JPS62249042A - 表面解析装置 - Google Patents
表面解析装置Info
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- JPS62249042A JPS62249042A JP61093059A JP9305986A JPS62249042A JP S62249042 A JPS62249042 A JP S62249042A JP 61093059 A JP61093059 A JP 61093059A JP 9305986 A JP9305986 A JP 9305986A JP S62249042 A JPS62249042 A JP S62249042A
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Links
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims abstract description 31
- 238000005211 surface analysis Methods 0.000 claims description 10
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 11
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 abstract description 11
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 8
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 4
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000010183 spectrum analysis Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000001131 transforming effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野〕
この発明は、PELS (陽子エネルギー損失スペクト
ル分析)による表面解析装置、即ち、加速されたプロト
ンビーム等のイオンビームを試料に照射し、試料表面数
層からの散乱ビームを減速管中を通過させて減速し、こ
の減速された散乱ビームのエネルギーを測定することに
より試料表面の物性を解析する表面解析装置に関する。
ル分析)による表面解析装置、即ち、加速されたプロト
ンビーム等のイオンビームを試料に照射し、試料表面数
層からの散乱ビームを減速管中を通過させて減速し、こ
の減速された散乱ビームのエネルギーを測定することに
より試料表面の物性を解析する表面解析装置に関する。
第6図は、従来のPELSによる表面解析装置を示す概
略平面図である。イオン源2から引き出された例えばプ
ロトンビーム等のイオンビームを加速管6で加速し、加
速されたイオンビームを必要に応じて集束系8により集
束させる。その後質量分析マグネット10によりビーム
偏向(質量分析)を行う。偏向後、散乱チャンバ14内
の試料(図示省略)にイオンビームを照射するが、試料
の一部分にイオンビームを照射するために散乱チャンバ
14に入射前のビームライン上に11φ程度のスリット
(図示省略)を設置している。尚、イオンビームとして
は、He等を使用すると1 価のイオン以外に2価のイ
オンも散乱される可能性があり計測が複雑となるため、
実際は、1価イオンしか存在しないプロトンが用いられ
る。図中12は真空ポンプでるある。
略平面図である。イオン源2から引き出された例えばプ
ロトンビーム等のイオンビームを加速管6で加速し、加
速されたイオンビームを必要に応じて集束系8により集
束させる。その後質量分析マグネット10によりビーム
偏向(質量分析)を行う。偏向後、散乱チャンバ14内
の試料(図示省略)にイオンビームを照射するが、試料
の一部分にイオンビームを照射するために散乱チャンバ
14に入射前のビームライン上に11φ程度のスリット
(図示省略)を設置している。尚、イオンビームとして
は、He等を使用すると1 価のイオン以外に2価のイ
オンも散乱される可能性があり計測が複雑となるため、
実際は、1価イオンしか存在しないプロトンが用いられ
る。図中12は真空ポンプでるある。
試料に照射されたイオンビームは試料表面数層で散乱さ
れる。この散乱ビームは一般に種々のエネルギーを持っ
