JPS62282475A - レ−ザ装置 - Google Patents
レ−ザ装置Info
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- JPS62282475A JPS62282475A JP12617786A JP12617786A JPS62282475A JP S62282475 A JPS62282475 A JP S62282475A JP 12617786 A JP12617786 A JP 12617786A JP 12617786 A JP12617786 A JP 12617786A JP S62282475 A JPS62282475 A JP S62282475A
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0971—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
３、発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明は、レーザ装置に関し、更に詳述すれば気体レー
ザのうち、放電励起により短パルスレーザ光を発生する
放電励起短パルスレーザ装置に関するものである。
ザのうち、放電励起により短パルスレーザ光を発生する
放電励起短パルスレーザ装置に関するものである。
従来のこの種のレーザ装置は例えば第３図に示す如き構
造のものが、ＪＡＰＡＮＥＳＥ ＪＯＵＲＮＡＬ ＯＦ
ＡＰＰＬＩＩＩ！ＤＰＨＹＳＩＣＳ Ｖｏｌ ２４．
ｆｌｂｌｌ、 １９８５に開示されている。
造のものが、ＪＡＰＡＮＥＳＥ ＪＯＵＲＮＡＬ ＯＦ
ＡＰＰＬＩＩＩ！ＤＰＨＹＳＩＣＳ Ｖｏｌ ２４．
ｆｌｂｌｌ、 １９８５に開示されている。
第３図において、昇圧用変圧器１の１次巻線１ｐの両端
には、コンデンサ２とサイリスタ３との直列回路を接続
しており、サイリスタ３のカソードは接地されている。
には、コンデンサ２とサイリスタ３との直列回路を接続
しており、サイリスタ３のカソードは接地されている。
サイリスタ３のアノードには抵抗４の一端が接続されて
いる。昇圧用変圧器１の２次巻線１ｓの両端には、コン
デンサ５を接続している。このコンデンサ５には可飽和
リアクトル６とコンデンサ７との直列回路を並列接続し
ている。
いる。昇圧用変圧器１の２次巻線１ｓの両端には、コン
デンサ５を接続している。このコンデンサ５には可飽和
リアクトル６とコンデンサ７との直列回路を並列接続し
ている。
コンデンサ７には可飽和リアクトル８とコンデンサ９と
の直列回路を並列接続している。そして前記コンデンサ
９の一端は可飽和リアクトル１０を介して、レーザ筐体
１１内に設けた第１の主電極１２とこの主電極１２と対
向配置されている補助電極１３とに接続されており、ま
たコンデンサ９の他端は前記第１の主電極１２と補助電
極１３との間に配設され、第１の主電極１２と補助電極
１３との間で予備電離放電を発生させるメツシュ構造の
第２の主電極１４に接続されている。更に第１及び第２
の主電極１２と１４との間には、放電用コンデンサ１５
と並列接続されたりアクドル１６の両端が接続されてい
る。
の直列回路を並列接続している。そして前記コンデンサ
９の一端は可飽和リアクトル１０を介して、レーザ筐体
１１内に設けた第１の主電極１２とこの主電極１２と対
向配置されている補助電極１３とに接続されており、ま
たコンデンサ９の他端は前記第１の主電極１２と補助電
極１３との間に配設され、第１の主電極１２と補助電極
１３との間で予備電離放電を発生させるメツシュ構造の
第２の主電極１４に接続されている。更に第１及び第２
の主電極１２と１４との間には、放電用コンデンサ１５
と並列接続されたりアクドル１６の両端が接続されてい
る。
なお、前記コンデンサ２．５，７．９と昇圧用変圧器１
と、可飽和リアクトル６．８．１０とによりパルス充電
回路が形成されている。１７は第１の主電極１２と第２
の主電極１４との間で発生する主放電の放電励起部を示
