JPS62235461A - 金型の製造方法 - Google Patents
金型の製造方法Info
- Publication number
- JPS62235461A JPS62235461A JP61075758A JP7575886A JPS62235461A JP S62235461 A JPS62235461 A JP S62235461A JP 61075758 A JP61075758 A JP 61075758A JP 7575886 A JP7575886 A JP 7575886A JP S62235461 A JPS62235461 A JP S62235461A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mold
- spraying
- metal
- thermal spraying
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/02—Pretreatment of the material to be coated, e.g. for coating on selected surface areas
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/18—After-treatment
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は金型の製造方法に関する。詳しくは本発明は溶
射てよって形成された転写層を金型内面とする金型の製
造方法の改良に関する。
射てよって形成された転写層を金型内面とする金型の製
造方法の改良に関する。
母型上に溶射材料を溶射することによって、転写層を形
成させ、これを金型の成形面、即ち内面として金型の製
作に利用することは知られている。この場合、金型内面
となる転写層は、例えばＺｎ、Ｃｕ−Ｚｎ 合金等を
溶射材料として形成され、通常はこの転写層の背面に裏
打ちとなる金属、例えばＺｎ、Ａ１合金等を鋳込んで金
型本体を形成させることによシ金型を製作する。
成させ、これを金型の成形面、即ち内面として金型の製
作に利用することは知られている。この場合、金型内面
となる転写層は、例えばＺｎ、Ｃｕ−Ｚｎ 合金等を
溶射材料として形成され、通常はこの転写層の背面に裏
打ちとなる金属、例えばＺｎ、Ａ１合金等を鋳込んで金
型本体を形成させることによシ金型を製作する。
さらに転写層と金型本体金属との密着性向上のために転
写層の背面にＡ１合金、Ｃｕ合金等を溶射して中間層を
形成させた後に金型本体金属を鋳込むことも行われてい
る。
写層の背面にＡ１合金、Ｃｕ合金等を溶射して中間層を
形成させた後に金型本体金属を鋳込むことも行われてい
る。
上記転写層が金型内面層として使用される場合、それは
母型上の凹凸を忠実に写し取ったものであることが要求
される。従来の技術はこの点において、十分に満足し得
るものとは言い難い。即ち転写層の形成時に転写層の母
型からの剥離及び変形という現象があり、転写層の忠実
性が損われる。上記の転写層の剥離・変形の程度は溶射
材料の神二・山、溶射材料と母型との組合せ等に依存す
るが、特に溶射材料の物性に大きく依存する。即ち一般
に溶射材料の融点が高い程、また硬度が高い程、剥離・
変形の程度が大きくなる傾向にある。
母型上の凹凸を忠実に写し取ったものであることが要求
される。従来の技術はこの点において、十分に満足し得
るものとは言い難い。即ち転写層の形成時に転写層の母
型からの剥離及び変形という現象があり、転写層の忠実
性が損われる。上記の転写層の剥離・変形の程度は溶射
材料の神二・山、溶射材料と母型との組合せ等に依存す
るが、特に溶射材料の物性に大きく依存する。即ち一般
に溶射材料の融点が高い程、また硬度が高い程、剥離・
変形の程度が大きくなる傾向にある。
かかる好ましくない現象の原因は熱歪にあるものと考え
られ、その解決策として母型及び溶射皮膜を低温度て保
持する工夫がなされてきた。
られ、その解決策として母型及び溶射皮膜を低温度て保
持する工夫がなされてきた。
しかしかかる工夫によっても問題点の解決は必ずしも十
分なものではない。またかかる低温度法の現実的な適用
対象は低融点ないし低硬度の溶射材料に限られ、高融点
又は高硬度の溶射材料への適用は困難である。