ており、そのエネルギー幅を抑制するために2Ill1
1φ程度のスリット(図示省略)を散乱後のビームライ
ン上に設置している。そしてこのスリットを通過した散
乱ビームを減速管18によって減速させた後、測定器2
0によってそのエネルギースペクトルを測定する。この
場合の減速後の電位は次のようにして決められる。
れる。この散乱ビームは一般に種々のエネルギーを持っ
ており、そのエネルギー幅を抑制するために2Ill1
1φ程度のスリット(図示省略)を散乱後のビームライ
ン上に設置している。そしてこのスリットを通過した散
乱ビームを減速管18によって減速させた後、測定器2
0によってそのエネルギースペクトルを測定する。この
場合の減速後の電位は次のようにして決められる。
即ち、第7図も併せて参照して、イオン源2におけるイ
オンビームの引出し電圧をVes加速管6での加速電圧
をV、散乱チャンバ14は接地されているものとしてそ
の電位を0とすれば、イオンビームの全加速電圧Vaは
、Va =V+Veとなる。この電圧からオフセット電
圧Voだけ下がった電位Vdを測定器20が設置されて
いる架台19 (大地からは絶縁されている)の電位と
すると(即ち減速管18での減速電圧を(Va −V。
オンビームの引出し電圧をVes加速管6での加速電圧
をV、散乱チャンバ14は接地されているものとしてそ
の電位を0とすれば、イオンビームの全加速電圧Vaは
、Va =V+Veとなる。この電圧からオフセット電
圧Voだけ下がった電位Vdを測定器20が設置されて
いる架台19 (大地からは絶縁されている)の電位と
すると(即ち減速管18での減速電圧を(Va −V。
)とすると)、減速されて測定器20に入る散乱ビーム
のエネルギーはqXVo (eV)となる(試料に衝
突した時のエネルギー損失を無視した場合)。ここでq
はイオン、例えばプロトンの単位電荷である。この場合
、試料に照射するイオンビームの加速エネルギーは、試
料表面でのイオンビームの中性化確率を抑える等のため
に高い方が好ましく例えば100KeV程度であり、一
方、散乱後のビームは、高精度でそのエネルギースペク
トルを測定可能とするために低い方が好ましく例えばI
KeV程度以下に減速する。
のエネルギーはqXVo (eV)となる(試料に衝
突した時のエネルギー損失を無視した場合)。ここでq
はイオン、例えばプロトンの単位電荷である。この場合
、試料に照射するイオンビームの加速エネルギーは、試
料表面でのイオンビームの中性化確率を抑える等のため
に高い方が好ましく例えば100KeV程度であり、一
方、散乱後のビームは、高精度でそのエネルギースペク
トルを測定可能とするために低い方が好ましく例えばI
KeV程度以下に減速する。
上記のように減速された散乱ビームのエネルギースペク
トルを測定することにより、固体の試料・表面の結晶構
造等の物性を調べることができる。
トルを測定することにより、固体の試料・表面の結晶構
造等の物性を調べることができる。
例えば第8図を参照して、イオンビーム3と試料15と
の衝突により生じるイオンビーム3のエネルギー損失を
ΔEとし、測定器20に入射する散乱ビーム4のエネル
ギーをEとすると次の関係式が成立する。
の衝突により生じるイオンビーム3のエネルギー損失を
ΔEとし、測定器20に入射する散乱ビーム4のエネル
ギーをEとすると次の関係式が成立する。
ΔE−qVo −E ・ ・ ・ (1
)なぜならば、測定器20に入射する散乱ビーム4のエ
ネルギーEは次のように表され、 E=qVa−ΔE−q(Va −Vo )これを変形す
れば(1)式が得られるからである。
)なぜならば、測定器20に入射する散乱ビーム4のエ
ネルギーEは次のように表され、 E=qVa−ΔE−q(Va −Vo )これを変形す
れば(1)式が得られるからである。
また、ここでは測定器20として例えばエネルギー分析
器21とチャネルトロン等の検出器22を用いており、
エネルギー分析器21に印加する電圧をV 、、Aとす
れば、上記エネルギーEは次のように表現することもで
きる。ここでkは定数である。
器21とチャネルトロン等の検出器22を用いており、
エネルギー分析器21に印加する電圧をV 、、Aとす
れば、上記エネルギーEは次のように表現することもで
きる。ここでkは定数である。
E=kqv、3A ・・・ (2)従って、
(1)式および(2)式から分かるように、エネルギー
損失スペクトルはオフセント電圧Voか電圧V EIA
を変化させることにより求めることができる0例えば、
試料表面の第1層目の原子と第2層目等の原子により散
乱されるビームを比較すると、第2層目等からの散乱ビ
ームは格子内を走る距離が長いためエネルギー損失ΔE