している。
と、可飽和リアクトル６．８．１０とによりパルス充電
回路が形成されている。１７は第１の主電極１２と第２
の主電極１４との間で発生する主放電の放電励起部を示
している。
一般にレーザ発振を行わせるためには、レーザ媒質量に
おいて空間的に均一な主放電の放電励起部を発生きせる
必要がある。しかし乍ら、ＴＥＡ ＣＯ□レーザ又はエ
キシマレーザ等のような、短パルスレーザ光を発生する
レーザ装置では、その動作時圧力示敗気圧であるため、
均一な放電は収束してレーザ発振を行わせ難い。そのた
め、主放電に先立ち、予め主放電領域に電子を均一に散
在させる予備電離放電番行わせている。
おいて空間的に均一な主放電の放電励起部を発生きせる
必要がある。しかし乍ら、ＴＥＡ ＣＯ□レーザ又はエ
キシマレーザ等のような、短パルスレーザ光を発生する
レーザ装置では、その動作時圧力示敗気圧であるため、
均一な放電は収束してレーザ発振を行わせ難い。そのた
め、主放電に先立ち、予め主放電領域に電子を均一に散
在させる予備電離放電番行わせている。
このようなレーザ発振において、レーザ出力を高めるた
めには、主放電の放電開始電圧を高くする必要があるが
、この放電開始電圧は第５図に示すように、パルス電圧
の立上り時間が短い程高くなる。それ故、パルス電圧の
立上り時間を短（することによりレーザ出力を高めてい
る。
めには、主放電の放電開始電圧を高くする必要があるが
、この放電開始電圧は第５図に示すように、パルス電圧
の立上り時間が短い程高くなる。それ故、パルス電圧の
立上り時間を短（することによりレーザ出力を高めてい
る。
このようなレーザ発振の動作は、第３図及び第４図に基
づいて以下に説明する如くなる。昇圧用変圧器ｌの１次
巻線１ｐに図示しない電源を接続することにより、抵抗
４を通してコンデンサ２が充電される。その後、サイリ
スタ３に点弧信号を与えることによりコンデンサ２の放
電電流が昇圧用変圧器１の１次巻′ｆａ１ｐに流れて昇
圧用変圧器１により昇圧されてコンデンサ５のパルス電
圧Ｖ、が第４図（ａ）に示す如くその立上り時間Ｔ、を
要して充電される。コンデンサ５のパルス電圧■、がピ
ーク値に達した時点で可飽和リアクトル６が飽和し、コ
ンデンサ５に充電されていた電荷はコンデンサ７に移行
してコンデンサ７を充電する。
づいて以下に説明する如くなる。昇圧用変圧器ｌの１次
巻線１ｐに図示しない電源を接続することにより、抵抗
４を通してコンデンサ２が充電される。その後、サイリ
スタ３に点弧信号を与えることによりコンデンサ２の放
電電流が昇圧用変圧器１の１次巻′ｆａ１ｐに流れて昇
圧用変圧器１により昇圧されてコンデンサ５のパルス電
圧Ｖ、が第４図（ａ）に示す如くその立上り時間Ｔ、を
要して充電される。コンデンサ５のパルス電圧■、がピ
ーク値に達した時点で可飽和リアクトル６が飽和し、コ
ンデンサ５に充電されていた電荷はコンデンサ７に移行
してコンデンサ７を充電する。
このコンデンサ７が充電されるパルス電圧■１は第４図
（ｂ）に示す如くその立上り時間Ｔ、は、コンデンサ５
が充電される立上り時間Ｔ、の約１／２〜１／１０にな
っている。
（ｂ）に示す如くその立上り時間Ｔ、は、コンデンサ５
が充電される立上り時間Ｔ、の約１／２〜１／１０にな
っている。
可飽和リアクトル６．８．１０によりコンデンサ？、９
．１５が充電されるパルス電圧ｖ、、ｖ。
．１５が充電されるパルス電圧ｖ、、ｖ。
〔第４図（ｂｌ、 （Ｃ１参照）、ｖ＋ｓ（第４図（ｄ
）参照〕の立上り時間Ｔ？ 、Ｔｑ 、Ｔ’＋ｓは順次
短くなっている。例えばＴ、が８μｓｅｃに対してＴＩ
ｓは０．１ μｓｅｃとなっている。このＴ、の８μＳ
ｅｃはサイリスタ１２のスイッチング時間により定まる
。このようにして従来のレーザ装置は立上りが急峻なパ
ルス電圧を得るべくコンデンサ及び可飽和リアクトルか
らなる回路を複数段設けている。
）参照〕の立上り時間Ｔ？ 、Ｔｑ 、Ｔ’＋ｓは順次
短くなっている。例えばＴ、が８μｓｅｃに対してＴＩ
