JPS6227018A

JPS6227018A - 濾過装置

Info

Publication number: JPS6227018A
Application number: JP60165941A
Authority: JP
Inventors: Takao Higuchi; 孝雄樋口
Original assignee: Hoya Corp
Current assignee: Hoya Corp
Priority date: 1985-07-29
Filing date: 1985-07-29
Publication date: 1987-02-05
Also published as: JPH0587283B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は半導体製造用のレジスト液、レジストシンナー
、レジスト現像液、エツチング液、リンス液等の液体を
濾過する装置に関するものである。

〔従来の技術〕

一般に、所望の物品、例えばフォトマスクブランク上に
レジスト液を滴下するレジスト液滴下装置にレジスト液
を収容する前に、レジスト液を入手した後、このレジス
ト液中に混在するレジスト液のゲル状物や他の異物を除
去するために濾過する必要がある。しかし、１度のＪ過
ではレジスト液のゲル状物や他の異物を完全に除去でき
る訳ではなく、″またフィルタ自体に付着している異物
を濾過後のレジスト液が取シ込む可能性が有シ、除去効
率を高め清浄なレジスト液を得るためには繰シ返し濾過
を行なう必要がある。

第３図はこの種の濾過装置の従来例を示すもので、濾過
すべきレジスト液１を収容した第１容器２と、この第１
容器２を収容する加圧器３と、前記第１容器２内のレジ
スト液１を加圧するため前記加圧器３内にＮ２等の不活
性ガスを供給するための配管４と、前記第１容器２内の
レジスト液１を第２容器５に移送する九めの配管６と、
この配管６の途中に介在され前記レジスト液１ｔ−濾過
するフィルタ１等で構成されている。

レジスト液１の濾過に際しては、配管４によって不活性
ガスを加圧器３内に連続的に導き、該加圧器３内の圧力
を大気圧よシ高くする。すると、この圧力によりＭＩ容
器２中のレジスト液１は配管６を通って第２容器５に移
送され、その途中においてフィルタ１によシ濾過される
。そして、レジスト液１のほぼ全量が配管６内に移送さ
れると、不活性ガスの供給を停止し、レジスト液１の１
回目の濾過が終了する１次いて２回目のａ過を行なうた
めに、第２容器５内に収容されたレジスト液１ｔ−空に
なつｆｃ帛ｉ容器２に移し替える。以下、上記と同様の
操作を繰ヤ返し濾過を行なう。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、従来の濾過装置においては、濾過を繰シ
返し行なう毎に、第２容器５に収容されたレジスト液１
を空になった第１容器２に移し替えなければならず、そ
の作業が面倒で煩しいという不都合があった。しかも、
移し替えの際には第１容器２を加圧器３から取り出す必
要があるので、配管６の特に第１容器２側端部がレジス
ト液１以外の物に接触して汚染されｆｃシ、空気が配ｖ
６内に入シ込む。この空気は次回の濾過の際、その一部
がフィルタ７内に入シ込み、残シがレジスト液１巾に微
細な気泡となって混入しフィルタＩを通る。したがって
フィルタ１内に残った空気は該フィルタ１に付着してい
るレジスト液１を乾燥せしめ、その結果としてゲル状異
物が生成付着し、フィルタとしての機能を果さなくする
。また、気泡を含んだレジスト液１を用いてレジス）Ｎ
を形成すると、気泡によって良質のレジスト膜が得られ
ないという欠点があった。

このように、従来装置においては、１度濾過したレジス
ト液１も汚染される可能性が高く、繰夛返しの濾過の効
果が損なわれるものでるる。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明に係る濾過装置は上述したような問題を解決すべ
くなされたもので、その第１の目的は繰シ返しの濾過を
連続的に行なう装置を提供することにあシ、また第２の
目的は前記の連続濾過を自動的に行なう装置を提供する
ことにある。