分なものではない。またかかる低温度法の現実的な適用
対象は低融点ないし低硬度の溶射材料に限られ、高融点
又は高硬度の溶射材料への適用は困難である。
ところで、上記転写層を金型内面として使用する場合に
は特に耐久性が要求されることが多い。そのためには高
硬度又は高融点の溶射材料を使用することがあり、この
ような溶射材料を使用して満足な転写層を形成させ、こ
れを金型内面として金型を製造する方法が特に強く求め
られていた。
は特に耐久性が要求されることが多い。そのためには高
硬度又は高融点の溶射材料を使用することがあり、この
ような溶射材料を使用して満足な転写層を形成させ、こ
れを金型内面として金型を製造する方法が特に強く求め
られていた。
本発明者らは上記従来技術の問題点を解決して満足な転
写層を金型内面とする金型の製造方法について鋭意検討
を重ねた結果、本発明に到達した。
写層を金型内面とする金型の製造方法について鋭意検討
を重ねた結果、本発明に到達した。
即ち本発明の要旨は、成形面となる金型内面層とこれを
裏打ちする金型本体とを一体化させた構造の金型を製造
するに当シ、 ■ 母型に溶射材料を溶射することによって金型内面層
を形成させ、その際、溶射によって形成された溶射皮膜
の全体な該溶射に使用している溶射火炎とは別の加熱源
によって加熱しながら溶射を行なう・こと。
裏打ちする金型本体とを一体化させた構造の金型を製造
するに当シ、 ■ 母型に溶射材料を溶射することによって金型内面層
を形成させ、その際、溶射によって形成された溶射皮膜
の全体な該溶射に使用している溶射火炎とは別の加熱源
によって加熱しながら溶射を行なう・こと。
■ 得られた金型内面層の上に金型本体の金属と同質又
は該金属と合金を形成する金属を溶射して中間層を形成
させること、並びに、 ■ 得られた中間層の上に墓打ち金属を鋳込んで金型本
体を形成させること、 を特徴とする金型の製造方法、に存する。
は該金属と合金を形成する金属を溶射して中間層を形成
させること、並びに、 ■ 得られた中間層の上に墓打ち金属を鋳込んで金型本
体を形成させること、 を特徴とする金型の製造方法、に存する。
以下、本発明について詳細に説明する。
まず本発明の基礎となっている考察について説明する。
溶射によって転写層を形成する際、溶射された溶射材料
は被溶射面である母型の表面に付着して溶射皮膜を形成
する。その場合、溶射材料の熱エネルギーは母型に移行
し、母型の温度の上昇を招く。一方、溶射材料によシ形
成された皮膜の表面は外気に曝されて熱エネルギーを失
ない、温度が低下する。従って、母型表面に接する皮膜
の裏面と外気に接する皮膜の表面とは温度差を持つこと
となり、低温側、即ち皮膜の表面側の収縮が大きく、表
面側への皮膜の反り上、す、即ち母型から皮膜が剥離し
変形する現象が発生し、皮膜の形成が不可能となるもの
と考えられる。
は被溶射面である母型の表面に付着して溶射皮膜を形成
する。その場合、溶射材料の熱エネルギーは母型に移行
し、母型の温度の上昇を招く。一方、溶射材料によシ形
成された皮膜の表面は外気に曝されて熱エネルギーを失
ない、温度が低下する。従って、母型表面に接する皮膜
の裏面と外気に接する皮膜の表面とは温度差を持つこと
となり、低温側、即ち皮膜の表面側の収縮が大きく、表
面側への皮膜の反り上、す、即ち母型から皮膜が剥離し
変形する現象が発生し、皮膜の形成が不可能となるもの
と考えられる。
そこで本発明者らはこの剥離・変形の現象を防止するに
は溶射皮膜の表裏の温度差を小さくすることが有効であ
ろうと考えて本発明に到達したのである。
は溶射皮膜の表裏の温度差を小さくすることが有効であ
ろうと考えて本発明に到達したのである。
本発明方法に使用される母型の材質は特に限定されるも
のではなく、例えば木材、合成樹脂、石膏、セラミック
ス、鋳物砂等が挙げられるが、具体的には使用する溶射
材料及び金型本体金属との組合せ、母型表面に求められ
るきめこまかさ等を考慮して適切な材質が選択される。
のではなく、例えば木材、合成樹脂、石膏、セラミック
ス、鋳物砂等が挙げられるが、具体的には使用する溶射
材料及び金型本体金属との組合せ、母型表面に求められ
るきめこまかさ等を考慮して適切な材質が選択される。
例えば高硬度又は高融点の溶射材料が用いられる場合に
は溶射温度も高くなるので、例えば石膏、セラミックス
