JPS62284744A - キャラクタ描画装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、キャラクタ描画装置に関する。ここで、「キ
ャラクタ」とは、アルファベット、数字、あるいは、そ
の他の記号のことをいう。

より詳しくは、本発明は、不透明なマスク上に、多くの
異なったキャラクタの形にあけられた窓のうちのひとつ
を、作用体上の選ばれた位置に光学的に描画する装置に
関する。

例えば、本発明の重要な応用のひとつは、レーザ光を用
いて、作用体上にマークを施す装置のシステムである。

本明細書に用いられる「光」なる語は、可視光線だけで
な（、赤外線、紫外線をも意味する。高エネルギーを有
するパルス性（又は連続波）のコヒーレント光は、マス
クの選択されたキャラクタ設定窓を通して連続に投射さ
れ、作用体にそのようなキャラクタの像を焼き付けろ。

このような公知のシステムにおいては、作用体が移動さ
れるか、あるいは光学系の動きによってビームが偏向さ
れて、作用体上に単語や文章が書き込まれる。

本発明のもうひとつの応用は、例えば、視覚的なディス
プレイを提供するために、写真フィルム面、スクリーン
、又はより大規模には、壁面、ビルの側面にさえも投影
される言葉やメツセージの形成におけるものである。こ
の応用では、光はコヒーレント光でなくともよい。それ
にもかかわらず、本発明の後者の応用は、メツセージを
形成するために、マスクの異なる選択された窓を通して
ビームを連続的に投影してメツセージを表示するといっ
た基本的な特徴を備えている。

（従来技術） 従来のキャラクタ描画装置においては、可動なマスク（
例えば回転円盤）を用いて所望のキャラクタを選択し、
作用体又は表示面を動かすか、あるいは、作用体上に光
ビームを直接投影するレンズ（ファイナルレンズ）を動
かすことで作用体上のビーム投射位置を正確に選択し、
かつ単語や文章を形成すべくキャラクタを一列に配列さ
せるようにしている。

（発明の解決すべき問題点） しかしながら、作用体を動かすことは、実際上は、構造
が複雑になりすぎ、実施するのが不可能となることが、
しばしばある。その代わりにファイナルレンズを動かし
たとしても、結果として、装置は複雑になる。ファイナ
ルレンズは一般的に、非常に大きなもので、その動きを
、正確に制御するためには、高価な装置か必要となる。

又、大きな物体を動かす必要上、動作スピードが制限さ
れてしまう。

（問題点を解決するための手段） 本発明は、３個の重要な要素即ち、マスク、ファイナル
レンズ、作用体のいずれの要素をも動かす必要がなく、
優れた動作性を示すキャラクタ描画装置を提供する目的
でなされたものである。

しかしながら、本発明のいくつかの実施例にも見られる
ように、本発明は、格別の効果が得られるような場合に
は、これら要素のひとつ、あるいはそれ以上を動かすこ
とを排除する乙のではない。

このため、本発明は、特許請求の範囲第１項を提供する
ものである。

（作用） 光源から投射された光ビームが、伝達系に入射し、つい
で反射され、１次描画要素を通り、以上の光ビームの光
路上のいずれかの位置に設けられた幾つらのキャラクタ
の形の窓をもつマスクを横切り、受光系に達する。該光
ビームは、受光系によって反射され、次に２次描画要素
を通って、作用面に達してキャラクタを描画する。ここ
では、伝達系、並びに受光系は、光ビームを走査するこ
とで、マスクの所望のキャラクタを選択し、作用面の所
望の位置に描画するためにある。

（発明の効果） 伝達系、受光系のミラーを動かして走査ビームを制御す
るので、マスク、ファイナルレンズ、作用体を動かす必
要がなくなり、装置の機械的な構造が簡単になり、製作
コストも安くなる。又、動作スピードも上げることがで
き、操作性が向上する。実施例でも説明するように、可
能であれば、マスクは比較的軽量であるので、第８図の
ような円盤型として可動式にしても、動作スピードの向
上が図れる。