ｓは０．１ μｓｅｃとなっている。このＴ、の８μＳ
ｅｃはサイリスタ１２のスイッチング時間により定まる
。このようにして従来のレーザ装置は立上りが急峻なパ
ルス電圧を得るべくコンデンサ及び可飽和リアクトルか
らなる回路を複数段設けている。
前述したレーザ装置では、立上りが急峻なパルス電圧を
得るために、複数個の可飽和リアクトルを用いているか
ら耐久性の点ですぐれているが、可飽和リアクトルが嵩
ぼって装置が極めて大型化し、また高価になる等の問題
かある。
得るために、複数個の可飽和リアクトルを用いているか
ら耐久性の点ですぐれているが、可飽和リアクトルが嵩
ぼって装置が極めて大型化し、また高価になる等の問題
かある。
本発明は前述した問題に鑑み、可飽和リアクトルを１個
用いるのみで装置の小型化を図り得て、安価に製作でき
るレーザ装置を提供することを目的とする。
用いるのみで装置の小型化を図り得て、安価に製作でき
るレーザ装置を提供することを目的とする。
本発明のレーザ装置は、立上り示緩やかなパルス電圧を
第１の主電極と第２の主電極との間に印加し、そのパル
ス電圧がピーク値に達する前において、第１の主電極と
補助電極との間に接続した補助スイッチを閉路すること
により、補助電極に補助パルス電圧を印加して予備電離
放電を発生させて主放電を誘発するように構成するもの
である。
第１の主電極と第２の主電極との間に印加し、そのパル
ス電圧がピーク値に達する前において、第１の主電極と
補助電極との間に接続した補助スイッチを閉路すること
により、補助電極に補助パルス電圧を印加して予備電離
放電を発生させて主放電を誘発するように構成するもの
である。
第１の主電極と第２の主電極との間に、可飽和リアクト
ルで制御された立上り時間が緩やかなパルス電圧が印加
される。このパルス電圧がピーク値に達する前において
、第１の主電極と補助電極との間に接続した補助スイッ
チが閉路して第２の主電極と補助電極との間に立上りが
急峻な補助パルス電圧が印加される。この補助パルス電
圧が印加されたことにより、第２の主電極と補助電極と
の間に電子を均一に散在させることになり、予備電離放
電が行われて主放電を誘発し主放電に至らしめる。
ルで制御された立上り時間が緩やかなパルス電圧が印加
される。このパルス電圧がピーク値に達する前において
、第１の主電極と補助電極との間に接続した補助スイッ
チが閉路して第２の主電極と補助電極との間に立上りが
急峻な補助パルス電圧が印加される。この補助パルス電
圧が印加されたことにより、第２の主電極と補助電極と
の間に電子を均一に散在させることになり、予備電離放
電が行われて主放電を誘発し主放電に至らしめる。
以下本発明をその実施例を示す図面によって詳述する。
第１図は本発明に係るレーザ装置の電気回路図である。
図において、昇圧用変圧器１の１次巻線１ｐには、コン
デンサ２とサイリスタ３との直列回路を接続しており、
サイリスタ３のカソードは接地され、アノードには抵抗
４の一端が接続されている。
デンサ２とサイリスタ３との直列回路を接続しており、
サイリスタ３のカソードは接地され、アノードには抵抗
４の一端が接続されている。
昇圧用変圧器１の２次巻線１ｓの両端にはコンデジサ色
が接続されている。コンデンサ５の両端には可飽和リア
クトル６と、リアクトル１６と放電用コンデンサ１５と
が並列接続された回路との直列回路が接続されている。
が接続されている。コンデンサ５の両端には可飽和リア
クトル６と、リアクトル１６と放電用コンデンサ１５と
が並列接続された回路との直列回路が接続されている。
また放電用コンデンサ１５の両端は第１の主電極１２と
第２の主電極１４に夫々接続されている。第１の主電極
１２と補助電極１３との間には可飽和リアクトルからな
る補助スイッチ１８が１ｍされている。この補助スイッ
チ１８は第１の主電極１２と、第２の主電極１４との間
に印加されたパルス電圧がピーク値になる前に閉路して
立上りの急峻な補助パルス電圧を補助電極１３に与える
ように構成されている。補助電極１３と第２の主電極１
