14……排気室、15……排気ダク
ト、17……リターンパイプ、18……内通パイ
プ、20……触媒槽、21,22……内外金鋼、
23……触媒、24……逆洗装置、噴出管、3
0,32……隔板。
第2図は第1図の要部の斜視図である。 1……処理円塔、2……排塵室、3……渦流
室、4……一次集塵室、5……触媒室、6……二
次集塵室、7……吸入パイプ、8……渦流羽根、
9……円錐ガイド、11……山型ガイド、13…
…落下筒、14……排気室、15……排気ダク
ト、17……リターンパイプ、18……内通パイ
プ、20……触媒槽、21,22……内外金鋼、
23……触媒、24……逆洗装置、噴出管、3
0,32……隔板。
Claims (1)
- 1 下端及び上端にそれぞれ接線方向に吸入パイ
プ及び排気ダクトを取付けた直立処理円塔内に下
から順次渦流羽根、外側に環状溝状の一次集塵室
を有する円錐ガイド、触媒室を順設し、触媒室内
に二重金網倒立円錐形触媒層を設置し、該槽の下
方において円塔内にガス流を中央に集める山型ガ
イドを設け、該槽の上方において円塔内側に環状
溝状の二次集塵室を設けるとともに、該槽の内部
に槽裏面に沿つて回転する左右隔板つき加圧気体
噴出管を配設して成る触媒槽付きガス処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9701977A JPS5432166A (en) | 1977-08-15 | 1977-08-15 | Gas treatment apparatus with catalytic cell |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9701977A JPS5432166A (en) | 1977-08-15 | 1977-08-15 | Gas treatment apparatus with catalytic cell |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5432166A JPS5432166A (en) | 1979-03-09 |
| JPS6221568B2 true JPS6221568B2 (ja) | 1987-05-13 |
Family
ID=14180654
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9701977A Granted JPS5432166A (en) | 1977-08-15 | 1977-08-15 | Gas treatment apparatus with catalytic cell |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5432166A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6025522A (ja) * | 1983-07-21 | 1985-02-08 | Imai Yoshi | 二段連動集じん装置 |
| US6544482B1 (en) | 2000-03-14 | 2003-04-08 | Advanced Technology Materials, Inc. | Chamber cleaning mechanism |
| JP5840872B2 (ja) * | 2011-06-09 | 2016-01-06 | 株式会社大川原製作所 | 脱臭素子の再生機構が具えられた脱臭装置 |
| JP5876274B2 (ja) * | 2011-11-09 | 2016-03-02 | 株式会社大川原製作所 | 脱臭素子の清浄化装置 |
-
1977
- 1977-08-15 JP JP9701977A patent/JPS5432166A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5432166A (en) | 1979-03-09 |
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