前記第１の目的を達成するため、本発明に係る濾過装置
は、濾過すべき液体を収容する第１１Ｍ２容器と、前記
液体ｆｔ第１容器から第２容器へおよびその逆に移送す
るための手段と、前記液体を濾過する手段と、この濾過
手段によって濾過され友液体を最終的に収容する第３容
器とを具備し、前記第１容器と前記ｍ２容器とを接続す
る流路中にこれら容器から移送される前記液体を前記濾
過手段に送るべく制御する第１弁を設け、前記濾過手段
から排出され友液体を、前記第３容器と第３弁とに選択
的に送るべく制御する第２弁′ｆｔ設け、前記第３弁に
移送された液体を該弁によって前記第１．第２容器に選
択的に送るべくＭ御するようにしたものである。

また、前記第２の目的を達成するため本発明の別の発明
に係る濾過装置は、ｌ！１ｉＩｉすべき液体を収容する
第１．第２容器と、前記液体を第１容器から第２容器へ
およびその逆に移送するための手段と、前記液体を濾過
する手段と、この濾過手段によって濾過された液体を最
終的に収容する第３容器とを具備し、前記第１容器と前
記第２容器とを接続する流路中に、これら容器から移送
される前記液体を前記濾過手段に送るべく制御する第１
弁を設け、前記濾過手段から排出された液体を、前記第
３容器と第３弁とに選択的に送るべく制御する第２弁を
設け、前記第３弁に移送された液体を該弁によって前記
第１．第２容器に選択的に送るべく制御し、さらに前記
第１容器又は前記第２容器の下方に重量測定装置を設け
、かつ前記重量測定装置からの指示を受けて、前記液体
の移送動作を制御すると共に前記第１．第２および第３
弁の流路を切シ替える制御装置を設けたものである。

〔作用〕

本発明においては液体をその都度手作業で移し替える必
要がないので、繰り返しの濾過を連続的に行なえ、配管
の汚染、空気の混入等を防止する。

また、連続濾過を自動的に行なうため、取扱いが簡単で
、省力化を可能にする。

〔実施例〕

以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて詳細に説明
する。

第１図は本発明に係る濾過装置の第１実施例を示す概略
構成図である。

本実施例は、レジスト液１（例えばポジ型しジス）ＭＰ
−１３５０（シュプレー社商品名）を収容す・　る第１
および第２容器２，５と、第１および第２容器２，５を
それぞれ収容する第１および第２加圧器３，１０と、第
１容器２内のレジスト液１を第２容器５に移送するため
にＷＪｌ加圧器３内に不活性ガス（例えばＮ２ガス）ｆ
ｔ供給するための第１ガス導入管４と、第２容器５内の
レジスト液１を第１容器２または後記する第３容器１３
に移送するために第２加圧器１０内に不活性ガス（例え
ばＮ２ガス）を供給するための第２ガス導入管１２と、
レジスト液１を濾過するための四弗化エチレン樹脂から
なるフィルタ７（例えば、メンブランフィルタでちゃ１
日本ミリボア・リミテッド社製フローレックス）と、謙
遜されたレジスト液１を最終的に収容する第３容器１３
と、前記第１．第２および第３容器２，５．１３ｔ−接
続する配管１５．１６．１７と、これらの配管１５．１
６．１７中に配設された第１．第２および第３弁２０，
２１゜２２等で概ね構成されている。そして、前記配管
１５は、前記第１容器２から８２容器５にレジスト液１
を移送するため、第１　、＠２　、＠３および第４管１
５Ａ　、　ｔ５ｇ　、　１５Ｃ、１５Ｄとで構成され、
第２管１５Ｂの途中に前記フィルタ７が介在されている
。前記第２容器５から第１容器２にレジスト液１を移送
するための前記配管１６は、第１．第２゜第３および第
４管１６Ａ　、　１５Ｂ　、　１５０　、１６Ｂとで構
成されて、前記配管１５と第２および第３管１５Ｂ。

１６Ｃを共用し、ｉｌ菅１５ｈ　、　１６ｈと第２菅１
５Ｂとの接続部に前記第１弁２０が配設され、また第２
管１５Ｂと第３管１５Ｃ’および配管１７との接続部に
第２弁２１が、そして第３管１５ｃと第４Ｗ１５Ｄ。

