JPS62278536A

JPS62278536A - 液晶素子

Info

Publication number: JPS62278536A
Application number: JP12162486A
Authority: JP
Inventors: Kohei Saito; 孝平斉藤
Original assignee: Casio Computer Co Ltd
Current assignee: Casio Computer Co Ltd
Priority date: 1986-05-27
Filing date: 1986-05-27
Publication date: 1987-12-03

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】３、発明の詳細な説明［発明の技術分野］本発明は液晶シャッタとして用いる液晶素子に関する。

［発明の技術的背景とその問題点］近時、光書込み式グリンタにおいては、光書込み手段と
して党の透過全制御する多数のシャ、りｍｔ配列形成し
た液晶シャッタと呼ばれる液晶素子が用いられている・この液晶シャッタは、多数の信号電極を配列形成した透
明な電極基板と、前記信号電極に対向して共通電極を形
成した透明な基板とを、電極形成面が内側となるように
液晶を介在して対向配置して構成したものである。すな
わち、一方の基板に形成した信号電極の元透過部および
他方の基板に形成した信号電極の元透過部の互いに対向
するもの同士と、これら両方の１！他の間にある液晶と
によって多数のシャ、り部を配列して構成しである。

また、一方の基板には前記シャッタ部列の両端外側に位
置して夫々補助信号１［極を形成し、この補助信号電嬌
金他方の基板の共通電極と対向させて余白消去シャッタ
部を構成している。前記シャッタ部列の各７ヤツタ部は
用紙にドツトの組合により画像を形成するためのもので
あり、余白消去シャッタ部は用紙の両側を余白部として
白く残すためのものである。

そして、この液晶シャ、りは光書込み式プリンタにおけ
る元記録部に設けて用いられる。ここで、液晶シャッタ
におけるシャッタ部列の各シャツタ部毎に信号電臘と共
通電極との間に電圧を印加して液晶分子を挙動させるこ
とにより、各シャッタ部を選択的に「開（光透過）」と
「閉（光不透過）」とする。これにより光源からの元の
透過を液晶シャッタの各シャッタ部で制御し、シャ、り
部を透過した元を感光ドラムの表面に照射して光書込み
を行なう。この様にして感光ドラムに形成した静電潜像
は現像部で現像した後、転写部で用紙に転写して用紙に
ドツトからなる画像を形成する。また、余白消去シャッ
タ部は常に「開」とし、前記感光ドラムの両端部（用紙
の両側の余白部に対応する部分）に元を照射して帯電電
荷全消去することにより、用紙の両側余白部を白く残す
。

このように構成した液晶シャッタにおいて、基板に設け
る電極を形成するためには、フオトエ。

チング法が採用されている。すなわち、基板の表面全体
に導電材料を形成した後、この導電材料の表面にレジス
トを塗布し、次にマスクを用いて露光を行ない、さらに
現像およびエツチングを行なうことにより導電材料の電
極部分を残して不用部分を除去するものである。

そして、このフォトエツチング法により基板に信号電極
を形成するためのレジスト材としては・ネガタイプとポ
ジタイプがある。ボッ式のフォトエツチング法は露光時
にマスク全透過した党に照射された部分が現像により除
去されるレジスト材を用いる方法であり、必要な電極部
分に欠落が生じ難い点で有利である。この場合、信号電
極の部分に元が当らないようにしたマスクツ母ターンの
マスクを用いる。しかし、このボッ式フォトエツチング
により信号電極を形成する場合には、信号電極相互の間
隔が大変微小（例えば３０μ）であるために、マスクに
おいて各信号電極を形作るマスクパターンの間の党が透
過する部分にゴミが付着すると、それが小さなものでも
隣り合う両方のマスクパターンに接触してまたがって付
着することが多い。そして、このマスクを用いてｌＩ元
全全行うと、マスク・母ターンとともに前記コ０ミが元
全遮ぎるために、信号電極が短絡された／Ｊパターン露
光が行なわれ、結果として基板上に短絡した信号電極が
形成される。液晶シャ、りは本来各シャッタ部が独宜し
て駆動し光書込みを行なうものであるから、信号電ｉが
短絡状態にあるとシャ、り部に誤動作音生じて正確な光
書込みができなくなる。