、鋳物砂等の耐熱性材料が使用される。
は溶射温度も高くなるので、例えば石膏、セラミックス
、鋳物砂等の耐熱性材料が使用される。
本発明方法における金型内面層を形成させるための溶射
材料としては母型の被溶射面上で皮膜を形成し得る種々
の材料が使用され、例えばＺｎ系合金、Ｎｉ−Ｃｕ系合
金、Ｎ１−Ｃｒ系合金、Ｎｉ−Ｃｒ−Ｃｏ系合金、ステ
ンレス鋼等の金属； ５ｉ０２、Ａ１２０１、ＭｇＯ、
ＺｒＯ２等のセラミックス；或いはこれらの混合物等が
挙げられる。具体的には金型の要求特性に応じて適切な
材質が選択される。
材料としては母型の被溶射面上で皮膜を形成し得る種々
の材料が使用され、例えばＺｎ系合金、Ｎｉ−Ｃｕ系合
金、Ｎ１−Ｃｒ系合金、Ｎｉ−Ｃｒ−Ｃｏ系合金、ステ
ンレス鋼等の金属； ５ｉ０２、Ａ１２０１、ＭｇＯ、
ＺｒＯ２等のセラミックス；或いはこれらの混合物等が
挙げられる。具体的には金型の要求特性に応じて適切な
材質が選択される。
例えば前記のように耐久性の転写層が必要とされる場合
には、例えばＮｉ−Ｃｒ系合金、Ｎ１−Ｃｒ−Ｃ□系合
金、ステンレス鋼等の金属、各種セラミックス或いはこ
れらの混合物等の高硬度又は高融点の溶射材料が使用さ
れる。
には、例えばＮｉ−Ｃｒ系合金、Ｎ１−Ｃｒ−Ｃ□系合
金、ステンレス鋼等の金属、各種セラミックス或いはこ
れらの混合物等の高硬度又は高融点の溶射材料が使用さ
れる。
本発明方法に従う溶射材料の溶射方法自体は特に限定さ
れず、通常用いられている種々の溶射方法が用いられ、
例えば溶射火炎中に溶射材料の粉末、線材等を供給して
溶射火炎と共に被溶射面に衝突させて付着させる方法が
採用される。
れず、通常用いられている種々の溶射方法が用いられ、
例えば溶射火炎中に溶射材料の粉末、線材等を供給して
溶射火炎と共に被溶射面に衝突させて付着させる方法が
採用される。
さて本発明は上記金型内面層を形成させるための溶射に
際して、溶射によって形成された溶射皮膜の、全体を加
熱し続けることを特徴とする。
際して、溶射によって形成された溶射皮膜の、全体を加
熱し続けることを特徴とする。
この際、溶射材料を溶射しつつある溶射火炎自体も、熱
論、溶射皮膜を加熱しているわけであるが、溶射火炎は
適当な速度で被溶射面上を協動していくものであるから
、これのみでは溶射皮膜の全体を加熱し続けることはで
きない。従って上記溶射皮膜の加熱は溶射に使用しつつ
ある溶射火炎とは別の加熱源を使用して行なう必要があ
る。
論、溶射皮膜を加熱しているわけであるが、溶射火炎は
適当な速度で被溶射面上を協動していくものであるから
、これのみでは溶射皮膜の全体を加熱し続けることはで
きない。従って上記溶射皮膜の加熱は溶射に使用しつつ
ある溶射火炎とは別の加熱源を使用して行なう必要があ
る。
上記加熱源の種類は特に限定されず、例えばガスバーナ
ー、電気加熱器等が挙げられる。
ー、電気加熱器等が挙げられる。
上記溶射皮膜の加熱は前述の通り溶射皮膜の表裏の温度
差が出来るだけ小さくなるように行なわれる。該温度差
を支配する因子としては母型材質及び溶射材料の物性、
溶射火炎の温度及び熱供給速度等があり、また該温度差
が溶射皮膜の剥離・変形に与える影響の程度も溶射皮膜
の物性及び溶射皮膜と母型表面との親和性等の因子に依
存する。従って必要な加熱の程度を一律に特定すること
はできないが、一般的ては溶射材料の融点（ないし流動
点）を目安にするのがよい。即ち溶射皮膜を溶融流動さ
せない範囲でできるだけ溶射材料の融点に近い温度まで
加熱するのが好ましい。必要な加熱温度の下限も上記の
通シの事情で一律には言えないが、概略の目安を述べれ
ば、融点ｉｏθＯ℃程度の溶射材料に対しては約１．０
０℃以上、融点７００℃程度の溶射材料に対しては約ｐ
ｏｏ℃以上、また融点５ｏｏｃ程度の溶射材料に対して
は約３０Ｑ℃以上に強熱することによって、通常満足な
結果を得ることができる。
差が出来るだけ小さくなるように行なわれる。該温度差
を支配する因子としては母型材質及び溶射材料の物性、
溶射火炎の温度及び熱供給速度等があり、また該温度差
が溶射皮膜の剥離・変形に与える影響の程度も溶射皮膜
の物性及び溶射皮膜と母型表面との親和性等の因子に依
存する。従って必要な加熱の程度を一律に特定すること
はできないが、一般的ては溶射材料の融点（ないし流動
点）を目安にするのがよい。即ち溶射皮膜を溶融流動さ