１６Ｂとの接続部に第３弁２２がそれぞれ配設されてい
る。なお、前記第１．第２および第３弁２０゜２１．２
２としては、ダイヤフラム式の三方パル７’（ＩＦ’ｌ
ｌｔハメイステフロン７０−コントロールコンポーネン
ツ社製の８５６）が使用されている。

次に、このように構成された濾過装置において。

約Ｉ　Ｋｇのレジスト液１の５回の連続濾過の方法を詳
述する。

先ず、濾過すべきレジスト液１ｆ！：収容した第１容器
２を第１加圧器３に収納し、空の第２容器５を第２加圧
器１０に収納する。また、第１．第２および第３弁２０
．２１．２２０流路を切換えて第１管１５Ａと第２管１
５Ｂ、第２管１５Ｂと第３管１５ｃ。

および第３管１５Ｃと第４管１５Ｄとをそれぞれ連通さ
せ、配管１５によるレジスト液１の移送を可能な状態に
する１次に、第１ガス導入管４からＮ２ガスをＭｌ加圧
器３内に連続的に供給し、該加圧器３内の圧力を大気圧
よ、９０．４にｙ／ｃｍ２高くすると、第１容器２内の
レジスト液１は前記配管１５を通って第２容器５に移送
収容され、その途中においてフィルタＴを通過する際、
レジスト液１内の異物が該フィルタ１によって除去され
る。なお、第１容器２内のレジスト液１を加圧すると、
その一部は配ＩＦ１６の第４管１６Ｂに送夛込まれ滞留
する。

そして、レジスト液１のほぼ全量が第２容器５および配
管１５に移送されると、第１加圧器３へのＮ２ガスの供
給を°停止し、該加圧器３内の圧力を大気圧に戻すと共
に前記第１および第３弁２０゜２２の流路を第２容器５
から第１容器２ヘレジスト液１を移送すべく切シ替える
。つ′１シ、配管１６の第１管１６Ａと第２管１５Ｂと
を連通させ、第３管１５Ｃと第４管１６Ｂとを連通させ
る。これによって、第１および第２容器２，５は配管１
６によって互いに接続される。次に、第２ガス導入管１
２からＮ２ガスを第２加圧器１０内に連続的に供給し。

該加圧器１０内の圧力を前述したと同様に高くすると、
第２容器５内のレジスト液１が配管１６を通って第１容
器２に移送収容され、その途中においてフィルタ１が２
Ｒ目の異物除去を行なう。そして、レジスト液１のほぼ
全量が第１容器２および配管１６に移送されると、第２
加圧器１０へのＮ２ガスの供給を停止し、該加圧器１０
内の圧力を大気圧に戻すと共に前記第１．第３弁２０，
２２の流路を、再び第１容器２から第２容器５ヘレジス
ト液１を移送すべく切シ替える。、つまシ、第１管１５
Ａと第２管１５Ｂ　ｔ、第３管１５Ｃと第４管１５Ｄと
全連通させ、第１．第２容器２，５を配管１５によって
接続する。

そして、前述したと同様、第１容器２から絹２容器５に
レジスト液１を移送し、更に第２容器５からｊＩ！１容
器２にレジスト液１を移送すると、レジスト液１は第１
．第２容器２．５間を２往後したことになる。したがっ
て、フィルタ１による異物除去はこの２往復によって合
ｈ１４回行なわれる。

次に、ｉｇｌおよび第２弁２０，２１の流路を、第１容
器２から第３容器１３に移送すべく切シ替える。つまヤ
、配管１５のＭｌおよび第２管１５Ａ。

１５Ｂを連通させ、第２管１５Ｂと配管１７とを連通さ
せる。そして、第１ガス導入管４にＮ２ガスを供給して
第１加圧器３に連続的に供給し、該加圧器３内の圧力を
前述したと同様に高くすると、第１容器２内のレジスト
液１は配ｖ１５の第１管１５Ａ−Ｍｌ弁２０−第２管１
５Ｂ−フィルタ１−第２管１５Ｂ−第２弁２１および配
管１７を通って第３容器１３に移送収容され、前記フィ
ルタ１全通過する際、５度目の異物除去が行なわれる。