そこで、従来からポジ式フォトエツチングにより信号電
極を形成する場合には、マスクを用いて１回露光を行な
った後に、マスクを信号電極配列方向に所定ピッチ移動
して２回目の露光全行ない、短絡された信号電極の形成
を防止するようにしている。これはマスクを移動して２
重露光を行なうことにより、基板における同一箇所に２
回共マスクのゴミが位置する確率が大変少ないという考
えによるもので、マスクツ４ターンの移動により１方の
露光時に信号′成極が短絡したパターンで露光された箇
所に対して他方の露光時に光全当てて露光を行ないその
部分全除去する方法である。

しかしながら、この２重露光においては次のような問題
が発生している。液晶シャッタにおいてシャッタ部列の
両端側て設ける余白消去シャ、り部を構成する補助信号
を極は、余白消去シャ、り部が常に開であり、独豆して
開閉制御する必要がないために大きな面積を有する面形
状の１つの電極として形成している。そして、露光層マ
スクは前記補助信号電極と同じ形状のマスクパターンを
備えている。このマスクを用いて２重露元を行なう場合
において、１回目の露光の後にマスクを信号電極配列方
向に移動させると、前記補助信号電極を形作るマスクパ
ターンが、１回目の７ｘ党時に基板のレジスト上に露光
された前記補助信号電極の部分を覆うことになる。この
ため、１回目に露光された補助信号電極に隣接する信号
電極の間の部分が前記マスクツ４ターンに覆われて元が
透過しない。従って、１回目の露光時に信号電極が橋絡
されたパターンで露光が行なわれた場合に、２回目の露
光時に電極短絡部分に党を当てることができなくなり、
結果として基板上に短絡された信号電極が形成されるこ
とになる。

第８図は従来の液晶シャッタにおける信号電極の外形形
状を示しており、１はシャ、り部用信号電極、２Ｖｉ余
白消去シャッタ部用補助信号電極である。この信号電極
に応じたマスクツやターンを有するマスクを用いて２重
露光を行なう場合、２回目の露光時にマスクを右方向に
移染すると、補助信号電極２を形作るマスクツやターン
が補助信号電極２とこれに隣接する信号電極１ｈ、１ｂ
の相互間隙を覆って元の透過を阻止することになる。

［発明の概要コ本発明の液晶素子は液晶と、この液晶を介して対向配置
された一対の透明な基板と、この基板の一方の基板の内
面に配列形成された複数の第１の電極と、他方の基板の
内面にこの第１のｔｉと対向して形成された第２の電極
とを具備し、前記複数の電極のうち、その電極列の端部
に位置する電極が互いに電気的に接続されていることを
特徴とするものである。

［発明の目的コ本発明は前記事情に基づいてなされたもので、信号電極
を相互に短絡することなく形成することができる液晶素
子を提供することを目的とする。

［発明の実施例］以下本発明を図面で示す一実施例について説明する。

第１図ないし第３図は本発明の液晶素子の一実施例であ
る液晶シャ、り全示している。

図中１１．１２は透明ガラス板からなる基板で、この基
板１１．１２は対向配置されて枠形の外部シール材１３
°および線状の内部シール材１４゜１４を介して接着さ
れている。基板１１．１２の間隙における内部シール材
１４．１４に挾まれた部分および外部シール材１３の両
端部には液晶ＬＣ例えばダスト・ホスト効実用液晶が充
填されている。

一方の基板１１の内面には、多数の信号電極Ｓ・・・が
長手方向に間隔全存して配列形成されている。

信号電極Ｓ・・・は透明電極１５と金属膜１６とからな
るもので、透明電極１５は基板１１の内面に被着され、
前記内部シール材１４．１４の内側に位置する元透過部
である２個のシャ、りｗＬ極１７゜１７と外部シール材
１３の外側に導出する端子１８とを一体に形成したもの
で、各透明電極Ｓ・・・の端子１８は左右交互に導出す
るように形成される。金属膜１６は透明電極１５におけ
る７ヤツタ電極１７．１７を除いた他の部分の表面に被
着されている。また、基板１ノの内面には前記信号電極
Ｓ・・・の列の両端側に位置して夫々補助信号電極ｓｐ
　、　ｓｐが夫々形成しである。補助信号電極ｓｐ、ｓ
ｐは透明電極１５と金属膜１６とからなるもので、透明
電極１５は面状をなすシャッタ電極１９と、このシャッ
タ電極１９に対し信号電極Ｓ側に位置する２個の分割電
極２０．２０と、シャ、り電極１９と各分割電極２０．
２０を個別に接続する２個の接続リード２１．２１と、
前記シール部材１３の外側に導出する端子２２とを一体
に形成したものである。なお、分割電極２０．２０は信
号電極Ｓのシャ、り電極１７．１７の部分と同一外形形
状をなし且つ信号電極Ｓの相互間隙と同−間１７ｔ−存
して形成されている。金１Ａｈ１６は余白消去シャ、り
部に対応した開口を形成してン５Ｐｙ３’電極ＱＪｉ及
び分割電極２０．２０の透明電極１５の各表面に被着形
成され、また接続リード２１．２１と端子２２の各表面
に被着形成されている。図中２３は基板１１の内面に形
成された配向膜である。