（実施例） 以下、添付の図面を参照して、本発明の詳細な説明する
。

第１図〜第４図に示す通り、装置は、レーザ光源ＩＯを
備えている。レーザ光源１０からてるビーム１２は、ビ
ーム幅を細くする働さを持つ望遠鏡状のレンズ系を備え
た装置１４に入射する。そのようなレーザとしては、例
えば、−辺がおよそ、２　、５　ｃｎ＋の正方形の断面
を持つ、ＴＥＡ　　Ｃｏ、パルスレーザが用いられる。

望遠鏡状装置１４は、このビームを、−辺がおよそ１．
２５ｃｍとなるような、正方形断面のビームとする。

そうして細くされたビーム１６は、ガルバノメータＧｌ
によって、Ｘ方向に垂直なＺ方向に伸びる軸に関して、
回転するようコントロールされる平板円盤型ミラーＭ１
の表面に向かって図示したＸ方向に進む。ミラーＭｌの
反射によって、ビーム１６は、別のガルバノメータＧ２
によってＸ方向に伸びる軸に関して回転する、類似の第
２のミラーＭ２に向かう。ミラーＭ１、Ｍ２は、【次、
又は「伝達」系を構成し、以下に詳しく述べる走査機能
を持つ。

第１図に示すように、上記の伝達系によって、ほぼＺ方
向に沿って、固定された球面状の凹面を持つミラーＭ３
の表面に向かって、平行ビーム１７は投射される。ミラ
ーＭ３は「１次描画要素」を構成し、平面ミラーＭ４と
Ｍ５からなる２次、又は「受光」系に向かって、平行ビ
ーム１７を反射し、集束ビーム！８を投射する。球面ミ
ラーＭ３から直接集束ビームを受けるミラーＭ４は、Ｘ
、Ｚ方向それぞれに関して垂直なＹ方向に伸びる軸に関
して回転するように、ガルバノメータＧ４によって制御
され、Ｚ方向に伸びる軸に関して回転するよう、ガルバ
ノメータＧ５によって制御されているミラーＭ５の方向
に、ビームを反射する。

球面ミラーＭ３から受光系Ｍ４．Ｍ５の途中で、ビーム
＋８は第５図に示す固定されたマスク２０を通過し、横
断面が変形した集束ビーム１９、即ち、マスクの窓を通
過し、それ故、キャラクタ設定窓のひとつの形に合って
変形したビームとなる。。

マスク２０は、キャラクタ２２の形、例えば、Ａ。

Ｂ、Ｃ等の形をした窓の列や行を除いては、普通不透明
である。マスク２０を含む装置の幾何学的配置は、第１
図、第２図に最もよく示されるように、伝達ビーム１７
が、マスク２０をそれる一方、反射ビームＩ８は、マス
ク２０を通過して変形ビーム１９になるべく、ミラーＭ
３の主軸Ａからオフセットされている。軸ＡはＺ方向に
伸びており、ビーム１６をミラーＭ３に直接反射するミ
ラーＭ２と、ミラーＭ３からのビーム１９を直接受光す
るミラーＭ４との中心点をそれぞれ結ぶ直線Ｂを横切る
。これら軸Ａ、Ｂは、Ｘ−Ｚ方向に伸びる平面を形成す
る。軸Ａに沿って、軸ＢとミラーＭ３は、２ｆの間隔が
ある。ここに、ｒはミラーＭ３の焦点距離である。マス
ク２０は、好ましくは、焦点距離よりもわずかに短い距
離、例えば、０゜８「ぐらいの距離をミラーＭ３から離
して配置する。

なお必らずしも、マスク２０を反射ビーム１８の光路上
に配置する必要はない。その時は、伝達ビーム１７の光
路上にあればよい。さらには、伝達ビームは平行ビーム
である必要はなく、集束ビームでし、発散ビームでもよ
い。この場合は、凹面ミラーＭ３による反射ビームは、
集束ビーム、発散ビーム、又は平行ビームになる。