が大きくなり、例えば第9図のようなスペクトルが得ら
れる。
(1)式および(2)式から分かるように、エネルギー
損失スペクトルはオフセント電圧Voか電圧V EIA
を変化させることにより求めることができる0例えば、
試料表面の第1層目の原子と第2層目等の原子により散
乱されるビームを比較すると、第2層目等からの散乱ビ
ームは格子内を走る距離が長いためエネルギー損失ΔE
が大きくなり、例えば第9図のようなスペクトルが得ら
れる。
所が上記のような装置においては、散乱角θ(第8図参
照)は10度程度にしか設定できなかった。これは、散
乱角θを0度から大きくするに従って散乱ビーム4の立
体角が小さくなってビーム検出効率が低下するためと、
散乱角θをあまり大きくすると装置の各部分が機械的に
干渉してしまうためである。従って散乱角θがこのよう
に小さいため、散乱ビーム4が試料15の表面の乱れの
影響(即ちエネルギーストラグリング)を受けて、その
スペクトルがブロードになり解析精度があまり良くない
という問題があった。
照)は10度程度にしか設定できなかった。これは、散
乱角θを0度から大きくするに従って散乱ビーム4の立
体角が小さくなってビーム検出効率が低下するためと、
散乱角θをあまり大きくすると装置の各部分が機械的に
干渉してしまうためである。従って散乱角θがこのよう
に小さいため、散乱ビーム4が試料15の表面の乱れの
影響(即ちエネルギーストラグリング)を受けて、その
スペクトルがブロードになり解析精度があまり良くない
という問題があった。
また、イオンビーム3を試料15で散乱させずに測定器
20に直接入れて装置のエネルギー分解能を測定する場
合には、上記散乱角θが0度になるように散乱チャンバ
14以降のビームトランスポートライン等を接続し直す
必要があり、そのための作業およびアライメント調整に
非常に手間がかかると共に、組立の再現性も悪化すると
いう問題もあった。
20に直接入れて装置のエネルギー分解能を測定する場
合には、上記散乱角θが0度になるように散乱チャンバ
14以降のビームトランスポートライン等を接続し直す
必要があり、そのための作業およびアライメント調整に
非常に手間がかかると共に、組立の再現性も悪化すると
いう問題もあった。
これに対して発明者らは、散乱角θと散乱ビーム4の立
体角との関係の詳細な検討により、散乱角θをほぼ18
0度に設定すれば、シャープなスベク1−ルを得ること
ができると共にビーム検出効率もかえって大幅に向上す
ることを見出し7た。
体角との関係の詳細な検討により、散乱角θをほぼ18
0度に設定すれば、シャープなスベク1−ルを得ること
ができると共にビーム検出効率もかえって大幅に向上す
ることを見出し7た。
従ってこの発明は、散乱角がほぼ180度の測定を行う
ことができると共に、エネルギー分解能の測定も容易に
行うことができる表面解析装置を促供することを主たる
目的とする。
ことができると共に、エネルギー分解能の測定も容易に
行うことができる表面解析装置を促供することを主たる
目的とする。
この発明の表面解析装置は、加速されたイオンビームを
試料に照射し5、試料表面数層からの散乱ビームを減速
管中を通過させて減速し7、この減速された散乱ビーム
のエネルギーを測定することにより試料表面の物性を解
析する装置において、試料に照射前のイオンビームおよ
び試料からの散乱ビームの経路上に両ビームを偏向させ
る第1の偏向磁石を設け、かつ第1の偏向磁石を通過し
て来る散乱ビームの経路上に、当該散乱ビームを第1の
偏向磁石とは逆方向に偏向させて前記減速管の中心軸付
近に集束させる第2の偏向磁石を設け−1それによって
散乱角がほぼ180度における測定を可能にしたことを
特徴とする。
試料に照射し5、試料表面数層からの散乱ビームを減速
管中を通過させて減速し7、この減速された散乱ビーム
のエネルギーを測定することにより試料表面の物性を解
析する装置において、試料に照射前のイオンビームおよ
び試料からの散乱ビームの経路上に両ビームを偏向させ
る第1の偏向磁石を設け、かつ第1の偏向磁石を通過し
て来る散乱ビームの経路上に、当該散乱ビームを第1の
偏向磁石とは逆方向に偏向させて前記減速管の中心軸付
近に集束させる第2の偏向磁石を設け−1それによって
散乱角がほぼ180度における測定を可能にしたことを
特徴とする。
第1の偏向磁石は試料に照射するイオンビ・−ムと試料
からの散乱ビームを互いに反対方向に偏向させるので、
散乱角をほぼ180度に設定することができる。その場
合1、試料でのエネルギー損失を受けた程度の違いCご
より1、散乱ビームは第1の偏向磁石によって分散され
