JPS6227630A - カソ−ドルミネツセンス装置 - Google Patents
カソ−ドルミネツセンス装置Info
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- JPS6227630A JPS6227630A JP16798985A JP16798985A JPS6227630A JP S6227630 A JPS6227630 A JP S6227630A JP 16798985 A JP16798985 A JP 16798985A JP 16798985 A JP16798985 A JP 16798985A JP S6227630 A JPS6227630 A JP S6227630A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- sample
- filament
- light
- emitted
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/225—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
- G01N23/2251—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion using incident electron beams, e.g. scanning electron microscopy [SEM]
- G01N23/2254—Measuring cathodoluminescence
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ）産業上の利用分野
本発明は、カソードルミネッセンス装置に関する。
（ロ）従来技術とその問題点
従来のカソードルミネッセンス装置においては、その電
子線照射系が電子線マイクロアナライザ（ＥＰＭＡ）あ
るいは走査型電子顕微鏡の本体と兼用できるようにする
ために、第２図に示すような構成が採られている。すな
わち、同図において、２は電子線発生部、４はフィラメ
ント、６はウェネルト、８は陽極プレート、１０は収束
レンズ、１２はアパーチャ、１４は有孔の反射ミラー、
１６は対物レンズ、１８は試料、２０は試料ステージで
ある。
子線照射系が電子線マイクロアナライザ（ＥＰＭＡ）あ
るいは走査型電子顕微鏡の本体と兼用できるようにする
ために、第２図に示すような構成が採られている。すな
わち、同図において、２は電子線発生部、４はフィラメ
ント、６はウェネルト、８は陽極プレート、１０は収束
レンズ、１２はアパーチャ、１４は有孔の反射ミラー、
１６は対物レンズ、１８は試料、２０は試料ステージで
ある。
このカソードルミネッセンス装置では、電子線発生部２
のフィラメント４を加熱することにより発生された電子
線を陽極プレート８との間の高電位により加速するとと
もに収束レンズ１０、アパーチャ１２、対物レンズ１６
等で絞って試料１８に照射する。そして、試料１８から
励起されて放射される光を反射ミラーＩ４で反射して図
外の分光器へ導き、分光器で分光した特定波長の光を検
出器で検出する。
のフィラメント４を加熱することにより発生された電子
線を陽極プレート８との間の高電位により加速するとと
もに収束レンズ１０、アパーチャ１２、対物レンズ１６
等で絞って試料１８に照射する。そして、試料１８から
励起されて放射される光を反射ミラーＩ４で反射して図
外の分光器へ導き、分光器で分光した特定波長の光を検
出器で検出する。
ところで、従来、電子線照射系を構成するフィラメント
４から試料１８までの間の各部品は、第２図からら分か
るように、材料の磁気的歪がなければすべて同軸上に配
置される。したがって、分光器には試料１８で発生した
光とともに、フィラメント４からの光も同時に入射され
ることになる。
４から試料１８までの間の各部品は、第２図からら分か
るように、材料の磁気的歪がなければすべて同軸上に配
置される。したがって、分光器には試料１８で発生した
光とともに、フィラメント４からの光も同時に入射され
ることになる。
このために、特に試料１８からの微弱な光を検出したい
場合においても、このピークに対してフィラメント４か
らの放射光がバックグラウンド上のノイズとなって検出
されることになり、本来必要なピーク検出ができないこ
とがある。
場合においても、このピークに対してフィラメント４か
らの放射光がバックグラウンド上のノイズとなって検出
されることになり、本来必要なピーク検出ができないこ
とがある。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであっ
て、フィラメントからの迷光が分光器に入射されないよ
うにして、試料から発生される微弱な光も十分に検出で
きるようにすることを目的とする。
て、フィラメントからの迷光が分光器に入射されないよ
うにして、試料から発生される微弱な光も十分に検出で
きるようにすることを目的とする。
（ハ）問題点を解決するための手段
本発明は、上記の目的を達成するために、電子線発生部
で発生される電子線の放射方向に対して試料への前記電
子線の照射方向が異なるように試料ステージを配置する
とともに、前記電子線発生部と試料ステージとの間に電
子線を前記試料ステージへ偏向させる偏向手段を設けて
カソードルミネッセンス装置を構成している。
で発生される電子線の放射方向に対して試料への前記電
子線の照射方向が異なるように試料ステージを配置する
とともに、前記電子線発生部と試料ステージとの間に電
子線を前記試料ステージへ偏向させる偏向手段を設けて
カソードルミネッセンス装置を構成している。
（ニ）作用
本発明の構成によれば、フィラメントから発生された電
子線は偏向手段で試料ステージ側に向けて偏向されて試
料に照射されるが、同じフィラメントから発生した光は
試料ステージ側に偏向されることなくそのまま直線的に
出射される。このため、フィラメントから発生する迷光
の分光器への入射が防止される。
子線は偏向手段で試料ステージ側に向けて偏向されて試
料に照射されるが、同じフィラメントから発生した光は
試料ステージ側に偏向されることなくそのまま直線的に
出射される。このため、フィラメントから発生する迷光
の分光器への入射が防止される。
（ホ）実施例
第１図は、本発明の実施例に係る一実施例を示すカソー
ドルミネッセンス装置の電子線照射系の概略構成図であ
り、第２図に示した従来例と同一の構成部分には同一の
符号を付して説明する。
ドルミネッセンス装置の電子線照射系の概略構成図であ
り、第２図に示した従来例と同一の構成部分には同一の
符号を付して説明する。
第１図において、ｌはカソードルミネッセンス装置の電
子線照射系の全体を示し、２は電子線が発生される電子
線発生部である。この電子線発生部２は、加熱により熱