ミラーＭ５からは、ビーム１９は都合上、作用ビーム２
＋（ここでは普通、発散ビームである）として、固定平
板ミラーＭ６へ向かい、ファイナルレンズＬｌを通過し
、作用体Ｗに達する。レンズＬ１は「２次描画要素」を
構成する。作用体Ｗは、ビームを受けるため平面である
とすると、レンズＬｌは複合の、平らな視野レンズであ
ることが望ましい。なぜなら、選択されたどのマスクキ
ャラクタの像も正確に、作用体面上のどの決められた範
囲においてら、焦点を合わせるのを確実にするからであ
る。もし、作用体面が都合のよい形の凹面をしていれば
、普通のレンズでよい。

−ム１７、例えば、第１図に示された光路１７゜１７′
を走査することである。伝達ビームが、光路１７又は＋
７’を通るかどうかにかかわらず、実際は、ビームがマ
スク中のキャラクタを、横切るかどうかにかかわらず、
ミラーＭ３は反射ビーム１９または１９′（集束してお
り、キャラクタデータを運ぶために横断面の形を変えて
いる）を、ミラーＭ４へ確実に到達させる。受光系のミ
ラーＭ４は、ビーム１９または１９′を受光し、常にミ
ラーＭ５への光路２Ｉにおける作用ビームとして反射さ
せるため、以下に述べる方法（こよって、伝達系のミラ
ーＭ１に同調して動く。

同様にして、ミラーＭ２とＭ５は、Ｙ方向において、ビ
ームを走査し受光するために、同期がとられる。第４図
においては、伝達ビーム及び受光ビームが一致している
、即ち、Ｘ方向における走査が、同時でなくても、それ
らのビームは伝達ビーム１７と受光ビーム１９から、１
７″と１９″にそれぞれ走査されているのが示されてい
る。勿論、＊Ｗ％に必要であれば、Ｘ方向とＹ方向と同
時に、走査を行うことができる。この目的のため、ガル
バノメータＧ　１．Ｇ２．Ｇ４．Ｇ５は、制御コンピュ
ータＣによって制御され、伝達ビームの進行方向と、そ
のビームが最終作用ビームの光路２１を進む事を考慮し
て、常に受光系が正しい方向のビームを受光するように
なっている。以上の方法において、マスクを全く動かさ
ずに、マスク中のどの選ばれたキャラクタをも、ビーム
が通過し、作用体へ達することになる。

図示した実施例においては、Ｘ方向の走査ミラー（即ち
、ＭｌとＭ４）は、ビームの進行方向において、最初に
進入される一方、Ｙ方向の走査ミラー（Ｍ２．Ｍ５）は
これに追随するようになっているが、伝達系と受光系の
両方において同時に行なわれるという条件であれば、こ
の順番を逆にすることができる。固定球面ミラーＭ３は
、集光手段と描画手段の二つの働きをする。いわゆる１
次描画要素は、ミラーＭ１　、Ｍ２の伝達系からのビー
ムを、ミラーＭ４．Ｍ５の受光系へ投射する。一方、フ
ァイナルレンズＬ１、いわゆる２次描画要素はマスクと
作用体との間に間隔をあけて設置され、マスク２０の中
の選ばれたキャラクタを、作用体Ｗ上へ描画することが
確実にできるような焦点距離をもつ。

この場合、ミラーＭ３は、球面状が好ましい。

なぜなら、製造コストが最ら低いからである。しかし、
池の凹面の、例えば楕円凹面のミラーらまた用いること
ができる。

上記の装置が、作用体Ｗの面上の少なくとも１列に沿っ
て伸びる文字列、即ち、レーザｌＯの連続的なパルスひ
とつに対するひとつの文字を、マーキングするのに用い
られる場合には、制御装置Ｃは既に述べたミラーＭ４の
動き（Ｘ方向）とミラーＭ５の動き（Ｙ方向）、即ち、
固定方向の光路２１を保つために必要な動きに、作用体
面上のキャラクタの所望の並び方を成すのに必要な方法
で光路２１を動かすような更に新しい動きを重ね合わせ
るように制御する。