第３容器および配管１５Ａ内にほぼ全量のレジスト液１
が移送収容されると、第１加圧器３へのＮ２ガスの供給
を停止し該加圧器３内の圧力を大気圧に戻すと、レジス
ト液１の連続濾過を終了する。

以上のように本実施例においては第１．第２ガス導入管
４，１２によるＮ２ガスの供給、停止と、第１．第２お
よび第３弁２０，２１，２２の流路切シ替えを行なうだ
けで、レジスト液１を第１および第２容器２，５間を連
続的往復移送させることができるので、レジスト液１を
手で第２容器５から第１容器２に移し替える必要がなく
、濾過操作が簡単である。また、第１および第２容器２
，５をそれぞれ第１およびＭ２加圧器３，１０に収容し
ているので、配管１５．１６．特にその第１管１５Ａ・
１６Ａ内に空気が入シ込まず、したがって。

空気によるフィルタ１の乾燥、ゲル状異物の生成。

さらには空気のレジスト液中への混入等を確実に防止し
得る。

第２図は本発明のＭ２実施例を示す概略構成図である。

本実施例は、第１および第２加圧器３゜１０への不活性
ガスの供給、停止を切シ替える手段として第１および第
２ガス導入管４，１２にそれぞれ第１．第２一方電磁弁
３０．３１（例えば■小金井製作新製の０５０ＬＥ１）
を配設し１重量測定装置３３（例えば（株）ニーアンド
ディ機器社裂の重量測定器）を配設してその上に第１加
圧器３を載置し、さらにこのｉ量測定装置３３からの信
号によシ第１．第２．第３弁２０，２１．２２および前
記第１．第２三方電磁弁３０．３１を駆動制御する制御
装置３５を設けた点が上記実施例と相異し、その他の構
成は全く同様である。

次に１本実施例による約ｌ　Ｋｙのレジスト液１の５回
の連続濾過方法を詳述する１、先ず、濾過すべきレジスト液１を収容した第１容器２を
第１加圧器３に収容し、空の第２容器５を第２加圧器１
０に収納する。次に、第１．第２および第３弁２０，２
１．２２の流路を切夛替えて第１および第２容器２，５
ｔ−配管１５によって接続すると共に第１［磁弁３０を
開いて第１ガス導入管４からＮ２ガスを第１加圧器３内
に連続的に供給し、第１加圧器３内の圧力を大気圧より
高くする。すると、第１容器２内のレジスト液１は前記
配管１５を通って第２容器５に移送され、その途中にお
いてフィルタ１によ少１度目の濾過が行なわれる。この
時、重量測定装置３３の終了値（下限）として、レジス
ト液１の濾過工程による損失分、すなわち第１容器２内
のレジスト液１のほぼ全量が配管１５に移った時に、第
１容器２と第１加圧器３の重量を加えた値をあらかじめ
セットしておくので、この値になるまで、レジスト液１
が濾過されながら第１容器２から第２容器５に後述する
方法によって流路が切シ替るまで連続的に移送される。

また、レジスト液１の濾過回数を制御装置３５にセット
しておくことによｐ、レジスト液１が後述するように連
続的に第１容器２と第２容器５との間を濾過されなから
２往復する。

さて、前記値（下限値）を重量測定装置３３が感知する
と１重量測定袋［３３から制御装置３５に対して信号が
送出される（矢印Ａ）。この信号によシ制御装［３５内
の２つの三方電磁弁用リレーと、２つの三方パルプ用リ
レー（いずれも図示せず）が共に動作し、第１三方電磁
弁３０を閉じ。

第２三方電磁弁３１を開き、第１および第３弁２０．２
２の流路を切ル替えるべく信号をそれぞれの弁に同時に
出す（矢印Ｂ、矢印Ｃ１矢印り。

矢印Ｅ）。すなわち、第１三方電磁弁３０は第１三方電
磁弁用リレーの信号によって閉じられて第１ガス導入管
４によるＮ２ガスの供給を停止させると同時に、後述す
るように第２容器５内のレジスト液１１：第１容器２に
移送収容するために、該第１三方電磁弁３０から出てい
るリーク用管３０Ａを開き、第１加圧器３内を大気圧に
戻す１．一方。

