JPS6230122B2 - - Google Patents

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JPS6230122B2
JPS6230122B2 JP57101515A JP10151582A JPS6230122B2 JP S6230122 B2 JPS6230122 B2 JP S6230122B2 JP 57101515 A JP57101515 A JP 57101515A JP 10151582 A JP10151582 A JP 10151582A JP S6230122 B2 JPS6230122 B2 JP S6230122B2
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catalyst
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pentadien
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Chaaruzu Maikeruson Robaato
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は水素と酸素との均一接触反応による過
酸化水素の製造法に関する。
過酸化水素の製造のために現在数種の方法が使
用されている。これらの方法は(i) 硫酸塩含有溶
液（たとえば重硫酸アンモニウム溶液）の電解に
より過硫酸塩を製造し、これを加水分解して該硫
酸塩を回収し過酸化水素を得る方法、(ii) イソプ
ロピルアルコールを酸化して副生アセトンと過酸
化水素とを得る方法、および(iii) アンスラキノン
を自動酸化させて過酸化水素を得る方法である。
これらの方法の欠点として、電解法のエネルギー
の厖大な消費、ならびに化学方法に伴なうかなり
な投下資本と原料費があげられる。
これらの技術に対する別の方法として、水素と
酸素とを直接に化学反応させて過酸化水素を製造
する方法が多数の研究者によつて研究された。
Dyerらの米国特許第4128627号には２相反応媒
質中の水不溶性触媒を使用して水素と酸素とから
過酸化水素を合成するための均一接触法が記載さ
れている。この均一接触系における好ましい触媒
はビス〔トリ（ペンタフロロフエニル）ホスフイ
ン〕パラジウムジクロライド、ビス（トリシクロ
ヘキシルホスフイン）パラジウムジクロライド、
およびビス（トリフエニルアルシン）パラジウム
ジクロライドである。
不均一接触系を使用して過酸化水素をその構成
元素から製造する方法はIzumiらの米国特許第
4009252号；Kimらの米国特許第4007256号；
Hookerの米国特許第3361533号および同第
3336112号；Campbellらの米国特許第1094804号
および英国特許第1094804号；に記載されてい
る。
然しながら、これらの提案された合成法のどれ
１つとして商業ベースで過酸化水素を製造するた
めに十分に効率的な且つ満足すべきものであるこ
とが実証されたものはない。
均一接触反応を使用する過酸化水素の製造のた
めの触媒系すなわち反応溶媒中に溶解させた触媒
は、不均一接触系すなわち固相触媒系よりすぐれ
ていた好ましい。均一接触系の特徴は一般に温和
な反応条件（エネルギー強度が少ない）、反応試
剤を基準とする高い選択性（最少の反応試剤コス
ト）および比較的高い収率である。
このような利点にもかかわらず、従来技術によ
る遷移金属均一接触はその商業的使用を思いとど
まらせる欠点に悩まされている。これらの悪い特
徴として、反応条件下での貧弱な触媒安定性、反
応媒質中への限られた溶解度、および過酸化水素
製造の低い反応速度、などがあげられる。
本発明の均一接触は均一接触系に通常同伴する
マイナスの特徴を最小にするように意図されたも
のである。
本発明によれば過酸化水素は、(i) ジベンジリ
デンアセトンのパラジウム（０）複合体を均一触
媒として溶解させた不活性有機溶媒相と(ii) 第２
相としての水溶液とを含む２相均一溶媒系のガス
状の水素および酸素を過酸化水素を生成させるに
十分な時間接触させ；過酸化水素反応生成物を該
有機相から該水性相に抽出し；そして過酸化水素