せない範囲でできるだけ溶射材料の融点に近い温度まで
加熱するのが好ましい。必要な加熱温度の下限も上記の
通シの事情で一律には言えないが、概略の目安を述べれ
ば、融点ｉｏθＯ℃程度の溶射材料に対しては約１．０
０℃以上、融点７００℃程度の溶射材料に対しては約ｐ
ｏｏ℃以上、また融点５ｏｏｃ程度の溶射材料に対して
は約３０Ｑ℃以上に強熱することによって、通常満足な
結果を得ることができる。
なお本発明方法においては上記溶射皮膜の全体の加熱に
加えて母型の被溶射面の加熱を行なうと一般に忠実性の
より良好な転写層を得ることができる。そのためには溶
射に際して母型の被溶射面の全体を加熱し続けてもよい
が、被溶射面の各部分について溶射材料が溶射される時
点で加熱がなされていれば十分である。従って、母型の
被溶射面のうち少なくとも溶射直前の部分を加熱するこ
とによって十分良好な効果を得ることができる。この被
溶射面の加熱に使用する加熱源及び適当な加熱の程度は
前記溶射皮膜の全体の加熱の場合と同様であるが、加熱
の程度は後者の場合より多少弱くても通常、十分な効果
が得られる。かかる被溶射面の加熱によってより良好な
転写層が得られる理由は、恐らく上記加熱によって被溶
射面と溶射材料との温度差が減少し、その結果、高温溶
射材料の被溶射面上での急激な冷却及び急激な収縮に基
づく被溶射面と溶射皮膜との間の親和性の低下が多少と
も緩和されるためであろうと推定される。かかる被溶射
面の加熱による転写層の忠実性の改善効果は一般に溶射
温度がより高い場合程、顕著であるので、高融点又は高
硬度の溶射材料を使用して溶射を行なう場合には上記被
溶射面の加熱を併せ行なうのが特に好ましい。
加えて母型の被溶射面の加熱を行なうと一般に忠実性の
より良好な転写層を得ることができる。そのためには溶
射に際して母型の被溶射面の全体を加熱し続けてもよい
が、被溶射面の各部分について溶射材料が溶射される時
点で加熱がなされていれば十分である。従って、母型の
被溶射面のうち少なくとも溶射直前の部分を加熱するこ
とによって十分良好な効果を得ることができる。この被
溶射面の加熱に使用する加熱源及び適当な加熱の程度は
前記溶射皮膜の全体の加熱の場合と同様であるが、加熱
の程度は後者の場合より多少弱くても通常、十分な効果
が得られる。かかる被溶射面の加熱によってより良好な
転写層が得られる理由は、恐らく上記加熱によって被溶
射面と溶射材料との温度差が減少し、その結果、高温溶
射材料の被溶射面上での急激な冷却及び急激な収縮に基
づく被溶射面と溶射皮膜との間の親和性の低下が多少と
も緩和されるためであろうと推定される。かかる被溶射
面の加熱による転写層の忠実性の改善効果は一般に溶射
温度がより高い場合程、顕著であるので、高融点又は高
硬度の溶射材料を使用して溶射を行なう場合には上記被
溶射面の加熱を併せ行なうのが特に好ましい。
さらに本発明方法だおいて、上記溶射皮膜を形成した後
、母型及び溶射皮膜を不活性雰囲気又は還元性雰囲気中
で熱処理すると、機械的性質がよシ優れ、気孔の少ない
緻密な金型内面層が得られる。この場合の加熱雰囲気と
しては、Ｎ２、Ａｒ等の不活性雰囲気、及びＮ２、ＣＯ
等の還元性雰囲気を用いるのが有効であり、大気等の酸
化性雰囲気下の熱処理では効果が小さい。
、母型及び溶射皮膜を不活性雰囲気又は還元性雰囲気中
で熱処理すると、機械的性質がよシ優れ、気孔の少ない
緻密な金型内面層が得られる。この場合の加熱雰囲気と
しては、Ｎ２、Ａｒ等の不活性雰囲気、及びＮ２、ＣＯ
等の還元性雰囲気を用いるのが有効であり、大気等の酸
化性雰囲気下の熱処理では効果が小さい。
上記熱処理による効果は溶剤皮膜の金属部分の溶融及び
融着による気孔の減少に基づくものと思われ、一般に高
温の方が効果が大きいが、温度が高過ぎると流動が著し
くなって忠実性が損われることになる。従って適当な処
理温度は、通常、溶射皮１良の融点（ないし流動点）±
２００℃の範囲、好ましくは溶射皮膜の融点（ないし流
動点）士ｉｏｏ℃の範囲である。処理時間は母型の種類
、大きさ及び処理温度によシ異なるが、溶射皮膜の加熱
時間として通常７０ ％ ／ ００分、好ましくは３０
〜ｇｏ分が適当である。
融着による気孔の減少に基づくものと思われ、一般に高
温の方が効果が大きいが、温度が高過ぎると流動が著し
くなって忠実性が損われることになる。従って適当な処
