JPS62272260A - 露光焼付枠装置 - Google Patents

露光焼付枠装置

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JPS62272260A
JPS62272260A JP61115770A JP11577086A JPS62272260A JP S62272260 A JPS62272260 A JP S62272260A JP 61115770 A JP61115770 A JP 61115770A JP 11577086 A JP11577086 A JP 11577086A JP S62272260 A JPS62272260 A JP S62272260A
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JP
Japan
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JP61115770A
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JPH0469941B2 (ja
Inventor
Hiroshi Miyamoto
浩 宮本
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OAK SEISAKUSHO KK
Orc Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
OAK SEISAKUSHO KK
Orc Manufacturing Co Ltd
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 3、発明の詳細な説明 〔産業上の利用分野〕 本発明は精密画像を露光する露光焼付装置における露光
焼付枠装置に関する。
〔従来の技術〕
産業上、工業用に用いられる画@露光焼付装五の露光焼
付枠としては種々の方式のものが提供されているが、大
別すると第3図と第4図に代表される。以下代表的2例
について図面を参照して説明する。図において上枠10
1と下枠102を第3図では蝶番108で、第4図では
ガイドポスト110とスラストブソシエ111とで開放
可能に構成している。露光焼付時において重要な要素は
上枠101に取付けた原稿画像103と被露光体104
との位置ズレを防止することにある。この対策として従
来より下枠102の底部より真空吸引を行い、被露光体
104を下枠102に吸着させたり、位置規制具107
で被露光体104を固定し、土手ゴム105で四辺を囲
んで真空吸引口106より排気することによりスペーサ
109で規制したPxの間隙の空間を真空状態にして露
光焼付する方法であった。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし上記従来の技術による露光焼付装置では、近年の
精密電子回路等での精度要求を満足させることには問題
があり、その解決が求められていた。
その1つとして繰り返し同一画像の露光焼付を行う作業
において、被露光体夫々に再現性を確保することが困難
なことである。上記の如く作業手順として上枠に原稿画
像を固着し、下枠の被露光体を一露光作業毎に交換する
。この時蝶番の支軸に生じている隙間や、ガイドボスト
とスラストブツシュ間にある摺動用の間隙等当然必要な
遊びではあるが、この可動部分により真空吸引時に微妙
な位置ズレを生じる。この位置ズレの為5ミクロン以内
を許容差とする精密な相対位置関係の安定した再現性が
要求される作業は不可能であった。一方上記の要求精度
を満足させる為に、露光境付装五に種々の冶具や位置ズ
レ検出手段等を付加することは、該露光焼付の作業性を
低下させ、且つ装置の構成を複雑にして操作性を煩雑に
すると共に装置のコストを上げることになる。
本発明は産業用・工業用に用いられる精密画像露光焼付
装置において、原稿画像と被露光体の位置ズレを防止し
、作業性において精密度の再現性に優れ、簡易な構成か
ら成る露光焼付枠を提供することを目的とする。
c問題点を解決する為の手段〕 上記問題点を解決する為の手段は露光焼付枠装置の原稿
画像を取付ける上枠の下面周辺部に、曲面乃至傾斜面を
有する少なくとも3つの突出部を配設し、被露光体を取
付ける下枠上面には少なくとも一端を開口した中空部を
有する受台と、溝型の受台と、平面を有する受台を前記
突出部を各別に支持する位置に配設し、前記上枠と下枠
の相互位置関係の決定を前記突出部の前記受台による支
持により行なうことである。
〔作用〕
上記手段を用いることによって生じる作用を第1図の原
理図を用いて説明すると、被露光体4は下枠2の吸着台
座5に設けられた位置決めピン7によって吸着台座5上
に位置決めされ、原稿画像   3は上枠1に固定され