を含む該水性相を回収する；ことによつて製造さ
れる。
本発明による過酸化水素の製造に使用する均一
触媒はジベンジリデンアセトンのパラジウム
（０）複合体である。ジベンジリデンアセトンは
１・５−ジフエニル−１・４−ペンタジエン−３
−オンまたは略してDBAとも呼ばれ、この明細
書では慣用の用語および正式な用語が交互に使用
されているが、これらはいづれも次の一般式をも
つ同じ化合物である。
パラジウムはこれらのジベンジリデンアセトン
複合体中で原子価ゼロの状態で存在し、そしてジ
ベンジリデンアセトンと１：１の比以外で組み合
わせることもできる。置換されていないジベンジ
リデンアセトンのパラジウム複合体としては、た
とえばビス−１・５−ジフエニル−１・４−ペン
タジエン−３−オン パラジウム（０）；トリス
−１・５−ジフエニル−１・４−ペンタジエン−
３−オン パラジウム（０）；およびトリス−
１・５−ジフエニル−１・４−ペンタジエン−３
−オン ジパラジウム（０）があげられる。“ジ
ベンジリデンアセトンのパラジウム（０）複合
体”とは個々の複合体ならびにそれらの混合物を
も包含する用語として使用される。
ジベンジリデンアセトンのパラジウム（０）複
合体のジベンジリデンアセトン部分は置換されて
いてもよく、また置換されていなくてもよい。好
ましい置換基はハロゲン特に塩素および弗素；低
級アルキル基特にメチル、エテルおよびプロピ
ル；ならびにアルコキシ基特にメトキシである。
良好な触媒活性は置換基がジベンジリデンアセ
トンのベンゼン環のパラ位置に存在するときにえ
られた。置換触媒として好ましいものには、ｐ−
クロロ、ｐ−フロロ、ｐ−イソプロピル、および
ｐ−メトキシで置換されたジベンジリデンアセト
ンのパラジウム（０）複合体がある。
置換ジベンジリデンアセトン−パラジウム
（Ｏ）複合体（特にハロ置換複合体）の利点は25
℃付近の温度における触媒活性の損失に対するそ
のすぐれた安定性である。この良好な触媒安定性
は所望により長い反応時間の使用を可能にし、そ
して再生または交換の必要なしに長時間の触媒の
使用を可能にする。
置換ジベンジリデンアセトン−パラジウム
（０）複合体（特に低級アルキルたとえばイソプ
ロピルの置換基をもつもの）に伴なう別の利点
は、不活性有機溶媒中でのそれの改善された溶解
度である。溶解度が良好なほど溶媒中で使用すべ
き触媒濃度を高くすることができ、過酸化水素生
成の増大した収率または増大した反応速度がえら
れる。
本発明において不活性有機溶媒中で使用する触
媒の濃度は約５×10-5M（有機溶媒１当りの触
媒のｇ−モル）程度の低濃度から有機溶媒中の飽
和濃度までの範囲でありうる。触媒は有機溶媒中
に好ましくは0.1×10-3Mから飽和濃度までの、
最も好ましくは0.5×10-3M〜2.5×10-3モルの濃
度で存在する。
本発明の均一接触系で使用する際の好ましい触
媒は２相（水と混合した不活性有機溶媒）の水性
相中に1.5重量％H2O2以上の過酸化水素濃度を生
ぜしめることができる。
反応は有機溶媒層と水性相とから成る２相反応
媒質を使用することによつて行なわれる。
本発明の触媒は実質的に水に不溶であり、それ
故に有機溶媒は触媒を溶解しうるものでなければ
ならず、且つ水とは不混和性であるべきである。
有機溶媒は不活性すなわち反応条件下で過酸化水
素と非反応性でなければならない。
水性相は触媒含有有機相から過酸化水素生成物
を抽出するために反応媒質中で使用され、これに
よつて触媒によつて誘起される過酸化物の分解の
可能性を最小にする。そのために、有機溶媒は有
機相から水性相への過酸化水素の除去を有利にし
て過酸化水素の水性抽出を増大させるような過酸
化水素に対する分配係数をもつべきである。水性
相への過酸化水素の分配を促進するための添加剤
を水性相中に存在させることもできるが、これは
必須ではない。
好ましい有機溶媒として、トルエン、キシレン
および塩素化溶媒（ジクロロメタン、ジクロロベ
ンゼンおよびジクロロエタンなど）があげられ
る。トルエンが最も好ましい。
有機溶媒相と水性相との比は臨界的ではない。
その比は容量で約１：９から９：１の範囲であり
うる。１：１よりも過剰の溶媒相：水性相の比が
好ましく、この比は生成する過酸化物の総量を実
質的に減少させることなしに、水性相中の過酸化
水素濃度を最大にするようにえらばれる。