るけれども、この分散された散乱ビー19は、第2の偏
向磁石によって第1の偏向磁石とは逆方向に偏向させら
れて減速管の中心軸付近に集束させられる。その結果、
この発明の装置においては、シャープなスペクトルを得
ることができると共にビーム検出効率も大幅に向上する
。しかも広範囲のエネルギー損失の測定を正確に行うこ
ともできる。
からの散乱ビームを互いに反対方向に偏向させるので、
散乱角をほぼ180度に設定することができる。その場
合1、試料でのエネルギー損失を受けた程度の違いCご
より1、散乱ビームは第1の偏向磁石によって分散され
るけれども、この分散された散乱ビー19は、第2の偏
向磁石によって第1の偏向磁石とは逆方向に偏向させら
れて減速管の中心軸付近に集束させられる。その結果、
この発明の装置においては、シャープなスペクトルを得
ることができると共にビーム検出効率も大幅に向上する
。しかも広範囲のエネルギー損失の測定を正確に行うこ
ともできる。
また、第1の偏向磁石の極性切替えと磁束密度上昇とに
より、イオンビームを試料に照射せずに減速管へ導(こ
とができ、これによって装置の配置を変更することなく
エネルギー損失の絶対値を測定することができる。
より、イオンビームを試料に照射せずに減速管へ導(こ
とができ、これによって装置の配置を変更することなく
エネルギー損失の絶対値を測定することができる。
第1図は、この発明の一実施例に係る表面解析装置を示
す概略平面図である。この装置も上述した従来の装置と
原理は同様である。尚、従来例との相違点の説明に特に
関係ない部分は省略している。
す概略平面図である。この装置も上述した従来の装置と
原理は同様である。尚、従来例との相違点の説明に特に
関係ない部分は省略している。
この装置においては、散乱チャンバ14の手前側に例え
ば電磁石から成る第1の偏向磁石30を設け、言わば当
該偏向磁石30が三角形の頂点となるようにイオンビー
ム3の加速系と散乱ビーム4の測定系とを配置しており
、これによって180度の散乱角θにおける測定を可能
にしている。
ば電磁石から成る第1の偏向磁石30を設け、言わば当
該偏向磁石30が三角形の頂点となるようにイオンビー
ム3の加速系と散乱ビーム4の測定系とを配置しており
、これによって180度の散乱角θにおける測定を可能
にしている。
即ち、イオン源2から引き出され、質量分析マグネット
10で質量分析された例えばプロトンビーム等のイオン
ビーム3は、何枚かの電極7を有する加速管6によって
例えば従来と同様に100KeV程度のエネルギーにま
で加速され、その経路上に設けられた偏向磁石30で偏
向されて例えば超高真空の散乱チャンバ14内に導かれ
、試料15に照射される。この場合、試料15は、前述
した散乱角θが180度になるように設定されており、
従ってイオンビーム3は試料15の表面に垂直に入射す
ると共に、当該試料15からの散乱ビーム4もその表面
に垂直に出て行く。
10で質量分析された例えばプロトンビーム等のイオン
ビーム3は、何枚かの電極7を有する加速管6によって
例えば従来と同様に100KeV程度のエネルギーにま
で加速され、その経路上に設けられた偏向磁石30で偏
向されて例えば超高真空の散乱チャンバ14内に導かれ
、試料15に照射される。この場合、試料15は、前述
した散乱角θが180度になるように設定されており、
従ってイオンビーム3は試料15の表面に垂直に入射す
ると共に、当該試料15からの散乱ビーム4もその表面
に垂直に出て行く。
従って上記散乱ビーム4は、イオンビーム3と同一経路
を逆向きに進むことによって偏向磁石30を通過し、そ
こでイオンビーム3とは反対方向に偏向される。つまり
偏向磁石30によって、試料15に照射前のイオンビー
ム3と試料15からの散乱ビーム4の軌道が分離される
。尚、この例の場合の偏向磁石30の磁束の向きは紙面
に対して下向きである。
を逆向きに進むことによって偏向磁石30を通過し、そ
こでイオンビーム3とは反対方向に偏向される。つまり
偏向磁石30によって、試料15に照射前のイオンビー
ム3と試料15からの散乱ビーム4の軌道が分離される
。尚、この例の場合の偏向磁石30の磁束の向きは紙面
に対して下向きである。
偏向磁石30を通過して来る散乱ビーム4の経路上には
、当該散乱ビーム4を偏向磁石30とは逆方向に偏向さ
せて1、何枚かの電極17を存する減速管18の中心軸
付近に集束させる第2の偏向磁石40を設けている。こ
の偏向磁石40も例えば電磁石から成り、この例の場合
のその磁束の向きは紙面に対して上向きである。
、当該散乱ビーム4を偏向磁石30とは逆方向に偏向さ
せて1、何枚かの電極17を存する減速管18の中心軸