第５図に示すように、伝達系のミラーＭ１とＭ２の位置
決めは、都合の良い位置、例えば、マスク２０の角に設
けられた複数個（好ましくは４個）のセンサ２４によっ
て成される。ガルバノメータＧ１、Ｇ２は、センサ２４
のそれぞれが感応するまで走査するように、最初にプロ
グラムされ、制御装置Ｃによって伝達ビームの様々な方
位が決められる。受光系のミラーＭ４．Ｍ５の位置決め
のためには、マスクに設けられた１組の穴２６が用意さ
れる。ビームがその穴を通過し、例えば作用体平面上デ
ータポイントに設けられたセンサ（図示せず）によって
、受光され、ビームの行き先が探知されると、作用ビー
ムとミラーＭ４．Ｍ５の方位を知ることができる。

もし、主レーザ１０が、例えば、出力が小さすぎたり、
適当な波長でなかったりして、上記のような位置決めの
目的に合わない時は、第６図のように、補助レーザやラ
ンプ等の光源２８が用いられる。そのビーム２９は、例
えば、ゲルマニウム板のようなビーム結合要素による装
置３０に入射する。低出力のヘリウムネオン、連続波レ
ーザ、ｒ「上目去缶キ１器ｈ（麺片日ｈ１ノー峰ドシ　
１１−ｌ予価壬１１１ｉ太ス作用体にマークする時に、
普通９ヒーレント光を用いるが、本発明は、光源として
コヒーレント光を用いることに拘束されるものではない
。表示目的としてや、写真フィルムにマークするために
本装置を用いるときは、レーザ１０をランプに置き換え
ることかできる。

更には、１次描画要素として、ミラーＭ３を、第７図に
示すように、レンズＬ２て置き換えてら良い。その場合
、２組のミラー系Ｍ１、Ｍ２とＭ４、Ｍ５は、レンズＬ
２の両側に対称、等距離に配置する。マスク２０は、レ
ンズＬ２のミラー系Ｍ４．Ｍ５側に配した方が好ましい
。ミラーＭ２とＭ４それぞれのレンズＬ２からの距離は
、レンズＬ２の焦点距離をｒとすると、２「が好ましい
。

この配置では、レンズの主軸Ａ上にマスクの中心が来る
というｆ１１点がある。しかし、ミラーＭ３を用いる時
の重要な利点は、機賊的構成がよりコンパクトになると
いうことである。

本発明の有利な点のひとつは、所望のキャラクタと作用
体、スクリーン、あるいは池の面の選ばれた位置におけ
るこのキャラクタの像の位置を選択するために、固定マ
スクを効果的に走査をすることができることである。尚
、「作用体面」なる語は、あらゆる可能性を持たせて用
いられている。

しかし、固定マスクを用いて操作する本発明の能力は、
当然の有利さく操作スピードアップと同様の機械的構造
の簡単さ）である一方、固定作用体面と固定ファイナル
レンズを用いて操作できるということの方がより価値が
高い。実際、可動マスクをもつ点において有利さをもつ
実施例が幾つかある。例えば、第８図には、軸３３に関
して回転でき、周辺部に２つまたはそれ以上の文字列３
４．３５を備えた円盤型のマスク３２が示されている。

所望のキャラクタの選択は、円盤３２を回し、選ばれた
キャラクタが光路と一致したとき、レーザビームを出し
てやれば良い。操作速度を上げるには、円盤３２の回転
速度を上げるか、アルファベット（または、その他の文
字列）を円盤周辺に、繰り返して配置することである。