２相は反応中に良好な接触状態に保たれるべき
である。これは機械的かくはんにより、更に好ま
しくは２つの液相をガス状の水素および酸素の反
応試剤により発泡または接触させることによつて
行なわれる。反応の完了後に、２つの液相は簡単
に分離させることができ、H2O2含有水性相は容
易に回収される。
ガス状の反応試剤すなわち水素および酸素は純
粋なガスとして使用することができ、また過酸化
反応に不活性な他のガスと混合して使用すること
もできる。たとえば、酸素は空気として供給する
ことができ、あるいは他の不活性希釈剤もしくは
キヤリヤーガスを使用することもできる。
触媒含有不活性有機溶媒と接触させるガス状雰
囲気中の水素：酸素の容量比は広い範囲内で変化
させることができる。等容量の水素および酸素が
満足すべき結果を与える。然しながら、酸素の多
い雰囲気が、好ましくない幅反応たとえば過酸化
水素の水への還元を最小にするために、ある環境
のもとでは好ましくありうる。水素は一般に酸素
よりも有機溶媒中への溶解性が乏しいので、水素
の多い雰囲気が一般に有利であり、それによつて
実質的にすべての酸素が吸収され、実質的に純粋
な水素雰囲気が循環せしめられる。
自明の理由により、H2−O2混合物の爆発範囲
外の水素−酸素混合物からに好ましい。
過酸化水素生成反応を行なう温度は水性相の凝
固点から35℃またはそれ以上までの範囲でありう
る。
約０℃〜25℃の温度が好ましい。０℃またはそ
れ以下の低温は触媒の安定性を増加させるけれど
も、過酸化物生成反応がおそいという犠牲を伴な
う。35℃を越える温度は過酸化水素の急速な生成
を与えるが、触媒活性は短かい寿命になりうる。
反応方法は好ましくは約25000KPaまでの超大
気圧で望ましく行なわれる。約500〜3500KPa
（50〜500psiｇ）の中程度の圧力が好ましい。よ
り高い圧力は反応媒質中での過酸化水素生成速度
の増大をもたらすと予想されるが、このような高
圧は商業規模で保持するのが困難であり且つ高価
である。
反応時間は数分から数時間の範囲でありうる。
好ましい反応時間は0.25時間〜24時間である。使
用する反応時間の最適は選択は代表的には使用す
る反応温度および特定の触媒に部分的に依存す
る。過酸化水素生成速度および触媒安定性は反応
温度によつて影響を受けるからである。
触媒の調整 本発明の方法に使用するジベンジリデンアセト
ンのパラジウム複合体の合成は下記の如く比較的
簡単である。
この溶媒は適切なリガンドたとえばジベンジリ
デンアセトン過剰量の存在下でメタノール溶液中
で塩化亜パラジウム酸ナトリウムまたは２塩化パ
ラジウムを還元するとによつて代表的に製造され
る。
ビス−（ジベンジリデンアセトン）パラジウム
（０） 濃塩酸（100ml）中に２塩化パラジウム（1.0
ｇ；5.64ミリモル）を溶解し、過剰の塩化ナトリ
ウム（1.0ｇ；17.1ミリモル）を加え、次いでこ
の溶液を真空蒸発することによつてまず塩化亜パ
ラジウム酸ナトリウムを合成した。この塩化亜パ
ラジウム酸ナトリウム（2.0ｇ；6.80ミリモル）
と過剰のジベンジリデンアセトン（6.37ｇ；27.2
ミリモル）との混合物を不活性雰囲気下でメタノ
ール（200ml）中で環流させた。プロトン受容体
として役立つ酢酸ナトリウム（1.67ｇ；20.4ミリ
モル）を上記の熱い溶液に加えた。次いで溶液を
氷浴中で冷却してビス−（ジベンジリデンアセト
ン）パラジウム（０）の紫色結晶を沈殿させ、こ
れを過および乾燥した。この合成技術はタカハ
シらのChem.Commun.1065（1970）に一般的に
記載されている。
トリス−（ジベンジリデンアセトン）パラジウム
（０） ビス−（ジベンジリデンアセトン）パラジウム
（0.10ｇ；0.17ミリモル）をメチレンクロライド
にとかし、この溶液をミルポアフイルター上で
過して元素状パラジウムを除いた。ジベンジリデ
ンアセトン（0.51ミリモル）をこの容液に加え、
この溶液を室温で24時間かくはんした。次いでこ
の溶液を蒸発してトリス−（ジベンジリデンアセ
トン）パラジウム生成物の紫色結晶をえた。
トリス−（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウ
ム（０） ジベンジリデンアセトン（4.6ｇ；19.6ミリモ