付近に集束させる第2の偏向磁石40を設けている。こ
の偏向磁石40も例えば電磁石から成り、この例の場合
のその磁束の向きは紙面に対して上向きである。
そして減速管18によって散乱ビーム4をそのエネルギ
ーが例えば従来と同様にI KeV程度以下になるよう
に減速し、測定器20によってそのエネルギースペクト
ルを測定するようにしている。
ーが例えば従来と同様にI KeV程度以下になるよう
に減速し、測定器20によってそのエネルギースペクト
ルを測定するようにしている。
上記のような偏向磁石40を設ける理由は次のとおりで
ある。即ち、偏向磁石30を通過して来る散乱ビーム4
は、試料15でのエネルギー損失ΔEを受けた程度の違
いにより、例えば第1図中に4a(そのエネルギー損失
ΔEa−0) 、4 b(そのエネルギー損失ΔEbン
0)、4c(そのエネルギー損失ΔEc>ΔEb)で模
式的に示すように偏向磁石30によって分散されるので
、この分散された散乱ビーム4を偏向磁石40によって
減速管18の中心軸付近に再び集束させるためである。
ある。即ち、偏向磁石30を通過して来る散乱ビーム4
は、試料15でのエネルギー損失ΔEを受けた程度の違
いにより、例えば第1図中に4a(そのエネルギー損失
ΔEa−0) 、4 b(そのエネルギー損失ΔEbン
0)、4c(そのエネルギー損失ΔEc>ΔEb)で模
式的に示すように偏向磁石30によって分散されるので
、この分散された散乱ビーム4を偏向磁石40によって
減速管18の中心軸付近に再び集束させるためである。
その場合、例えば第2図に示すように、偏向磁石40の
代わりに2組の電極51.52から成る偏向電極50を
設け、これによって上記散乱ビーム4が減速管18の中
心軸付近を通るようにその軌道を修正するような考えも
あるけれども、散乱ビーム4に含まれるビームのエネル
ギー損失ΔEの範囲が広い場合には、第1図のような偏
向磁石40を用いる方が好ましいと言える。
代わりに2組の電極51.52から成る偏向電極50を
設け、これによって上記散乱ビーム4が減速管18の中
心軸付近を通るようにその軌道を修正するような考えも
あるけれども、散乱ビーム4に含まれるビームのエネル
ギー損失ΔEの範囲が広い場合には、第1図のような偏
向磁石40を用いる方が好ましいと言える。
これは、散乱ビーム4に含まれるエネルギー損失ΔEの
範囲が広い場合には、偏向磁石30を通過することによ
る当該散乱ビーム4の分散が大きくなるけれども、偏向
電極50は散乱ビームの4の軌道を偏向(修正)する作
用はあるものの、大きく分散した散乱ビーム4(例えば
第2図中の40参照)を集束させる作用は殆どないから
である。
範囲が広い場合には、偏向磁石30を通過することによ
る当該散乱ビーム4の分散が大きくなるけれども、偏向
電極50は散乱ビームの4の軌道を偏向(修正)する作
用はあるものの、大きく分散した散乱ビーム4(例えば
第2図中の40参照)を集束させる作用は殆どないから
である。
そして分散した散乱ビーム4は、減速管18を通過して
分散したまま、あるいは場合によっては減速管18でレ
ンズ作用を受けて更に分散する等して測定器20に入る
ため、ビーム輸送効率が低下するだけでなく、測定器2
0に入る効率がエネルギー損失ΔEによって異なり、測
定の信頼性、定量性等を低下させる原因にもなる。
分散したまま、あるいは場合によっては減速管18でレ
ンズ作用を受けて更に分散する等して測定器20に入る
ため、ビーム輸送効率が低下するだけでなく、測定器2
0に入る効率がエネルギー損失ΔEによって異なり、測
定の信頼性、定量性等を低下させる原因にもなる。
所が上記偏向磁石40によれば、偏向磁石30によって
分散された散乱ビーム4は、減速管18の中心軸付近に
集束させられ、その状態で減速管18を通過して測定器
20に入射される。しかもその際、散乱ビーム4は減速
管18の中心軸付近を通過するため、減速管18によっ
てレンズ作用を受けてその軌道がずれるようなことも殆
ど起こらない。従って上記のような偏向磁石40によれ
ば、測定器20に対する散乱ビーム4の輸送効率が向上
すると共に、散乱ビーム4に含まれるビームのエネルギ
ー損失へEの違いによる測定器20への入射効率の違い
も無くなる。散乱ビーム4の輸送効率が向上すれば、測
定に必要なデータを早く取ることができるため、測定中
の試料の物性変化を少なくすることができ、また、エネ
ルギー損失ΔEの違いによる入射効率の違いが無くなれ
ば、エネルギー損失ΔEの大きなものから小さいものま
で広範囲の測定が正確に行えるようになる。
分散された散乱ビーム4は、減速管18の中心軸付近に
集束させられ、その状態で減速管18を通過して測定器