マスクのこの動きは、ビームを喰切るＹ方向において行
なわれるとして、Ｙ方向における伝達系のミラーを走査
することは、もはや必要ではない。Ｙ方向に伸びる軸に
関して回転できる一枚の平板ミラーと別の類似のミラー
Ｍ１は、Ｘ方向に伝達ビームの走査を行なう。しかし、
受光系のミラーＭ　４　、　Ｍ　５を操作するガルバノ
メータによるＸ方向、Ｙ方向両方の走査は、作用体面の
所望の位置に受光ビームを投影するための手段を用意す
る必要性が生じる。

第９図には、上記の第８図に関する発明の実施例を使用
するにあたって、特に最適化したより一層簡単化したも
のを示す。すなわち、１次描画要素としてのミラーＭ３
の代わりになるミラーＭ３′を提供するために、大体球
面上に並べた平板ミラー列３６を示す。このように、平
板ミラーを、本当の凹面の代わりに、凹面状に並べた理
由は、第８図の実施例において、ビームが走査されるべ
きキャラクタの場所は、比較約数が少ないからである。

第１０図には、伝達系または、受光系、あるいは、それ
ら両方のための別の装置を示している。

即ち、Ｘ方向、Ｙ方向どちらでもビームを走査できる「
音響・光学」装置である。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の好ましい実施例の概要図である。 第２図は、第１図を、図示した■−■線方向から見たし
のである。 第３図は、第１図を、図示したＩＩＩ−Ｉ［１線方向か
ら見たものである。 第４図は、第１図を、図示した■−ＩＶ線方向から見た
ものである。 第５図は、第り図〜第４図にあるマスクの一例である。 第６図は、第１図に修正を加えたものの一部である。 第７図は、本発明の別の実施例の一部である。 第８図は、マスクの別の形である。 第９図は、ミラーの別の形である。 笛１　ｎ　Ｉｔ９１１−）　　笛１１ＶＩ＋、−Ｑｌｌ
／７’１ｍ；ＴｊＬｈｌｌ　’ｉナーｔ１のの一部であ
る。 １０．１４・・・光源、１６・・・入射光ビーム、１７
・・・伝達された光ビーム、 Ｍ１、Ｍ２・・・伝達系、１８．１９・・・ビーム、Ｍ
３．Ｌ２・・・１次描画要素、２２・・・窓列、２０・
・・マスク、Ｘ、Ｙ、Ｚ・・・互いに垂直な方向、Ｇ１
、Ｇ２，３３・・・ビームをマスクの所望のキャラクタ
を通過させる手段、Ｍ４．Ｍ５・・・受光系、Ｇ４．Ｇ
５・・・ビームを走査する手段、２１・・・作用ビーム
、Ｌｌ・・・２次描画要素、Ｗ・・・作用面、Ｃ・・・
制御手段、 ４０・・・音響・光学装置、３６・・・平板ミラー列、
Ａ・・・Ｍ３，３６の主軸。 特許出願人ルーモニクス・インコーホレーテッド代　理
　人　弁理士　青白　　葆ばか２名第５図 第６図 第８図　　　　第９図 第１０図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１） （ａ）光源（１０、１４）と、 （ｂ）上記光源からの入射光ビーム（１６）を受光する
   とともに、伝達された光ビーム（１７）として投射する
   伝達系（Ｍ１、Ｍ２）と、 （ｃ）受光系（Ｍ４、Ｍ５）と、 （ｄ）伝達系からの伝達ビーム（１７）を受光するとと
   もに、上記受光系に上記ビーム（１８）を投射する１次
   描画要素（Ｍ３、Ｌ２）と、 （ｅ）各々がキャラクタの形をなし、その像が作用面上
   に投影されるようになった窓列（２２）を有し、上記ビ
   ーム（１８）の光路上に配置された不透明マスク（２０
   ）と、 （ｆ）上記マスクに相対して、互いに直行するとともに
   上記伝達ビームの方向（Ｚ）にほぼ垂直な２方向（Ｘ、