他方の基板１２の内面には、帯状上なす２個の共通電極
Ｃ２Ｃが長手方向に沿って形成してあり・この共通電極
Ｃ，Ｃは、前記基板ＩＩの各信号電極Ｓ−・における一
方のシャッタ電極１７・・・の列、および補助信号電極
ＳＰと他方のシャッタｉ極ノア・・・の列、および補助
信号電極ＳＰとに対向している。

共通電極Ｃ９Ｃは、基板１２の内面に被着された帯状の
透明電極２３と、この透明電極２３の表面に被着された
金Ｉ４膜２４とで構成されている。この金属膜２４の前
記信号１！極Ｓ・・・のシャッタ電極１７・・・と１７
・・・と対向する部分が夫々開口され、金属膜２４にお
けるこれら開口部に面する透明電極２３の各部分が元透
過部である多数のシャッタ電極２５・・・、２５・・・
として配列形成されており、また前記補助信号電極ｓｐ
　、　ｓｐと対向する部分が夫々開口され、金ｆｆｉ膜
２４におけるこれら開口部に面する透明’＠、５．２３
の各部分が元透過部であるシャッタ電極２６．２６が形
成されている。なお、図中２７は基板１２の内面に形成
した配向膜である。

そして、前記信号電極Ｓ・・・のシャ、り電極１７・・
・。

１７・・・と、これに対向する前記共通電極Ｃ１Ｃのシ
ャ、り電極２５・・・、２５・・・と、前記液晶ＬＣと
で多数のシャ、り部Ａ・・・、Ａ・・・が配列構成され
ている。また、前記補助信号電極ｓｐ、ｓｐのシイ、り
電極１９．１９と、これに対向する前記共通電極Ｃ９Ｃ
のシャ、り電極２６．２６と、液晶ＬＣとでシャ、り部
Ａ・・・、Ａ・・・列の両端側に位置する余白消去シャ
、り部、４Ｐ、ＡＰが構成されている。

このように構成した液晶シャッタにおいて、基板１１ｖ
Ｃ信号電極をフォトエツチングにより形成する場合につ
いて説明する。

まず、基板１ノの表面全体に透明電極材料と金属膜材料
とを層状に形成し、さらにその上にフォトレジストを一
様に塗布した後、第５図で示すマスクツ母ターンのマス
クを用いて２重露光を行なう。

露光用マスクのマスクパターンは、第５図で示すように
基板１１の前記各信号電極Ｓ・・・に夫々対応して配列
された信号電極Ｓの外形を形作る多数の信号電極マスク
部３１と、前記各補助信号′成極ｓｐ、ｓｐに対応して
その外形を形作る一対の補助信号電極マスク部３２．３
２を有するものである。

補助信号電極マスク部３２は、補助信号電極ｓｐにおけ
るシャッタ電極１９、分割電極２０．２０およびこれら
灸電極１９．２０．２０の相互間隙を全て覆う面ｙ！、
ヲ有する面状をなしている。