20に入射される。しかもその際、散乱ビーム4は減速
管18の中心軸付近を通過するため、減速管18によっ
てレンズ作用を受けてその軌道がずれるようなことも殆
ど起こらない。従って上記のような偏向磁石40によれ
ば、測定器20に対する散乱ビーム4の輸送効率が向上
すると共に、散乱ビーム4に含まれるビームのエネルギ
ー損失へEの違いによる測定器20への入射効率の違い
も無くなる。散乱ビーム4の輸送効率が向上すれば、測
定に必要なデータを早く取ることができるため、測定中
の試料の物性変化を少なくすることができ、また、エネ
ルギー損失ΔEの違いによる入射効率の違いが無くなれ
ば、エネルギー損失ΔEの大きなものから小さいものま
で広範囲の測定が正確に行えるようになる。
尚、測定器20は、例えば第3図に示すような構成のも
のとすれば、広範囲のエネルギー測定を一括して行うこ
とができる。即ち、測定器20はこの例では、平行平板
アナライザ23、マイクロチャネルプレート24、位置
検出器25等を備えており、散乱ビーム4をそのエネル
ギー、即ちエネルギー損失ΔEの違いによってマイクロ
チャネルプレート24上の各点に分散させ、その入射位
置を位置検出器25および位置演算器26によって検出
し、そして各位置におけるカウントをマルチチャネルア
ナライザ27に表示するようにしている。従って、この
ような測定器20によれば、試料15の表面各層からの
散乱ビームの量を一括して測定することができ、従来の
ようにオフセット電圧Voやエネルギー分析器21に印
加する電圧v tsaを変化させることなく例えば第9
図のようなスペクトルを得ることができる。そのためス
ペクトル分析中の状態変化の影響を排除することができ
るという利点がある。
のとすれば、広範囲のエネルギー測定を一括して行うこ
とができる。即ち、測定器20はこの例では、平行平板
アナライザ23、マイクロチャネルプレート24、位置
検出器25等を備えており、散乱ビーム4をそのエネル
ギー、即ちエネルギー損失ΔEの違いによってマイクロ
チャネルプレート24上の各点に分散させ、その入射位
置を位置検出器25および位置演算器26によって検出
し、そして各位置におけるカウントをマルチチャネルア
ナライザ27に表示するようにしている。従って、この
ような測定器20によれば、試料15の表面各層からの
散乱ビームの量を一括して測定することができ、従来の
ようにオフセット電圧Voやエネルギー分析器21に印
加する電圧v tsaを変化させることなく例えば第9
図のようなスペクトルを得ることができる。そのためス
ペクトル分析中の状態変化の影響を排除することができ
るという利点がある。
第4図は、散乱角の変化に対する最適化した立体角の変
化を示す図であり、縦軸は対数目盛である。この図から
分かるように、散乱角θを180度に設定した場合、最
適化した立体角ΔΩ(str〕、即ちビーム検出効率は
、例えば散乱角θが20度の場合に比べて数百倍(試料
15が金の場合)〜数千倍(試料15がシリコンの場合
)向上する。しかも、散乱角θが180度の場合は散乱
ビーム4は試料15の表面の乱れの影響を受けないため
、換言すれば散乱ビーム4は試料表面の原子の影響のみ
を受けるため、シャープなスペクトルを得ることができ
、これによって解析精度も向上する。
化を示す図であり、縦軸は対数目盛である。この図から
分かるように、散乱角θを180度に設定した場合、最
適化した立体角ΔΩ(str〕、即ちビーム検出効率は
、例えば散乱角θが20度の場合に比べて数百倍(試料
15が金の場合)〜数千倍(試料15がシリコンの場合
)向上する。しかも、散乱角θが180度の場合は散乱
ビーム4は試料15の表面の乱れの影響を受けないため
、換言すれば散乱ビーム4は試料表面の原子の影響のみ
を受けるため、シャープなスペクトルを得ることができ
、これによって解析精度も向上する。
一方、装置のエネルギー分解能を測定する場合は、偏向
磁石30の極性を切り替えて磁束の向きを上記の場合と
は逆転させ(即ち紙面に対して上向きとし)、かつその
磁束密度を所定の値にまで上昇させることにより、第1
図のAで示すようにイオンビーム3を偏向磁石30の入
口付近で大きく偏向させてそのまま(即ち試料15に照
射せずに)偏向磁石40、減速管18の中心軸を通して
測定器20に入射させることができる。これによって、
装置の配置を変更することなく、エネルギー分解能を測
定することができる。従って従来の装置のようにアライ
メント調整等に手間がかかったり、組立ての再現性が悪
化したりするようなことはない。
磁石30の極性を切り替えて磁束の向きを上記の場合と