   Ｙ）に、上記伝達ビーム（１７）を走査し、上記ビーム
   （１８、１９）をマスク内のキャラクタのうち選択され
   たキャラクタを通過させる手段（Ｇ１、Ｇ２またはＧ１
   、３３）を備え、（ｇ）１次描画要素からの上記伝達系
   （Ｍ１、Ｍ２）、受光系（Ｍ４、Ｍ５）との距離と、該
   １次描画要素の焦点距離は、上記ビームがマスクのキャ
   ラクタを横切ると否とに拘わらず、該１次描画要素が伝
   達系を受光系に投影することができるように設定され、 （ｈ）伝達ビームを走査する手段に同期していて、互い
   に直行するとともに上記受光ビーム（Ｚ）の方向に垂直
   な２方向（Ｘ、Ｙ）上にある１次描画要素からのビーム
   （１９）を走査する手段（Ｇ４、Ｇ５）を含んでいて、
   該走査手段は、 （ｉ）上記伝達ビームが横切るマスクの キャラクタには因らず、 （ｉｉ）マスクの横切られるキャラクタの 像を投影するべき作用面上の所望の位置 によって決まる 方向に伸びる作用ビーム（２１）を形成し、（ｉ）作用
   ビームを受光し、該作用ビームを作用面（Ｗ）に投影す
   る２次描画要素（Ｌ１）を備えており、 （ｊ）上記２次描画要素からのマスク及び作用面との距
   離と２次描画要素の焦点距離は、マスクの横切られたキ
   ャラクタの像を、作用面に投影するように設定された キャラクタ描画装置。 （２）上記伝達ビームを走査する上記手段（Ｇ１、Ｇ２
   ）が伝達系に設けられ、マスクは静止されている特許請
   求の範囲第１項記載のキャラクタ描画装置。 （３）上記伝達ビームを走査する上記手段は、第１の方
   向（Ｘ）について伝達ビームを走査する伝達系に含まれ
   る手段（Ｇ１）と、第２の方向（Ｙ）についてマスクを
   動かす手段（３３）を含む特許請求の範囲第１項記載の
   キャラクタ描画装置。 （４）上記伝達系は、 （ｋ）上記の光源からの入射光ビームを受光する第１ミ
   ラーと、第１ミラーからの反射ビームを受光し、ほぼＺ
   方向に１次描画要素に向かって、上記伝達ビームを投射
   する第２のミラーからなる１組の平板ミラー（Ｍ１、Ｍ
   ２）を備えており、 上記伝達系の走査手段（Ｇ１、Ｇ２）は、 （１）上記の１組の平板ミラーの第１ミラーを、Ｘ方向
   について伝達ビームを走査するために回転させる手段（
   Ｇ１）と、 （ｍ）上記の１組の平板ミラーの第２ミラーを、Ｙ方向
   について伝達ビームを走査するために、回転させる手段
   （Ｇ２）と を備えた特許請求の範囲第２項記載のキャラクタ描画装
   置。 （５）上記受光系は、 （ｎ）１次描画要素からのビームを受光する第１ミラー
   と、該第１ミラーからの反射ビームを受光し、上記の作
   用ビームを投射する第２ミラーとからなる第２の１組の
   ミラー（Ｍ４、Ｍ５）を備えており、 受光系のいま一つの走査手段（Ｇ４、Ｇ５）は、（ｏ）
   １次描画要素からのビームを、Ｘ方向に走査するために
   、第２の１組のミラーのうちのひとつを回転させる手段
   （Ｇ４）と、 （ｐ）１次描画要素からのビームを、Ｙ方向に走査する
   ために、第２の１組のミラーのうちの残りのひとつを回
   転させる手段（Ｇ５） とを備えており、 本装置は、 （ｑ）（ｉ）上記ビームの光路に拘わらず、従って、マ
   スクの横切られるキャラクタと独 立して、上記の作用ビームの進行方向を 与えるために、伝達系のＸ方向の走査ミ ラーの回転と、受光系のＸ方向の走査ミ ラーの回転とを同期させるとともに、伝 達系のＹ方向の走査ミラーの回転と、受 光系のＹ方向の走査ミラーの回転とを同 期させ、 （ｉｉ）更に、上記作用ビームの上記進行 方向を、上記作用ビームを作用面の所望 の位置に投影させるために修正するため、 受光系のミラーの少なくともひとつを回 転させる 制御手段（Ｃ）を含む特許請求の範囲第４項記載のキャ