２つの三方パルプ用リレーからの信号によシ、第１およ
び第３弁２０．２２０流路を変更するために、加圧され
た空気を前記弁２０．２２に導くための弁（図示せず）
が開かれる３、その結果、第１および第３弁２０，２２
０流路は第２容器５から第１容器２にレジスト液１を送
るべく切少替わり。

第１および第２容器２，５を配管１６で接続する。さら
に、第２三方電磁弁用リレーの信号によって第２三方電
磁弁３１が開かれるので、第２ガス導入管１２によるＮ
２ガスの連続的供給が開始され、第２加圧器１０内の圧
力を大気圧よシ高くする。、シたがって、第２容器５内
のレジスト液１は配管１６を通って第１容器２に移送吸
容され、その途中においてフィル／１による２度目の濾
過が行なわれる。

この時、ｉ−ｉ測定袋［３３の終了値（上限）として、
レジスト液１の濾過工程による損失分、すなわち第２容
器５内のレジスト液１のほぼ全量が配管１６に移った時
に、第１容器２内に収容されないレジスト液の重量（例
えば０．１　Ｋｙ　）を減じた重量と、第１容器２およ
び第１加圧器３の重量を加えた値をあらかじめセットし
ておくことで、この値になるまでレジスト液１がフィル
タ１によって濾過されながら、第２容器５から第１容器
２に後述する方法によって流路が切夛替わるまで連続的
に移送される、。

すなわち、前述した値（上限値）をＭ量測定装［３３が
感知すると、該重量測定装置３３は信号を制御装置３５
に送出し、この信号によって制御装置３５が動作し、前
記第１．第２三方電磁弁３０゜３１および第１．第３弁
２０，２２の流路を切シ替える。この結果、第１三方電
磁弁３０が開き、第２三方電磁弁３１が閉じてそのリー
ク用管３１Ａにより第２加圧器１０を大気圧に戻し、第
１および第３弁２０，２２０流路切り替えによって第１
および第２容器２．５を配管１５で接続する。これによ
ってレジスト液１の１往復が終了する。

以上述べた一連の動作をもう一度繰シ返し、レジスト液
１をさらに１往復させると、フィルタＴによる都合４回
の濾過が行なわれる。そして、４度目の濾過が終了し第
１容器２および配管１６内にレジスト液１のほぼ全量が
収容されると、制御装置３５内のカウンタ（図示せず）
が濾過回数を計数して第２弁２１の流路を変更すべく信
号を第２三方パルプ用リレー（図示せず）に送出する９
、すると、第２三方パルプ用リレーが動作して信号（矢
印Ｆ）を送出し、この信号にょシ第２弁２１の流路を変
更するために、加圧された空気を導くための弁（図示せ
ず）が開き、第２弁２１の流路を切シ替えることで、第
２管１５Ｂと配管１１とを連通させる。また、第１．第
２三方電磁弁３０・３１と、第１．第３弁２０．２２の
動作は前述した通シである。このため、第１容器２内の
レジスト液１は配管１５の第１；第２管１５Ａ　、　１
５Ｂおよび配管１１を通って第３容器１３に移送収容さ
れ。

その途中においてフィルタ１にょ夛５度目の濾過が行な
われる。

この時、前記した値（下限値）を重量測定装置３３が感
知し、制御装置３５に対して信号（矢印Ａ）を送出する
。制御装置３５は既に４度目の濾過を計数しているため
、この信号によシ、制御装置３５内の第１三方電磁弁用
リレーのみが動作し。

第１三方電磁弁３０ｔ−閉じさせる。この結果、第１ガ
ス導入管４にょるＮ２ガスの供給が停止し。

第１７７Ｊｌ圧器３内の圧力を大気圧に前記電磁弁３゜
のリーク用管３０Ａで戻すことにょシ、レジスト液１の
濾過を終了する。

したがって、このような構成からなる濾過装置によれば
、上記実施例と同様に、繰シ返しの濾過を連続的に、し
かも自動的に行なうことができる。

なお、上記実施例はいずれも重量測定装置３３を第１容
器２の下方に配設した場合について説明したが５本発明
はこれに限らず第２容器５の下方に配設してもよいこと
は勿論である。

