JPS62276883A - 太陽電池用ほうろう基板の製造方法 - Google Patents

太陽電池用ほうろう基板の製造方法

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JPS62276883A
JPS62276883A JP61119136A JP11913686A JPS62276883A JP S62276883 A JPS62276883 A JP S62276883A JP 61119136 A JP61119136 A JP 61119136A JP 11913686 A JP11913686 A JP 11913686A JP S62276883 A JPS62276883 A JP S62276883A
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JP
Japan
Prior art keywords
solar cell
substrate
frit
glass layer
manufacturing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61119136A
Other languages
English (en)
Inventor
Jun Ono
潤 小野
Kazuhiko Fukamachi
一彦 深町
Hiroshi Takahashi
宏 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
EJIRI HORO KK
Eneos Corp
Original Assignee
Nippon Mining Co Ltd
EJIRI HORO KK
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Publication date
Application filed by Nippon Mining Co Ltd, EJIRI HORO KK filed Critical Nippon Mining Co Ltd
Priority to JP61119136A priority Critical patent/JPS62276883A/ja
Publication of JPS62276883A publication Critical patent/JPS62276883A/ja
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/548Amorphous silicon PV cells

Landscapes

  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 3発明の詳細な説明 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ステンレス鋼条板の表面にガラス層を形成す
る太陽電池用ほうろう基板の製造方法に関し、特に、ア
七pファヌシリコン(以下、a−3iという)太陽電池
に適したほうろう基板の製造方法に関する。
〔従来の技也竹〕
a−8i太陽電池は基板上に厚さ1μm程度のa−8i
を被覆して太陽電池を構成するものであシ、その基板は
電池の性能とコストの両面に大きな影響を与えるため、
基板材の選択は重要な問題である。
従来、可焼性絶縁基板としては、金属板上にポリイミド
樹脂を塗布したものが用いられていたが、処理コストが
高く生産性が低いうえ、絶縁性が満足できず、他方、均
質な基板を得るためには、鋼条板の表面粗さく Rma
工)をcL5μ雇以下にしなければならなかった。また
金属板上にガラス層を形成したほうろう基板の作成も試
みられているが、基板表面が平滑でかつ、可焼性を満す
基板は得ることができなかった。
ほうろう基板の作成は、金属板上にガラス成分(フリッ
ト)とバインダー(ミル添加物)とからなるガラスペー
スト(スリップ)を塗布し、これを加熱溶融した後硬化
させる。ところがガラスペーストを加熱溶融させるとき
に、ガラス層に無数の気泡が発生し、硬化後のガラス層
表面チクレータ−状やビンホーμ状の表面欠陥となるの
で、その上にa−8i太暢電池を形成するときにセル特
性の劣化原因となっていた。また、このほうろう基板を
撓ませるとガラス層に加わる応力のためにガラス層にク
ラック、剥離等の破壊が生じ、可焼性基板として満足で
きるものではなかった。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明は、従来の太陽電池用ほうろう基板の製造方法の
欠点を解消し、基板表面が平滑でかつ、可撓性を満す、
安価な太陽電池用ほうろう基板の製造方法を提供しよう
とするものである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、ステンレス鋼条板の少なくとも片面にフリッ
トを施し、ガラス層を形成する太陽電池用基板の製造方
法において、SiO240〜65 wt%、Nano 
 10〜30 wt% 1.B2O36−20wt%、
PbO10〜55wt%を含有するフリットを施すこと
を特徴とする太陽電池用ほうろう基板の製造方法である
フリットの成分についてみると、SiO2は40yt%
未満であると太陽電池として使用される際の耐候性特に
紫外線によりガラス層の劣化が生じ可焼性が低下する。
65チを越えるとしだいに弾性が低下し、満足すべき可
撓性が得られない。
Na2Oは熱膨張係数を上げる効果が大きく、ステンレ
ス鋼条板と充分にr8!着し可焼性の良好なガラス層を
得るためには10 wt%以上添加することが必要であ
る。しかし30 wt%を超えるとフリットの膨張係数
を大きくしすぎてフリット特性を損うおそれがある。
B2O3は熱膨張係数を上げる効果があり、ステンレス
鋼条板の基板に適合させるために6〜20wt%が必要
とされる。またさらにこのB20.は焼付面の物性特に
弾性可焼性を向上させる。
PbOはガラス層の弾性を向上させる効果があυ10 
wt%以上添加すると、基板の可焼性を向上させるが、
55 wt96を超えるとフリットの耐久性の低下が認
められた。なお、フリットの成分として、K2O2〜5
 wt%、TiO25〜8wtチ、CaO0,5〜五O
wtチを必要に応じて添加することかできる。
K2Oに関してはλ0〜5. Oit%の範囲が良好で
5.0%を超えるとNanoの増加と同様な結果となる
。T i o2 はガラス溶解時に粘度を低下させ、こ
れを含有したものはガラスの透明度を増加させる。これ
に適した範囲としては5〜8wtチが適当である。Ca
Oの効果は焼成(焼結)の際熱衝撃による割れを抑制す
る効果があり、これに適した範囲としては0.5〜3w
t%が適当である。
なお、必要に応じてフリット成分として鳩03、NaF
 、 AlF2、ZnO1CaF2を1〜20wt%含
有させることができる。またフリットは通常粘土等ミル
添加物を加えてスリップとして基板に施される。粘土を
添加する目的は、(1)フリットを浮遊させるだめの懸
濁剤(2)うわぐすシの乾燥膜の強化(3)ガラス層内
の泡構造の微、細化(4)機械的性質の改善等にあり、
一般に不純物の少ない蛙目粘土(SiO248〜52チ
、A1□Q330〜35チ、Fe2O31〜1.5 %
、その他Ca、01Mg○等を含有)が用いられる。ほ
うろう処理の焼成温度を低くしだ場合には、粘土中に含
有する好ましからざる有機物が飛ばずに残存するおそれ
があるが、上記蛙目粘土はこの有機物の含有量が少ない
ので、粘土を用いる場合にはとの蛙目粘土を使用するの
が適当である。
ところが数百μmの厚みの通常のほうろうではミ/L/
添加物として好適であった粘土も、可焼性を付与するた
めに薄くしたa−8i太陽電池用基板のガラス層として
は焼成時の発泡現象により、平滑性を損う原因となる。
そこで、好ましくは粘土を含まないコロイダルシリカ(
コロイダルシリカはS10.を主成分〔90〜96チ〕
とし、A 1205等を含有する)をフリット100重
量部に対して1〜5重量部添加してスリップを構成する
ことがよい。なお、ミIV添加物として通常使用される
炭酸カリウム、硼酸等を含有してもよい。
スリップはスプレー等で所望の厚みにステンレス鋼条板
上に塗布した後通常の方法で乾燥焼成してa−3i太陽
電池用基板を作成することができる。
なお、ほうろう処理は2回以上繰返してガラス層を形成
してもさしつかえない。
基板上のガラス層の厚みは17〜50μmとすることが
好ましい。17μmよシ薄くなると曲げ性が急激に低下
する。また、50μmを越えると弾性が低下し可焼性が
失なわれる。
ステンレス鋼条板はフェライト系、オーステナイト系、
マルテンサイト糸のいずれでも使用することができ、そ
の厚さも0.1鶴程度であれば、ほうろう形成時の焼成
工程においても所定の特性を維持することができる。基
板の可焼性を維持するためにはQ、3mm以下の厚みに
する必要はある。
(実施例) 0.1mの厚みに冷間加工されたステンレス鋼(SUS
3o4)をショツトブラスト、アルカリ脱脂および湯洗
によりほうろう処理に適した表面に調整した。これにス
プレィ法によりスリップを塗布し乾燥させた後大気中8
20℃で3分間焼成し太陽電池用基板とした。
第1表に示すフリヅト組成、第2表に示すミル配合の各
種組み合せで作成した基板材について特性を調査した結
果を第3表に示す。
曲げ性(密着性、可撓性)の試験は、基板の一端をはさ
んで固定し、固定部から30調離れた基板上の位置を5
調づつ曲げガラス層を光学印微鏡で観察し、クラック又
は剥離の発生した距離で表わし、大きい程可焼性が良い
と評価される。
上記ほうろう基板の表面にステンレス製の背面電憧層を
蒸着した後P型、1型、n型の各a−8i層を形成し、
その上に透明電極層を形成して太陽゛電池を得た。
このようにして得だ太陽電池にAM−1100@W/(
y”の光を照射して変換効率を測定した。
(発明の効果) 本発明は上記構成を採用することにより、a−8i太陽
電池用基板として必要な表面平滑性及び曲げ性を有し、
その結果として太陽電池変換効率を飛Rり的に向上させ
ることができた。
第2表   ミ  ル  配  合 第3表  太陽電池基板特性 昭和61年 6 月>ぢ日