電子が発生されるフィラメント４、熱電子の発生を制御
するウェネルト６およびフィラメント４で発生された熱
電子を加速する陽極プレート８で構成される。ｌＯは電
子線発生部２から放射される電子線を収束する収束レン
ズ、１２は電子線の安定部分を取り出すアパーチャ、１
４は有孔の反射ミラー、１６は電子線を試料面上に最終
的に絞る対物レンズ、１８は分析対象となる試料、２０
は試料１８が配置される試料ステージである。
子線照射系の全体を示し、２は電子線が発生される電子
線発生部である。この電子線発生部２は、加熱により熱
電子が発生されるフィラメント４、熱電子の発生を制御
するウェネルト６およびフィラメント４で発生された熱
電子を加速する陽極プレート８で構成される。ｌＯは電
子線発生部２から放射される電子線を収束する収束レン
ズ、１２は電子線の安定部分を取り出すアパーチャ、１
４は有孔の反射ミラー、１６は電子線を試料面上に最終
的に絞る対物レンズ、１８は分析対象となる試料、２０
は試料１８が配置される試料ステージである。
この実施例の特徴は、電子線発生部２で発生される電子
線の放射方向（図中Ａ方向）に対して試料１８への電子
線の照射方向（図中Ｂ方向）が異なるように試料ステー
ジ２０を配置するとともに、電子線発生部２と試料ステ
ージ２０との間、特に本例では陽極プレート８と収束レ
ンズ１０との間に電子線を試料ステージ２０へ偏向させ
る偏向手段２２としての磁気コイルが設けられているこ
とである。
線の放射方向（図中Ａ方向）に対して試料１８への電子
線の照射方向（図中Ｂ方向）が異なるように試料ステー
ジ２０を配置するとともに、電子線発生部２と試料ステ
ージ２０との間、特に本例では陽極プレート８と収束レ
ンズ１０との間に電子線を試料ステージ２０へ偏向させ
る偏向手段２２としての磁気コイルが設けられているこ
とである。
このような構成を有するカソードルミネッセンス装置に
おいて、フィラメント４から発生された電子線は、陽極
プレート８との間の高電位により加速された後、偏向手
段２２で試料ステージ２０に向けて偏向される。そして
、偏向された電子線は、収束レンズ１０、アパーチャ１
２、対物レンズ１６等で絞られて試料１８に照射される
。そして、試料１８から励起されて放射される光は、反
射ミラー１４で反射されて図外の分光器へ導かれ、分光
器で分光された特定波長の光が検出器で検出される。
おいて、フィラメント４から発生された電子線は、陽極
プレート８との間の高電位により加速された後、偏向手
段２２で試料ステージ２０に向けて偏向される。そして
、偏向された電子線は、収束レンズ１０、アパーチャ１
２、対物レンズ１６等で絞られて試料１８に照射される
。そして、試料１８から励起されて放射される光は、反
射ミラー１４で反射されて図外の分光器へ導かれ、分光
器で分光された特定波長の光が検出器で検出される。
一方、同じフィラメント４から発生した光は試料ステー
ジ２０側に偏向されることなくそのまま直線的に矢印入
方向へ出射される。このため、フィラメント４から発生
する迷光の分光器への入射が防止される。
ジ２０側に偏向されることなくそのまま直線的に矢印入
方向へ出射される。このため、フィラメント４から発生
する迷光の分光器への入射が防止される。
なお、この実施例では偏向手段２２として磁気コイルを
使用しているが、これに限らず電場を用いることも可能
である。
使用しているが、これに限らず電場を用いることも可能
である。
（へ）効果
以上のように本発明によれば、フィラメントからの迷光
が分光器に入射されないので、試料から発生される微弱
な光も十分に検出できるようになる等の効果が発揮され
る。
が分光器に入射されないので、試料から発生される微弱
な光も十分に検出できるようになる等の効果が発揮され
る。
第１図は本発明の一実施例を示すカソードルミネッセン
ス装置の電子線照射系の概略構成図、第２図は従来のカ
ソードルミネッセンス装置の電子線照射系の概略構成図
である。 ｌ・・・電子線照射系、２・・・電子線発生部、１８・
・・試料、２０・・・試料ステージ、２２・・・偏向手
段。
ス装置の電子線照射系の概略構成図、第２図は従来のカ
ソードルミネッセンス装置の電子線照射系の概略構成図
である。 ｌ・・・電子線照射系、２・・・電子線発生部、１８・
・・試料、２０・・・試料ステージ、２２・・・偏向手
段。
Claims (1)
- （１）電子線発生部で発生される電子線の放射方向に対
して試料への前記電子線の照射方向が異なるように試料
ステージを配置するとともに、前記電子線発生部と試料
ステージとの間に電子線を前記試料ステージへ偏向させ
る偏向手段を設けたことを特徴とするカソードルミネッ
センス装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16798985A JPS6227630A (ja) | 1985-07-29 | 1985-07-29 | カソ−ドルミネツセンス装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16798985A JPS6227630A (ja) | 1985-07-29 | 1985-07-29 | カソ−ドルミネツセンス装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6227630A true JPS6227630A (ja) | 1987-02-05 |
Family
ID=15859736
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16798985A Pending JPS6227630A (ja) | 1985-07-29 | 1985-07-29 | カソ−ドルミネツセンス装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6227630A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8674320B2 (en) | 2010-10-01 | 2014-03-18 | Attolight Sa | Deconvolution of time-gated cathodoluminescence images |
-
1985
- 1985-07-29 JP JP16798985A patent/JPS6227630A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8674320B2 (en) | 2010-10-01 | 2014-03-18 | Attolight Sa | Deconvolution of time-gated cathodoluminescence images |
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