は逆転させ(即ち紙面に対して上向きとし)、かつその
磁束密度を所定の値にまで上昇させることにより、第1
図のAで示すようにイオンビーム3を偏向磁石30の入
口付近で大きく偏向させてそのまま(即ち試料15に照
射せずに)偏向磁石40、減速管18の中心軸を通して
測定器20に入射させることができる。これによって、
装置の配置を変更することなく、エネルギー分解能を測
定することができる。従って従来の装置のようにアライ
メント調整等に手間がかかったり、組立ての再現性が悪
化したりするようなことはない。
更に、第1図と第6図とを比べれば明らかなように、こ
の発明に係る装置においては、イオンビーム3の加速系
と散乱ビーム4の測定系とが散乱チャンバ14に対して
同じ側にしかも互いに接近して配置できるため、装置が
大幅に小形化されるという利点もある。
の発明に係る装置においては、イオンビーム3の加速系
と散乱ビーム4の測定系とが散乱チャンバ14に対して
同じ側にしかも互いに接近して配置できるため、装置が
大幅に小形化されるという利点もある。
所で上記偏向磁石30.40の配置等は、より細かく言
えば、減速管18に入射する散乱ビーム4の減速管18
の中心軸に対する傾きφとその入口部での偏位d(共に
第5図参照)がエネルギー損失ΔEに大きく依存せず、
しかも各ビームの軌道に大きな違いを与えないようなも
のを採用するのが好ましい。また偏向磁石40は、一平
面(例えば水平面)内における偏向・集束作用を有する
ものでも良いけれども、二手面(例えば水平面および垂
直面)における偏向・集束が可能な二重集束磁石とする
方がより好ましい。そのようすれば、散乱ビーム4の輸
送効率、測定精度等が一層向上するからである。
えば、減速管18に入射する散乱ビーム4の減速管18
の中心軸に対する傾きφとその入口部での偏位d(共に
第5図参照)がエネルギー損失ΔEに大きく依存せず、
しかも各ビームの軌道に大きな違いを与えないようなも
のを採用するのが好ましい。また偏向磁石40は、一平
面(例えば水平面)内における偏向・集束作用を有する
ものでも良いけれども、二手面(例えば水平面および垂
直面)における偏向・集束が可能な二重集束磁石とする
方がより好ましい。そのようすれば、散乱ビーム4の輸
送効率、測定精度等が一層向上するからである。
上記のような偏向磁石30.40の配置等の具体例を第
5図に示す。偏向磁石30は図示のような形状であり、
偏向角α1、α□は共に45°、曲率半径ρ1、ρ2は
共に50CI%角度β1、β2は共に0°としている。
5図に示す。偏向磁石30は図示のような形状であり、
偏向角α1、α□は共に45°、曲率半径ρ1、ρ2は
共に50CI%角度β1、β2は共に0°としている。
一方偏向磁石40は、二重集束磁石であり、偏向角α、
は45°、曲率半径ρ3は約50cm、角度β1、β、
は共にOoとしている。そして偏向磁石30と試料15
との距離L1は100cm、偏向磁石30と40との距
離L2は50co+、偏向磁石40と減速管18との距
離り、は50cmとしている。
は45°、曲率半径ρ3は約50cm、角度β1、β、
は共にOoとしている。そして偏向磁石30と試料15
との距離L1は100cm、偏向磁石30と40との距
離L2は50co+、偏向磁石40と減速管18との距
離り、は50cmとしている。
上記例のような構成において、試料15として例えばG
aAsを用いる場合、GaとAsからの散乱ビーム4の
エネルギー損失ΔEの差は約380eVあるけれども、
散乱ビーム4の偏位dおよび(頃きφは、Gaからのも
のはそれぞれOcm、1゜47°、Asからのものはそ
れぞれOcm、 1. 37°となり、この傾きφの差
は無視し得る値である。つまり、Gaからの散乱ビーム
4とAsからの散乱ビーム4とは減速管18に入射する
際はほぼ同一軌道となり、前述したように測定器20に
おいていずれも正確な測定が可能となる。
aAsを用いる場合、GaとAsからの散乱ビーム4の
エネルギー損失ΔEの差は約380eVあるけれども、
散乱ビーム4の偏位dおよび(頃きφは、Gaからのも
のはそれぞれOcm、1゜47°、Asからのものはそ
れぞれOcm、 1. 37°となり、この傾きφの差
は無視し得る値である。つまり、Gaからの散乱ビーム
4とAsからの散乱ビーム4とは減速管18に入射する
際はほぼ同一軌道となり、前述したように測定器20に
おいていずれも正確な測定が可能となる。
以上のようにこの発明においては、散乱角をほぼ180
度に設定することができ、これによってシャープなスペ
クトルが得られると共にビーム検出効率も大幅に向上す
る。また、減速管に入射する散乱ビームをその中心軸付