ル）および酢酸ナトリウム（3.9ｇ；4.75ミリモ
ル）をメタノール（150ml）中に、不活性雰囲気
下で還流下に加熱することによつて、溶解させ
た。この熱い溶液に２塩化パラジウム（1.05ｇ；
5.92ミリモル）を加え、これを４時間かくはん
し、還流させた。この溶液を冷却することによつ
てトリス−（ジベンジリデンアセトン）パラジウ
ムの紫色結晶を沈殿させ、過および乾燥した。
μ３−トリス−〔１・５−ジ（ｐ−メトキシフエ
ニル）−１・４−ペンタジエン−３−オン〕ジパ
ラジウム（０） μ３はトリス−μとも呼ばれ、μ（電子対を与
える架橋原子）が３個存在することを示す
［Nomenclature of Inorganic Chemistry.IUPAC
（International Union of Pure and Applied
Chemistry）刊行、第２版（1970 Rules）1971年
発行；第65〜66頁参照］。
ｐ−メトキシベンズアルデヒド（136.4ｇ；1.0
モル）をアセトン（29.0ｇ；0.5モル）にとかし
た。この溶液の半分を室温で、水酸化ナトリウム
（100ｇ）、水（１）およびエタノール（800ml）
からなる溶液に加え、この混合物を15分間激しく
かくはんした。残余のｐ−メトキシベンズアルデ
ヒド溶液を加え、混合物を30分間かくはんした。
混合物から黄緑色結晶を過して水洗し、１・５
−ジ（ｐ−メトキシフエニル）−１・４−ペンタ
ジエン−３−オンを真空乾燥した。
この前駆物質（5.8ｇ；20ミリモル）および酢
酸ナトリウム（3.9ｇ）を50℃の温度でメタノー
ル（300ml）にとかした。この溶液にPdCl2（1.05
ｇ；６ミリモル）を加え、温度を40℃に低下さ
せ、そして溶液を４時間かくはんした。次いでこ
の溶液を冷却してトリス−〔１・５−ジ（ｐ−メ
トキシフエニル）−１・４−ペンタジエン−３−
オン〕ジパラジウム（０）を沈殿させ、これを
過して水およびアセトンで洗い、真空乾燥した。
μ３−トリス−〔１・５−ジ（ｐ−イソプロピル
フエニル）−１・４−ペンタジエン−３−オン〕
パラジウム（０） 中間体としての１・５−ジ（ｐ−イソプロピル
フエニル）１・４−ペンタジエン−３−オンを経
由して触媒を製造した。この中間体は次のように
してえた。ｐ−イソプロピルベンズアルデヒド
（149.4ｇ；1.0モル）をアセトン（29.5ｇ；0.5モ
ル）にとかした。この溶液の半分を室温で、水酸
化ナトリウム（100.5ｇ）、水（1.0）およびエ
タノール（800ml）からなる第２溶液に加えた。
合体した溶液を15分間激しくかくはんし、残余の
ｐ−イソプロピルベンズアルデヒド溶液を加え、
合体した溶液を室温で30分間かくはんした。中間
体である１・５−ジ（ｐ−イソプロピルフエニ
ル）−１・４−ペンタジエン−３−オンを黄色油
状物として溶液から回収した。
１・５−ジ（ｐ−イソプロピルフエニル）−
１・４−ペンタジエン−３−オン（6.0ｇ；20ミ
リモル）および酢酸ナトリウム（3.9ｇ）を50℃
の温度でメタノール（200ml）にとかした。この
熱い溶液に２塩化パラジウムを加え、温度を40℃
に低下させ、この混合物を４時間かくはんした。
μ３−トリス−〔１・５−ジ（ｐ−イソプロピル
フエニル）−１・４−ペンタジエン−３−オン〕
パラジウム（０）は紫色沈殿であり、これを冷却
溶液から過し、水およびアセトンで洗い、真空
乾燥した。
μ３−トリス−〔１・５−ジ（ｐ−クロロフエニ
ル）−１・４−ペンタジエン−３−オン〕ジパラ
ジウム（０） 中間体である１・５−ジ（ｐ−クロロフエニ
ル）−１・４−ペンタジエン−３−オンを経て触
媒を製造した。この中間体は次のようにしてえ
た。ｐ−クロロベンズアルデヒド（149.05ｇ、
0.1モル）およびアセトン（２・９ｇ、0.05モ
ル）をエタノール（40ml）にとかした。この溶液
の半分を室温において、水酸化ナトリウム（10.0
ｇ）、水（100ml）およびエタノール（40ml）から
なる溶液に加えた。合体した溶液を15分間激しく
かくはんし、残余のｐ−クロロベンズアルデヒド
溶液を加え、合体した溶液を室温で30分間かくは
んした。中間体である１・５−ジ（ｐ−クロロフ
エニル）−１・４−ペンタジエン−３−オンを黄
色固体として回収した。
１・５−ジ（ｐ−クロロフエニル）−１・４−