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ステンレス鋼条板の少なくとも片面にフリットを
    施し、ガラス層を形成する太陽電池用ほうろう基板の製
    造方法において、SiO_240〜65wt%、Na_
    2O10〜30wt%、B_2O_36〜20wt%及
    びPbO10〜35wt%を含有するフリットを施すこ
    とを特徴とする太陽電池用ほうろう基板の製造方法。
  2. (2)ステンレス鋼条板の少なくとも片面にフリットを
    施し、ガラス層を形成する太陽電池用ほうろう基板の製
    造方法において、SiO_240〜65wt%、Na_
    2O10〜30wt%、B_2O_36〜20wt%及
    びPbO10〜35wt%を主成分とし、さらにK_2
    O2〜5wt%、TiO_25〜8wt%、CaO0.
    5〜3.0wt%の1種又は2種以上を含有するフリッ
    トを施すことを特徴とする太陽電池用ほうろう基板の製
    造方法。
  3. (3)フリット100重量部に対して1〜5重量部のコ
    ロイダルシリカを添加した、粘土を含まないスリツプを
    施すことを特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項
    記載の太陽電池用ほうろう基板の製造方法。
  4. (4)ガラス層の厚みを17〜50μmとすることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項〜第3項の中のいずれか
    1項の記載の太陽電池用ほうろう基板の製造方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011075967A1 (zh) * 2009-12-24 2011-06-30 四会市维力有限公司 搪瓷太阳能建筑墙板
JP2014107510A (ja) * 2012-11-29 2014-06-09 Showa Shell Sekiyu Kk 化合物系薄膜太陽電池
JP2014110349A (ja) * 2012-12-03 2014-06-12 Showa Shell Sekiyu Kk 薄膜太陽電池の製造方法

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