２重ａ元を行なう場合には、マスク全基板１１の上方に
配置し、マスクのマスクパターンヲ第６図で示すように
最終的に電極を形成する箇所より信号電極２個分左側に
寄ったＵ位Ｉｆ（左端の電極位置）に位置させ、光源か
らの光をマスクを透して基板１１のフォトレノスト上に
照射して１回目の露光を行なう。次にマスクを動かしマ
スクツ母ターンｉＵ位置から電極配列方向に沿い信号電
極２個分右方に移動しＶ位置（右端の電極位（ｉｌ）に
位置させて２回目のｉ！元を行なう。この露光によりマ
スクツ母ターンの各マスク部３′１．３２は基板１１の
フォトレジストに対して元を遮ぎり、マスク部３１．３
２以下の部分は前記フォトレジストに対して元を照射す
る。第６図は基板１ノの７オトレノストに対する露光状
態を示す。図中Ｗは１回目の露光時にのみ元が照射され
た箇所（１重露光部）、Ｘは２回目の露光時にのみ光が
照射された箇所（１１露党部）、Ｙは両方の露光時に光
が照射された箇所（２重ｊＩ′ｙｔ、部）、２は両方の
Ｉ！光時共に党が照射されない箇所（電極形成部）であ
る。この第６図から明らかなように基板１１のフォトレ
ジストにおいて各信号電極Ｓ−・の相互間隙は、２１露
元されてマスクに付着したゴミに影響されることなく党
が完全に当る。また、マスクツターンの移動に伴い補助
信号電極マスク部３２゜３２により１重露光部Ｗ、Ｘが
生じるが、この部分は補助信号電極ｓｐ、ｓｐにおける
シャ、りＸ極１９および分割を極２０，２０の間隙であ
るために、信号電極Ｓ・・・の間隙には関係がない。す
なわち、補助信号電極ｓｐをシャッタ電極１９と分割電
極２０，２０とを組合せた構成とすることにより、マス
クの移動に伴う補助４８号電極マスク部３２゜３２の影
響全補助信号電極ｓｐ、ｓｐの範囲に収めて信号電極Ｓ
・・・に影響金与えることがない・露光を終了した後に
現像およびエツチングを行ない、基板１１の材料層にお
ける元が照射されない箇所２を除いて各露光部Ｙ、Ｗ、
Ｘを除去して信号電極Ｓ・・・および補助信号電極ｓｐ
　、　ｓｐを形成する。ここで、前記ｔＡ元時における
マスクに付着したゴミの影響によりグヤ、り電極１９お
よび分割’１ｌＮ２０．２０の間隙が各電極を結ぶ短絡
状態で形成されたとしても、シャ、り電極１９と分割電
極２０．２０は補助信号電極ＳＰの一部として接続リー
ド２１．２１ＶＣより予じめ電気的に接続する構成であ
るから、前記短絡状態は電気的に全く無視することがで
き誤動作を生じることがない。

第７図は本発明の液晶シャッタにおける信号電極の他の
実施例を示している。この実施例において補助信号電極
ＳＰは、信号電極Ｓのセグメント電極１７．１７と同じ
大きさをなす複数のシャ、り電極４１・・・を信号電極
Ｓの相互間隔と同じ間隔を存して配列し、各シャッタ電
極４１・・・を全てｉ！２的に共通に接続して構成した
ものである。この構成では、フォトエツチングするため
のマスクツ４ターンが同一形状ｔ−繰返見した単純なパ
ターンで形成できるため、マスクの製造が容易になると
共に、余白消去用シャッタの面積がそれぞれ等しくなる
ので、余白消去シャッタ部の液晶に印加される電圧が均
一化するため、むらのない消去が行なえる。

［発明の効果］以上説明したように本発明によれば、７オトエ、チング
により基板に多数の電極を相互に短絡させることなく正
確に形成することができ・高品質な液晶素子を歩留り良
く得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図ないし第４図は本発明の液晶素子の一実施例を示
し、第１図は信号電極を示す平面図、第２図は一方の基
板の内面を示す平面図、第３図は他方の基板の内面を示
す平面図、第４図は横断面図、第５図は前記実施例の液
晶素子における信号電極を形成する場合の露光に用いる
マスクを示す説明図、第６図は同マスクを用いた露光を
示す説明図、第７図は他の実施例における信号電極を示
す平面図、第８図は従来の液晶素子における信号電極を
示す説明図である。１１．１２・・・基板、Ｓ・・・信号電極、ｓｐ・・・
補助信号電極、Ｃ・・・共通電極、Ａ・・・シャ、り部
、ＡＰ・・・余白消去シャッタ部、ＬＣ・・・液晶。

Claims

【特許請求の範囲】

液晶と、この液晶を介して対向配置された一対の透明な
基板と、この基板の一方の基板の内面に配列形成された
複数の第１の電極と、他方の基板の内面にこの第１の電
極と対向して形成された第２の電極とを具備し、前記複
数の電極のうち、その電極列の端部に位置する電極が互
いに電気的に接続されていることを特徴とする液晶素子
。