理温度は、通常、溶射皮１良の融点（ないし流動点）±
２００℃の範囲、好ましくは溶射皮膜の融点（ないし流
動点）士ｉｏｏ℃の範囲である。処理時間は母型の種類
、大きさ及び処理温度によシ異なるが、溶射皮膜の加熱
時間として通常７０ ％ ／ ００分、好ましくは３０
〜ｇｏ分が適当である。
本発明方法においては、上記のようにして得られた溶射
皮膜、即ち金型内面層の上に金型本体の金属と同質又は
該金属と合金を形成する金属を溶射して中間層を形成さ
せ、その上に裏打ち金属を鋳込んで金型本体を形成させ
ることによって、金型内面層と金型本体とが一体化した
構造の金型な製造する。
皮膜、即ち金型内面層の上に金型本体の金属と同質又は
該金属と合金を形成する金属を溶射して中間層を形成さ
せ、その上に裏打ち金属を鋳込んで金型本体を形成させ
ることによって、金型内面層と金型本体とが一体化した
構造の金型な製造する。
金型内面層は溶射皮膜であるからその表面には微細な凹
凸がある。そこでその上に中間層の金属材料を溶射する
と、中間層の材料は上記凹凸の中に入シ込むので、金型
内面層と中間層とは機械的に強固に結合される。また中
間層の材料として金型本体の金属と同質又は該金属と合
金を形成する金属を用いているので、中間層の上に裏打
ち金属（即ち金型本体の全局）を鋳込金型本体とも強固
に結合される。このように中間層は金型内面層と金型本
体とを強固に結合し一体化させる役目を有している。
凸がある。そこでその上に中間層の金属材料を溶射する
と、中間層の材料は上記凹凸の中に入シ込むので、金型
内面層と中間層とは機械的に強固に結合される。また中
間層の材料として金型本体の金属と同質又は該金属と合
金を形成する金属を用いているので、中間層の上に裏打
ち金属（即ち金型本体の全局）を鋳込金型本体とも強固
に結合される。このように中間層は金型内面層と金型本
体とを強固に結合し一体化させる役目を有している。
上記のように中間層のための溶射材料の選択は金型本体
金属の種類に依存してお）、例えば金型本体金属として
Ａｌ系合金を用いる場合には中間層材料としても Ａ
ｌ系合金を使用すると良好な結果を得ることができる。
金属の種類に依存してお）、例えば金型本体金属として
Ａｌ系合金を用いる場合には中間層材料としても Ａ
ｌ系合金を使用すると良好な結果を得ることができる。
次に中間層の上に裏打ち金属を鋳込んで金型本体を形成
させるが、これは例えば次のようにして行なう。即ち、
金型内面層及び中間層が溶射形成された母型な鋳枠の中
にセットし、さらに適当な鋳造方案を設けて通常の方法
にて裏打ち金属を鋳込み、不要部分を切断し、必要な切
削及び研磨を加えて金型本体とする。
させるが、これは例えば次のようにして行なう。即ち、
金型内面層及び中間層が溶射形成された母型な鋳枠の中
にセットし、さらに適当な鋳造方案を設けて通常の方法
にて裏打ち金属を鋳込み、不要部分を切断し、必要な切
削及び研磨を加えて金型本体とする。
ここで金型本体の金属は得られる金型の使用条件に応じ
て選ばれるが、例えば金型の用途が樹脂成形の場合には
生産性、作業性等の面から熱伝導が良くかつ軽量の Ａ
ｌ系合金を使用するのが好適である。
て選ばれるが、例えば金型の用途が樹脂成形の場合には
生産性、作業性等の面から熱伝導が良くかつ軽量の Ａ
ｌ系合金を使用するのが好適である。
次に本発明の具体的態様を実施例によって、更に詳細に
説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の
実施例によって限定されるものではない。
説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の
実施例によって限定されるものではない。
実施例１
石膏で作成した母型の表面に、融点約／ ０００℃、硬
度ＨＢ約２５０の特性を有するＮｉ−Ｃｒ系合金を溶射
して金型内面層を形成させた。その隙、溶射前にガスバ
ーナーで母型を約’ｙｏｏ℃に加熱しておき、溶射中も
引続いて母型表面と溶射皮膜とを加熱した。金型内面層
を形成させた後、ガスバーナーを消炎し、その後、純Ａ
ｌ（９９％ＡＩ） を金型内面層の上に溶射して中間
層を形成させ引き続きＡｌ−８ｉ系合金の溶湯な鋳込ん
で金型本体を形成させた。冷却後、石膏を除去した結果
、歪がなく、硬度Ｈ］３約２５０の金型内面層を有し、
金型内面層と金型本体との密着性の良好な金型が得られ