近に集束させることができるので、ビームの輸送効率が
向上すると共に、広範囲のエネルギー損失の測定を正確
に行うことが可能となる。
度に設定することができ、これによってシャープなスペ
クトルが得られると共にビーム検出効率も大幅に向上す
る。また、減速管に入射する散乱ビームをその中心軸付
近に集束させることができるので、ビームの輸送効率が
向上すると共に、広範囲のエネルギー損失の測定を正確
に行うことが可能となる。
更に、装置の配置を変更することなくエネルギー分解能
の測定も可能であり、しかも装置の大きさも従来の装置
に比べて小形化される。
の測定も可能であり、しかも装置の大きさも従来の装置
に比べて小形化される。
第1図は、この発明の一実施例に係る表面解析装置を示
す概略平面図である。第2図は、偏向電極を用いた表面
解析装置の例を部分的に示す概略平面図である。第3図
は、第1図の測定器の一例を示す概略図である。第4図
は、散乱角の変化に対する最適化した立体角の変化を示
す図である。 第5図は、第1図の偏向磁石の具体的な配置等の一例を
示す概略平面図である。第6図は、従来の表面解析装置
を示す概略平面図である。第7図は、第6図の装置の電
位の区分を示す図である。第8図は、第6図の装置の原
理を説明するための図である。第9図は、第6図の装置
によって得られるスペクトルを説明するための図である
。 2・・・イオン源、3・・・イオンビーム、4,4a、
4bl 4c・・・散乱ビーム、15・・・試料、1
8・・・減速管、20・・・測定器、30・・・第1の
偏向磁石、40・・・第2の偏向磁石、θ・・・散乱角
す概略平面図である。第2図は、偏向電極を用いた表面
解析装置の例を部分的に示す概略平面図である。第3図
は、第1図の測定器の一例を示す概略図である。第4図
は、散乱角の変化に対する最適化した立体角の変化を示
す図である。 第5図は、第1図の偏向磁石の具体的な配置等の一例を
示す概略平面図である。第6図は、従来の表面解析装置
を示す概略平面図である。第7図は、第6図の装置の電
位の区分を示す図である。第8図は、第6図の装置の原
理を説明するための図である。第9図は、第6図の装置
によって得られるスペクトルを説明するための図である
。 2・・・イオン源、3・・・イオンビーム、4,4a、
4bl 4c・・・散乱ビーム、15・・・試料、1
8・・・減速管、20・・・測定器、30・・・第1の
偏向磁石、40・・・第2の偏向磁石、θ・・・散乱角
Claims (1)
- (1)加速されたイオンビームを試料に照射し、試料表
面数層からの散乱ビームを減速管中を通過させて減速し
、この減速された散乱ビームのエネルギーを測定するこ
とにより試料表面の物性を解析する装置において、試料
に照射前のイオンビームおよび試料からの散乱ビームの
経路上に両ビームを偏向させる第1の偏向磁石を設け、
かつ第1の偏向磁石を通過して来る散乱ビームの経路上
に、当該散乱ビームを第1の偏向磁石とは逆方向に偏向
させて前記減速管の中心軸付近に集束させる第2の偏向
磁石を設け、それによって散乱角がほぼ180度におけ
る測定を可能にしたことを特徴とする表面解析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61093059A JPS62249042A (ja) | 1986-04-22 | 1986-04-22 | 表面解析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61093059A JPS62249042A (ja) | 1986-04-22 | 1986-04-22 | 表面解析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62249042A true JPS62249042A (ja) | 1987-10-30 |
Family
ID=14071938
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61093059A Pending JPS62249042A (ja) | 1986-04-22 | 1986-04-22 | 表面解析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62249042A (ja) |
-
1986
- 1986-04-22 JP JP61093059A patent/JPS62249042A/ja active Pending
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