４との間にはりアクドル１９が接続されている。
第２の主電極１４に夫々接続されている。第１の主電極
１２と補助電極１３との間には可飽和リアクトルからな
る補助スイッチ１８が１ｍされている。この補助スイッ
チ１８は第１の主電極１２と、第２の主電極１４との間
に印加されたパルス電圧がピーク値になる前に閉路して
立上りの急峻な補助パルス電圧を補助電極１３に与える
ように構成されている。補助電極１３と第２の主電極１
４との間にはりアクドル１９が接続されている。
このように構成したレーザ装置は、昇圧用変圧器１の１
次巻線１ｐに、抵抗４の他端と接地された端部との間に
交流電源（図示せず）を接続することにより、コンデン
サ２が抵抗４を通して充電される。その後、サイリスタ
３を点弧させると、その放電電流が１次巻線１ｐを流れ
て、昇圧用変圧器１により昇圧されてコンデンサ５が第
２図（ａｌに示す如く緩やかな立上りのパルス電圧■、
となって充電される。コンデンサ５のパルス電圧ｖｓが
ピーク値に達すると可飽和リアクトル６が飽和する。
次巻線１ｐに、抵抗４の他端と接地された端部との間に
交流電源（図示せず）を接続することにより、コンデン
サ２が抵抗４を通して充電される。その後、サイリスタ
３を点弧させると、その放電電流が１次巻線１ｐを流れ
て、昇圧用変圧器１により昇圧されてコンデンサ５が第
２図（ａｌに示す如く緩やかな立上りのパルス電圧■、
となって充電される。コンデンサ５のパルス電圧ｖｓが
ピーク値に達すると可飽和リアクトル６が飽和する。
そのためコンデンサ５のパルス電圧Ｖ、は、第１の主電
極１２と第２の主電極１４との間に加わって第１、第２
の主電極１２．１４間のパルス電圧Ｖ＋Ｓは第２図（ｂ
）に示すように、コンデンサ５のパルス電圧Ｖ、の立上
りより急峻な立上りで上昇する。この両生電極１２．１
４間のパルス電圧Ｖ＋Ｓがピーク値に達する前に補助ス
イッチ１８が閉路して立上りが急峻な補助パルス電圧が
第１の主電極１２と補助電極１３との間に、第２図（Ｃ
）に示す如きパルス電圧Ｖｌｌｌが印加される。そのた
め、主放電領域に電子が均−に散在して予備電離放電が
行われて、この予備電離放電が基になって第１の主、電
極１２と第２の主電極１４との間に主放電１７が誘発さ
れて、主放電が行われる。
極１２と第２の主電極１４との間に加わって第１、第２
の主電極１２．１４間のパルス電圧Ｖ＋Ｓは第２図（ｂ
）に示すように、コンデンサ５のパルス電圧Ｖ、の立上
りより急峻な立上りで上昇する。この両生電極１２．１
４間のパルス電圧Ｖ＋Ｓがピーク値に達する前に補助ス
イッチ１８が閉路して立上りが急峻な補助パルス電圧が
第１の主電極１２と補助電極１３との間に、第２図（Ｃ
）に示す如きパルス電圧Ｖｌｌｌが印加される。そのた
め、主放電領域に電子が均−に散在して予備電離放電が
行われて、この予備電離放電が基になって第１の主、電
極１２と第２の主電極１４との間に主放電１７が誘発さ
れて、主放電が行われる。
即ち、主放電１７の放電開始電圧は第１と第２の主電極
１２と１４との間に印加されるパルス電圧ＶＩ５の立上
り時間に依存せずに確実に主放電５を行わせることがで
き、高出力のレーザ光が得られる。
１２と１４との間に印加されるパルス電圧ＶＩ５の立上
り時間に依存せずに確実に主放電５を行わせることがで
き、高出力のレーザ光が得られる。
リアクトル１９は補助スイッチ１８が閉路されるまで補
助電極１３の電位を第２の主電極１４と同電位に保つ。
助電極１３の電位を第２の主電極１４と同電位に保つ。
この補助スイッチ１８の可飽和リアクトルは、第２の主
電極１４と補助電極１３との間に予備電離放電を行わせ
るものであるから、その大きさは全体から見れば極く僅
かな大きさであって、可飽和リアクトルを複数個使用し
た場合に比べて装置が大幅に小型化する。
電極１４と補助電極１３との間に予備電離放電を行わせ
るものであるから、その大きさは全体から見れば極く僅
かな大きさであって、可飽和リアクトルを複数個使用し
た場合に比べて装置が大幅に小型化する。