た。
度ＨＢ約２５０の特性を有するＮｉ−Ｃｒ系合金を溶射
して金型内面層を形成させた。その隙、溶射前にガスバ
ーナーで母型を約’ｙｏｏ℃に加熱しておき、溶射中も
引続いて母型表面と溶射皮膜とを加熱した。金型内面層
を形成させた後、ガスバーナーを消炎し、その後、純Ａ
ｌ（９９％ＡＩ） を金型内面層の上に溶射して中間
層を形成させ引き続きＡｌ−８ｉ系合金の溶湯な鋳込ん
で金型本体を形成させた。冷却後、石膏を除去した結果
、歪がなく、硬度Ｈ］３約２５０の金型内面層を有し、
金型内面層と金型本体との密着性の良好な金型が得られ
た。
実施例コ
実施例１において、溶射によって金型内面層を形成させ
た後、これを還元性雰囲気（Ｈ，ｊ、ｌＳ−慢、ＣＨ４
２クチ、ＣＯｔ％）に制御された熱処理炉内に挿入し、
約７０００℃で３０分間保持した。これを炉外圧取り出
した後、引き続き、実施例１に記載した方法によシ中間
層及び金型本体を形成させて金型を製造した。その結果
、歪がなく、硬度Ｈ７３約、ｙｓｏで緻密性の高い金型
内面層を有し、金型内面層と金型本体との密着性の良好
な金型が得られた。
た後、これを還元性雰囲気（Ｈ，ｊ、ｌＳ−慢、ＣＨ４
２クチ、ＣＯｔ％）に制御された熱処理炉内に挿入し、
約７０００℃で３０分間保持した。これを炉外圧取り出
した後、引き続き、実施例１に記載した方法によシ中間
層及び金型本体を形成させて金型を製造した。その結果
、歪がなく、硬度Ｈ７３約、ｙｓｏで緻密性の高い金型
内面層を有し、金型内面層と金型本体との密着性の良好
な金型が得られた。
本発明方法によシ溶射によって転写形成させる金型内面
層の剥離・変形が有効に防止されるので、忠実性の高い
金型内面層が得られ、これを溶射中間層により金型本体
と一体化させることによシ比教的低価格、短時間で優れ
た特性の金型な製造することが可能となる。特に本発明
方法において高硬度・高融点材料を用いることによって
硬度が高く、かつ緻密な金型内面層を得ることができ、
従来の溶射転写法によシ製造された金型の問題点であっ
た耐久性を大幅に改善することができる。
層の剥離・変形が有効に防止されるので、忠実性の高い
金型内面層が得られ、これを溶射中間層により金型本体
と一体化させることによシ比教的低価格、短時間で優れ
た特性の金型な製造することが可能となる。特に本発明
方法において高硬度・高融点材料を用いることによって
硬度が高く、かつ緻密な金型内面層を得ることができ、
従来の溶射転写法によシ製造された金型の問題点であっ
た耐久性を大幅に改善することができる。
特許出願人 菱化軽金属工業株式会社代 理 人
弁理士 長谷用 −ほか１名
弁理士 長谷用 −ほか１名
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）成形面となる金型内面層とこれを裏打ちする金型
本体とを一体化させた構造の金型を製造するに当り、 （１）母型に溶射材料を溶射することによって金型内面
層を形成させ、その際、溶射 によって形成された溶射皮膜の全体を該 溶射に使用している溶射火炎とは別の加 熱源によって加熱しながら溶射を行なう こと、 （２）得られた金型内面層の上に金型本体の金属と同質
又は該金属と合金を形成する 金属を溶射して中間層を形成させること、 並びに、 （３）得られた中間層の上に裏打ち金属を鋳込んで金型
本体を形成させること、 を特徴とする金型の製造方法。 （２）特許請求の範囲第１項に記載の金型の製造方法に
おいて、金型内面層を形成させるに際してさらに母型の
被溶射面のうち少なくとも溶射直前の部分を上記溶射火
炎とは別の加熱源によって加熱しながら上記溶射を行な
うことを特徴とするもの。 （３）特許請求の範囲第１項又は第２項に記載の金型の
製造方法において、溶射により得られた金型内面層を不
活性雰囲気又は還元性雰囲気中で熱処理することを特徴
とするもの。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61075758A JPS62235461A (ja) | 1986-04-02 | 1986-04-02 | 金型の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61075758A JPS62235461A (ja) | 1986-04-02 | 1986-04-02 | 金型の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62235461A true JPS62235461A (ja) | 1987-10-15 |