   ラクタ描画装置。 （６）上記伝達系、受光系のうち少なくともひとつは、
   音響・光学装置（４０）を備えた特許請求の範囲第１項
   、第２項、第３項、第４項、第５項のいずれか一に記載
   のキャラクタ描画装置。 （７）１次描画要素は、主軸（Ａ）をもつ凹面ミラー（
   Ｍ３）であり、伝達系と受光系はそれぞれ、上記凹面ミ
   ラーからほぼ上記主軸の方向に、上記凹面ミラーの焦点
   距離のほぼ２倍の位置に配置され、上記伝達系、受光系
   はそれぞれ、上記主軸に関して対向する側に配置されて
   いる特許請求の範囲第１項、第２項、第３項、第４項、
   第５項、第６項のいずれか一に記載のキャラクタ描画装
   置。 （８）１次描画要素はレンズ（Ｌ２）であり、伝達系と
   受光系は、上記レンズから、その焦点距離のほぼ２倍の
   位置に、上記レンズの反対側にそれぞれ配置される特許
   請求の範囲第１項、第２項、第３項、第４項、第５項、
   第６項、第７項のいずれか一に記載のキャラクタ描画装
   置。 （９）１次描画要素は凹面上に配列した平板ミラー列（
   ３６）であり、この凹面配列は主軸（Ａ）を規定してお
   り、伝達系と受光系は、該凹面配列から、ほぼ上記の主
   軸の方向に該凹面配列の焦点距離のほぼ２倍の距離離れ
   た位置に、かつ、上記主軸をはさんで対向する側にそれ
   ぞれ配置される特許請求の範囲第１項、第２項、第３項
   、第４項、第５項、第６項、第７項、第８項のいずれか
   一に記載のキャラクタ描画装置。 （１０）上記伝達系は、 （ｋ）光源からの入射光ビームを受光し、１次描画要素
   へ伝達ビームを投射する平板ミラー（Ｍ１） を備えており、 上記受光系の走査手段は、 （ｌ）上記第１の方向（Ｘ）に関して、伝達ビームを走
   査する上記平板ミラーを回転させる手段（Ｇ１） を備えた特許請求の範囲第３項記載のキャラクタ描画装
   置。 （１１）上記受光系は、 （ｍ）１次描画要素からのビームを受光する第１ミラー
   と、上記第１ミラーからの反射ビームを受光し、それを
   上記作用ビームとして投射する第２ミラーとからなる１
   組の平板ミラー（Ｍ４、Ｍ５） を備えており、 受光系の走査手段（Ｇ４、Ｇ５）は、 （ｎ）Ｘ方向に関して、１次描画要素からのビームを走
   査する上記の１組のミラーのうちひとつを回転させる手
   段（Ｇ４）と、 （ｏ）Ｙ方向に関して、１次描画要素からのビームを走
   査する上記の１組のミラーのうち残りのひとつを回転さ
   せる手段（Ｇ５）と を備えており、 本装置は、 （ｐ）（ｉ）上記ビームの光路に拘わらず、従って、マ
   スクの横切られるキャラクタと独 立して、上記の作用ビームの進行方向を 与えるために、上記の第１の方向（Ｘ）に おける走査に関して、伝達系のミラーの 回転と、受光系のミラーの回転とを同期 させるとともに、第２の方向（Ｙ）におけ るマスクの動きと、上記の第２の方向に 関する走査のための受光系のミラーの動 きとを同期させ、 （ｉｉ）更に、上記作用ビームの進行方向 を、上記作用ビームを作用面の所望の位 置に投影させるために修正するため、受 光系のミラーの少なくともひとつを回転 させる 制御手段（Ｃ）を含む特許請求の範囲第１０項記載のキ
   ャラクタ描画装置。