前記補助スイッチ１８は可飽和リアクトルの代わりに火
花ギャップ、サイラトロンを用いてもよい。
花ギャップ、サイラトロンを用いてもよい。
また補助電極１３と第２の主電極１４との間に接続した
りアクドルの代わりに抵抗値が小さい抵抗器を用いるこ
とができる。そして補助スイッチ１８が火花ギャップも
しくはサイラトロンの場合にはりアクドル１９を省略で
きる。
りアクドルの代わりに抵抗値が小さい抵抗器を用いるこ
とができる。そして補助スイッチ１８が火花ギャップも
しくはサイラトロンの場合にはりアクドル１９を省略で
きる。
なお、主放電を行わせるべくパルス電圧を発生させるパ
ルス充電回路のスイッチにサイリスタ３と可飽和リアク
トル６とを用いているが、双方をサイリスタとしてもよ
い。またサイリスタの代わりに例えば静電誘導トランジ
スタ、静電誘導サイリスタ、トランジスタ等を用いるこ
とができる。
ルス充電回路のスイッチにサイリスタ３と可飽和リアク
トル６とを用いているが、双方をサイリスタとしてもよ
い。またサイリスタの代わりに例えば静電誘導トランジ
スタ、静電誘導サイリスタ、トランジスタ等を用いるこ
とができる。
更に昇圧用変圧器１は、交流電源が高電圧を供給するも
のであれば使用しなくてもよい。
のであれば使用しなくてもよい。
また、本実施例において、第２の主電極１４と補助電極
１３との間に誘電体を介在させることにより、予備電離
放電をより均一に発生させることができる。更に、第２
の主電極１４はメツシュ構造であり、補助電極１３は主
放電１７に対して第２の主電極１４の背面に位置するも
のを示しんが、第２の主電極１４はメツシュ構造に限定
されるものではなく、また補助電極１３は第１と第２の
主電極１２と１４との間、もしくはその側方であっても
よい。更にまた、レーザ筐体１１は鉛の如き宇宙線が透
過しない材質のもので構成するか、それをレーザ筐体１
１の内、外壁面に貼付けた構造とするのが望ましく、レ
ーザ出力の安定を図ることができる。
１３との間に誘電体を介在させることにより、予備電離
放電をより均一に発生させることができる。更に、第２
の主電極１４はメツシュ構造であり、補助電極１３は主
放電１７に対して第２の主電極１４の背面に位置するも
のを示しんが、第２の主電極１４はメツシュ構造に限定
されるものではなく、また補助電極１３は第１と第２の
主電極１２と１４との間、もしくはその側方であっても
よい。更にまた、レーザ筐体１１は鉛の如き宇宙線が透
過しない材質のもので構成するか、それをレーザ筐体１
１の内、外壁面に貼付けた構造とするのが望ましく、レ
ーザ出力の安定を図ることができる。
このように宇宙線を遮蔽することは、緩やかな。
パルス電圧の立上り過程において宇宙線が侵入して（る
機会が多く、宇宙線が通過した部分には電子、イオン等
が生成されて、主放電が宇宙線の通過域に集中するので
レーザ発振の妨げを防止することになる。
機会が多く、宇宙線が通過した部分には電子、イオン等
が生成されて、主放電が宇宙線の通過域に集中するので
レーザ発振の妨げを防止することになる。
以上詳述した如く、本発明は補助スイッチを設けてこの
補助スイッチを第１と第２の主電極との間に印加された
パルス電圧のピーク値に達する前に閉路して補助パルス
電圧を補助電極と第１の主電極との間に印加して、予備
電離放電を行わせて主放電を誘発することができる。し
たがって、従来のように主放電を行わせるための立上り
が急峻なパルス電圧を作り出す多数の可飽和リアクトル
を必要としない、そのためレーザ装置を小型化し得ると
ともに安価に製造することができる等の優れた効果を奏
する。
補助スイッチを第１と第２の主電極との間に印加された
パルス電圧のピーク値に達する前に閉路して補助パルス
電圧を補助電極と第１の主電極との間に印加して、予備
電離放電を行わせて主放電を誘発することができる。し
たがって、従来のように主放電を行わせるための立上り
が急峻なパルス電圧を作り出す多数の可飽和リアクトル
を必要としない、そのためレーザ装置を小型化し得ると