る。上記上枠1と下枠2の位置関係は、突出部(球面体
)83′と中空部を有する受台(厚肉円W1)9a’突
出部(球面体)8b’と溝型の受台(略C型m)9b’
の2点の決定により直線上の2点が決定し、突出部(球
面体)8C′と平面を有する受台9 c Lの決定によ
り上記3点によって定まる。この時、上枠に配置された
3点突出部3a’〜8c′と対応する下枠の3点の受台
9a′〜90′との操着位五を調整して固定することに
より、該原稿画像3と被露光材4の位置関係は精密に1
点で一致し、高精度な相互位置関係の繰り返し再現性が
得られる。
〔実施例〕
以下本発明の実施例を図面を参照して詳縄に説明する。
第2図は本発明の一実施例を示す要部の斜視図である。
最初に構成を説明する。原fgI画像はフィルム乃至ガ
ラス乾板(以下ガラスマスクと記す)3から成り該ガラ
スマスク3は露光焼付枠の上枠1に位置決め治具13に
よって位置決めされ、固定用留め具12によって所定位
置に固定される。上枠1の上面には他にビデオカメラ1
1が回転軸11aを中心として移動可能に配設されてい
る。上枠の下面には本発明による相互位置関係決定手段
である円錐台から成る突出部8a、8bと球面体からな
る突出部8cが設置されている。
該3点の突出部8a、8b、8cの配設位置関係は8a
、8bの夫々の円錐台の中心から等距離に球面体8cが
配設される。即ち突出部8a、8bを底辺とし、突出部
8Cを頂点とする2等辺三角形状に3点の突出部が設け
られる。
他方下枠2には上枠1に配設された突出部8a〜8Cに
照合する位置に受台9a、9b、9cを配設している。
円錐台の突出部8aに対応して厚肉円筒の受台9aを設
け、同じく円錐台の突出部8bに対応して略C型溝形状
の受台9bを設け、球面体の突出部8cに対応して円筒
の受台9cが設けられている。上枠1に固定されたガラ
スマスク3に対応して吸着台座5が設けられる。該吸着
台座5は36%のニンケルを含むインハと称する合金の
漏から成り、硬度は極めて高いが温度膨張係数は上枠に
取付けたガラスマスク3の温度膨張係数と略等しくなっ
ている。吸着台座5には真空吸引用の細管が穿設され、
四隅には被露光体(図示せず)の位置決めの為の四角い
テーパーピンなどから成る位置規制具7が設けられてい
る。又下枠2の位置決めは下枠微調整具14により行わ
れ、全体は下枠固定具15に、図示しない押圧部材によ
って押圧され該露光装置本体(図示せず)に位置決め固
定される。
上記のように構成された露光焼付枠の作用について説明
する。上枠lに取付けられたガラスマスク3は固定用留
め具12によって固定される。下枠2の吸着台座5に移
送手段(図示せず)であるロボット等によって被露光体
(以下ワークと記す)が移送される。該ワークには吸着
台座5のコーナに立てられた四角形状のテーパービンな
どから成る位置規制具7に対応して位置規制用の四角い
ガイド穴などが用意されており、位置規制具7に従って
吸着台座5にセントされる。
次に吸着台座5に穿設されている真空吸引口6によって
排気が行われて、ワークは吸着されて吸着台座5に密着
固定される。上記ワークの固定により駆動手段(図示せ
ず)が働き、上枠1が下降して上枠1の下面に配設され
た突出部8a、8b。
8Cは対応する夫々の受台9a、9b、9cに固定され
る。円錐台8aは厚肉円筒受台9aの内径寸法の位置で
固定され、円錐台8bはC型溝受台9bの溝の幅寸法の
位置で固定され、該C型溝受台9bの溝の方向が該厚肉
円筒受台9a方向に配設していることにより、前後左右
の方向は固定され、球面体8cが円筒受台9cに定まる
ことにより面の形成が決定される。
上記の手順により位置関係が固定された上、下枠はビデ
オカメラ11によって確認され、該カメラによって位置
ズレが確認されると下枠微調整具14によって再度稠整
される。上記作業によってガラスマスク3とワークの位
置関係が正しく確認されると、ビデオカメラ11を回転
軸ILaを中心にして上枠1の外側へ退避させて作業の
障害にならないようにする。以上によって準備は完成し
、露光工程が開始される。
本発明は上記実施例に限定されるものではなく、種々の
実施態様をとり得るものである。例えば突出部は球面体
や円錐台に限るものではなく曲面や傾斜を有するもので
あれば良く、三角錐、四角錘等正確な位置規制が容易で
ある形状で構成しても良い。
各受台の構造も実施例に限定されるものではなく、たと
えば溝型の受台はV型やU型、コ字型なとであっても良
いし、同様に少なくとも一端を開口した中空部を有する
受台の形状も円筒形に限定するものではない。
配設した部材の重量等により上枠1のバランスがとりに
くい時は位置関係決定手段の支持体を4点など多数にし
ても良い。この時は前記以外の受台はスプリング性を有
する平面の受台を用いるのが最善である。また上枠を下
枠で支持するための接近移動に際しては、上梓と下枠の