Family
ID=13585452
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61075758A Pending JPS62235461A (ja) | 1986-04-02 | 1986-04-02 | 金型の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62235461A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02138453A (ja) * | 1988-08-12 | 1990-05-28 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 溶射皮膜の形成方法 |
-
1986
- 1986-04-02 JP JP61075758A patent/JPS62235461A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02138453A (ja) * | 1988-08-12 | 1990-05-28 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 溶射皮膜の形成方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3204303A (en) | Precision investment casting | |
| US3721534A (en) | Method of forming protective coatings on ferrous metal and the resulting article | |
| US4088046A (en) | Method of producing forming tools | |
| US2530853A (en) | Method of casting | |
| US3204917A (en) | Layered mold | |
| JPS5852462B2 (ja) | カナガタエンシンチユウゾウニオケル チルカボウシヨウバンド | |
| US3342564A (en) | Composite castings | |
| JPS58192661A (ja) | 連続鋳造用鋳型製造法 | |
| JPH04197570A (ja) | 耐熱層を有する鋳物の製造方法 | |
| JPH0250982B2 (ja) | ||
| US2874429A (en) | Process for casting-in of sintered metal bodies | |
| JPH07112619B2 (ja) | セラミックス被覆鋳造法 | |
| WO2013084323A1 (ja) | 鋳造用部材、及びその製造方法 | |
| JP2926228B1 (ja) | 鋳込法による２層チタンクラッド鋼板の製造方法 | |
| JPS60221151A (ja) | 連続鋳造用鋳型および鋳型内面溶射皮膜形成方法 | |
| JPS62218547A (ja) | 転写層の形成方法 | |
| JPS5939505B2 (ja) | 羽口の表面処理方法 | |
| JP3055590B2 (ja) | 薄肉鋳片の連続鋳造用冷却ドラムおよびその製造方法 | |
| CN101257985A (zh) | 铸模及其制造方法、以及使用铸模得到的铸件 | |
| JPH06254667A (ja) | 鋳物内面の被覆層形成方法 | |
| JPS61286077A (ja) | 鋼管圧延機用芯金 | |
| JPH0597464A (ja) | ガラス成形方法 | |
| JP2008119727A (ja) | 鋳造用金型及びその製造方法 | |
| JPH0517305B2 (ja) | ||
| CA1060279A (en) | Method of producing forming tool with mold shell of metal |