ともに安価に製造することができる等の優れた効果を奏
する。
第１図は本発明に係るレーザ装置の電気回路図、第２図
は主放電及び予備電離放電を行わせるパルス電圧の波形
図、第３図は従来のレーザ装置の電気回路図、第４図は
主放電を行わせるパルス電圧の波形図、第５図はパルス
電圧の立上り時間と放電開始電圧との関係を示すグラフ
である。 ２・・・コンデンサ ３・・・スイッチ（サイリスタ）
５・・・コンデンサ ６・・・スイッチ（可飽和リアク
トル）１１・・・レーザ筐体 １２・・・第１の主電極
１３・・・補助電極 １４・・・第２の主電極 １５・
・・放電用巳ンデンサ １８・・・補助スイッチ なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。 代理人 大 岩 増 雄 ｌｙ ３．６ ：スイ、７千 ５； コンデンす １１； レーず°筐体 １２；第１の主電極 １３、補凱曝ツ １４・第２の８：電極 ］５ 放電用コンテ°゛しす １８°踊旦力スイツチ 第 １ 記 第 ２ 口 稟 ３Ｉ５２１ 第 ４ 図
は主放電及び予備電離放電を行わせるパルス電圧の波形
図、第３図は従来のレーザ装置の電気回路図、第４図は
主放電を行わせるパルス電圧の波形図、第５図はパルス
電圧の立上り時間と放電開始電圧との関係を示すグラフ
である。 ２・・・コンデンサ ３・・・スイッチ（サイリスタ）
５・・・コンデンサ ６・・・スイッチ（可飽和リアク
トル）１１・・・レーザ筐体 １２・・・第１の主電極
１３・・・補助電極 １４・・・第２の主電極 １５・
・・放電用巳ンデンサ １８・・・補助スイッチ なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。 代理人 大 岩 増 雄 ｌｙ ３．６ ：スイ、７千 ５； コンデンす １１； レーず°筐体 １２；第１の主電極 １３、補凱曝ツ １４・第２の８：電極 ］５ 放電用コンテ°゛しす １８°踊旦力スイツチ 第 １ 記 第 ２ 口 稟 ３Ｉ５２１ 第 ４ 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、レーザ筐体内に対設された第１の主電極及び第２の
主電極並びに該第２の主電極に近接配置された補助電極
と、前記第１及び第２の主電極間に接続された放電用コ
ンデンサと、該放電用コンデンサに間歇的に電圧を印加
するパルス充電回路とを備えているレーザ装置において
、 前記パルス充電回路はスイッチとコンデン サとを含み、前記第１の主電極と前記補助電極との間に
接続された補助スイッチを備えており、該第１の主電極
と第２の主電極との間に前記放電用コンデンサから印加
されたパルス電圧がピーク値に達する前に前記補助スイ
ッチが閉路されて主放電を誘発する予備電離放電を行わ
せるように構成されていることを特徴とするレーザ装置
。 ２、スイッチはサイリスタ、トランジスタ、静電誘導サ
イリスタ、静電誘導トランジスタ若しくは可飽和リアク
トルのいずれか、又はそれらの組合せである特許請求の
範囲第１項記載のレーザ装置。 ３、パルス充電回路はスイッチとコンデンサと変圧器と
を含む特許請求の範囲第１項又は第２項記載のレーザ装
置。 ４、レーザ筐体は宇宙線を遮蔽するシールド材からなる
特許請求の範囲第１、２又は第３項に記載のレーザ装置
。 ５、レーザ筐体は宇宙線を遮蔽するシールド材を筐体壁
面に貼付けている特許請求の範囲第１、２又は第３項記
載のレーザ装置。 ６、補助スイッチは可飽和リアクトル、火花ギャップ、
又はサイラトロンである特許請求の範囲第１、２、３、
４又は第５項記載のレーザ装置。 ７、レーザ筐体内に対設された第１の主電極及び第２の
主電極並びに該第２の主電極に近接配置された補助電極
と、前記第１及び第２の主電極間に接続された放電用コ
ンデンサと、該放電用コンデンサに間歇的に電圧を印加
するパルス充電回路と、前記第１の主電極と補助電極と
の間に接続され、前記第１の主電極と第２の主電極との
間に前記放電用コンデンサから印加されたパルス電圧が