いずれかまたは両方を移動させる構成でも良い。
〔発明の効果〕
以上の説明によって明らかな通り、2つの突出部と対応
する中空部を有する受台と溝型の受台の2組の位置合せ
手段により前後左右の方向は固定され、1つの突出部と
平面を有する受台の支持によって1つの面の形成が特定
される。即ち機構上最小の点である3点の固定によって
、形成される面が決定される原則による最も簡易な手段
で上枠下枠との相互位置関係を特定し、円筒形の受台の
内径と高さ、溝型の受台の溝幅と溝の方向と高さ、平面
を有する受台の高さを適切に選定し、所定の精度で加工
して配設することにより、原稿画像(ガラスマスク)と
被露光体(ワーク)の位置ズレを±5ミクロン以下に抑
えることができる大きな効果を生じる。又実際の露光焼
付作業で従来の露光焼付枠を用いた場合100ミクロン
以下の画線間隔の露光焼付は不可能であったが、本発明
の露光焼付枠を用いた露光焼付実験では30ミクロン以
下の画線間隔を得ることができた。そして加えるに上記
のようにその位置関係を決定する構成が簡易なので、作
業性、装置の操作性を低下させることがなく、高い生産
性を有する効果を生ずる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の原理を示す断面図で、第2図は本発明
の要部を示す斜視図であり、第3図、第4図は従来技術
による装置の断面図である。図中に符した番号は以下の
ものを示す。 1・・・上枠       2・・・下枠3・・・原稿
画像(ガラスマスク) 4・・・M露光体(ワーク) 5・・・吸着台座     7・・・位置規制具8a、
8b・・・円錐台(突出部) 8c・・・球面体(突出部)9a川用肉円筒受台9b・
・・C型溝受台    9c・・・円筒受台11・・・
ビデオカメラ   14・・・下枠微調祭具特許出願人
 株式会社 オーク製作所 代理人 弁理士 磯 野 道 造 1.°′−・ 第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 露光焼付装置を構成する露光焼付枠において、原稿画像
    を取付ける上枠の下面周辺部に曲面乃至傾斜面を有する
    少なくとも3つの突出部を配設し、被露光体を取付ける
    下枠上面には少なくとも一端を開口した中空部を有する
    受台と、溝型の受台と、平面を有する受台を前記突出部
    を各別に支持する位置に配設し、前記上枠と下枠の相互
    位置関係の決定を前記突出部の前記受台による支持によ
    り行なうことを特徴とする露光焼付枠装置。
JP61115770A 1986-05-20 1986-05-20 露光焼付枠装置 Granted JPS62272260A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61115770A JPS62272260A (ja) 1986-05-20 1986-05-20 露光焼付枠装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP61115770A JPS62272260A (ja) 1986-05-20 1986-05-20 露光焼付枠装置

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Publication Number Publication Date
JPS62272260A true JPS62272260A (ja) 1987-11-26
JPH0469941B2 JPH0469941B2 (ja) 1992-11-09

Family

ID=14670620

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JP61115770A Granted JPS62272260A (ja) 1986-05-20 1986-05-20 露光焼付枠装置

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JP (1) JPS62272260A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH045659A (ja) * 1990-04-23 1992-01-09 Mitsubishi Electric Corp フォトマスク基板支持装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH045659A (ja) * 1990-04-23 1992-01-09 Mitsubishi Electric Corp フォトマスク基板支持装置

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