また、上記第１及び第２実施例として、レジスト液の移
送手段として不活性ガスのガス圧を用いたが、これに限
らず、配管１５ｏ第１管１５Ａ及び配管１６の第１管１
６Ａにポンプを配設してもよく、さらに配管１５　（１
６）の第２管１５Ｂにポンプを設ければ一台ですむ。、
さらに、ポンプを配設するところは、ポンプから発生す
るダストを考、：ハすれば、フィルタ７の前の流路に設
けた方がよい５．すなわち前記第２管１５Ｂに配設する
ときは、第１弁２０とフィルタ７との間の第２管１５Ｂ
に設けた方がよい、。

〔発明の効果〕

本発明に係るは過装置は、以上述べたような構成である
から、第１．第２および第３弁の流路と液体を移送する
ための手段とを切夛替えるだけで繰シ返しの瀘Ｊを連続
的に行なうことができ、作業が簡単である。また、繰シ
返しの濾過にも拘らず液体をその都度手で移し替える必
要が一切ないので、配管部分が汚染された９、配管中に
空気が入〕込む恐れが全くなく、したがってレジスト液
等の液体の繰り返しの濾過が効果的に行なえ、濾過され
た液体の清浄度を高くすることができ、またフィルタ等
の濾過手段の耐久性を向上させる。

また、本発明は重量測定装置からの信号によシ制御装置
を動作させ、この制御装置によシ第１゜第２および第３
弁と液体を移送するための手段を制御しているので、連
続濾過の完全自動化を可能にする。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１実施例を示す概略ｇ取囲、第２図
は本発明の第２実施例を示す概略構成図。第３図は濾過装置の従来例を示す概略構成図である。１・・・・レジスト液、２・・・・第１容器、３・・・
・第１加圧器、４・・・・第１ガス導入管、５・・・・
第２容器、７・・・・フィルタ、１０・・・・第２加圧
器、１２・・・・第２ガス導入管、１３・・・・第３容
器、１５，１６．１７・・・・配管、２０・・・・第１
弁、２１・・・・第２弁、２２・・・・第３弁、３０・
・・・第１三方電磁弁、３１・・・・第２三万電磁弁、
３３・・・・重量測定装置、３５・・・・制御製置。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）濾過すベき液体を収容する第１、第２容器と、前
記液体を第１容器から第２容器へおよびその逆に移送す
るための手段と、前記液体を濾過する手段と、この濾過
手段によつて濾過された液体を最終的に収容する第３容
器とを具備し、前記第１容器と前記第２容器を接続する
流路中にこれら容器から移送される前記液体を前記濾過
手段に送るべく制御する第１弁を設け、前記濾過手段か
ら排出された液体を、前記第３容器と第３弁とに選択的
に送るべく制御する第２弁を設け、前記第３弁に移送さ
れた液体を該弁によつて前記第１、第２容器に選択的に
送るべく制御するようにしたことを特徴とする濾過装置
。
（２）濾過すべき液体を収容する第１、第２容器と、前
記液体を第１容器から第２容器へおよびその逆に移送す
るための手段と、前記液体を濾過する手段と、この濾過
手段によつて濾過された液体を最終的に収容する第３容
器とを具備し、前記第１容器と前記第２容器とを接続す
る流路中に、これら容器から移送される前記液体を前記
濾過手段に送るべく制御する第１弁を設け、前記濾過手
段から排出される液体を、前記第３容器と第３弁とに選
択的に送るべく制御する第２弁を設け、前記第３弁に移
送された液体を該弁によつて前記第１、第２容器に選択
的に送るべく制御し、さらに前記第１容器又は前記第２
容器の下方に重量測定装置を設け、かつ前記重量測定装
置からの指示を受けて、前記液体の移送動作を制御する
と共に前記第１、第２および第３弁の流路を切り替える
制御装置を設けたことを特徴とする濾過装置。