ピーク値に達する前に閉路する補助スイッチとを備えて
いるレーザ装置において、 前記第２の主電極と、前記補助電極との間 に誘電体を配設していることを特徴とするレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12617786A JPS62282475A (ja) | 1986-05-30 | 1986-05-30 | レ−ザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12617786A JPS62282475A (ja) | 1986-05-30 | 1986-05-30 | レ−ザ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62282475A true JPS62282475A (ja) | 1987-12-08 |
| JPH0461513B2 JPH0461513B2 (ja) | 1992-10-01 |
Family
ID=14928588
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12617786A Granted JPS62282475A (ja) | 1986-05-30 | 1986-05-30 | レ−ザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62282475A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63197390A (ja) * | 1987-02-12 | 1988-08-16 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | パルスレ−ザ励起電源装置 |
| JPH04221869A (ja) * | 1990-12-21 | 1992-08-12 | Mitsubishi Electric Corp | エキシマレーザ装置 |
| DE19541031A1 (de) * | 1994-11-04 | 1996-05-09 | Mitsubishi Electric Corp | Gepulste Laservorrichtung mit Entladungsanregung |
-
1986
- 1986-05-30 JP JP12617786A patent/JPS62282475A/ja active Granted
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63197390A (ja) * | 1987-02-12 | 1988-08-16 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | パルスレ−ザ励起電源装置 |
| JPH04221869A (ja) * | 1990-12-21 | 1992-08-12 | Mitsubishi Electric Corp | エキシマレーザ装置 |
| DE19541031A1 (de) * | 1994-11-04 | 1996-05-09 | Mitsubishi Electric Corp | Gepulste Laservorrichtung mit Entladungsanregung |
| US5708676A (en) * | 1994-11-04 | 1998-01-13 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Discharge excitation type pulse laser apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0461513B2 (ja) | 1992-10-01 |
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