ペンタジエン−３−オン（6.0ｇ；20ミリモル）
および酢酸ナトリウム（3.9ｇ）を、２プロパノ
ール（400ml）、メタノール（200ml）および酢酸
エチル（200ml）からなる混合物に70℃の温度で
とかした。この熱い溶液の２塩化亜パラジウム
（1.05ｇ；６ミリモル）を加え、温度を40℃に低
下させ、混合物を４時間かくはんした。μ３−ト
リス〔１・５−ジ（ｐ−クロロフエニル）−１・
４−ペンタジエン−３−オン〕ジパラジウム
（０）は紫色の沈殿であり、これを熱い溶液から
過し、水およびアセトンで洗い、真空乾燥し
た。
触媒試験法 本発明の方法で使用するパラジウム触媒を次の
方法によつて試験した。
水素と酸素との反応による過酸化水素の製造を
500mlの肉厚フイツシヤー・ポーター耐圧ガラス
びん中で行なつた。このガラスびんには圧力計、
２種のガスの入口、排出口または補助入口、およ
びびんを密封するためにＯ−リングを装備した。
この反応びんには代表的に40mgの固体パラジウ
ム触媒、40mlの溶媒（この溶媒中に触媒が溶解し
ている）、および40mlの水を充てんした。このび
んを密封して等量部の水素および酸素ガスを充て
んし、全圧を150psig（1034KPa）にした。
反応びんの内容物を、このびんの中にある磁性
かくはん棒により激しくかくはんした。びんの内
容物の温度を氷浴または氷浴により制御した。
所望の反応時間の経過後、反応びんを大気圧に
開放して、その内容物を過酸化水素について分析
した（過マンガン酸塩または硫酸第二セリウムの
滴定による。
実施例 １ パラジウムのジベンジリデンアセトン複合体の
混合物〔Pd（DBA）2；Pd（DBA）3；およびPd2
（DBA）3〕を実施例１、２および３に使用した。
ジベンジリデンアセトン−パラジウム触媒
（40.2mg；７×10-2ミリモル）をトルエン40mlに
とかし、これに40mlの水を加えた。これらのすべ
ては500mlのガラス製反応びん中に含まれてい
た。このびんを等容量の水素および酸素ガスで
140psig（965KPa）に加圧した。密閉した反応器
を０℃の温度に保ち、その内容物を６時間激しく
かくはんした。次いで反応びんを排気し、その内
容物を過酸化水素について分析した。水性相は
0.74重量％のH2O2を含んでいることがわかつ
た。
実施例 ２ ほぼ同量の触媒（42.0mg；7.3×10-2ミリモ
ル）を使用して実施例１の方法を再び行なつた。
０℃の反応温度の代りに、反応びんの内容物の温
度を25℃に保ち、びんの内容物をやや長時間（８
時間）かくはんした。水性相を分析して、それが
0.30重量％のH2O2を含んでいることがわかつ
た。
実施例 ３ トルエンの代りに異なつた溶媒クロロベンゼン
（40ml）を使用して実施例１の一般的方法を再び
行なつた。類似量の触媒（40.1mg；7.0×10-2モ
ル）を使用した。
反応びんの内容物を比較的短い時間（１時間）
かくはんしながら５℃に保つた。水性相を分析し
てそれが0.82重量％のH2O2を含んでいることが
わかつた。
実施例 ４ 実施例１〜３の置換されていないジベンジリデ
ンアセトン−パラジウム触媒の代りに、トリス−
〔１・５−ジ（ｐ−クロロフエニル）−１・４−ペ
ンタジエン−３−オン〕ジパラジウム（０）を実
施例４〜６で使用した。
トリス−〔１・５−ジ（ｐ−クロロフエニル）−
１・４−ペンタジエン−３−オン〕ジパラジウム
（０）触媒（40mg×3.6×10-2ミリモル）を40mlの
クロロベンゼンにとかし、40mlの水と共にガラス
製反応びんに導入した。等容量の水素および酸素
ガスにより、びんを150psig（1034KPa）に加圧
した。
反応びんの内容物を２時間かくはんしながら25
℃の温度に保つた。水性相を分析してそれが1.7
重量％のH2O2を含んでいることがわかつた。
実施例 ５ クロロベンゼン溶媒の代りにトルエンを使用し
た以外は実施例４の方法を再び行なつた。
反応びんに等容量の水素および酸素ガスを充て
んして150psig（1040KPa）に加圧し、２時間か
くはんしながら25℃に保つた。水性相を分析して
それが0.61重量％のH2O2を含んでいることがわ
かつた。
実施例 ６ 反応びんを２時間ではなしに６時間25℃の温度
でかくはんした以外は実施例５を実質的にくりか
えした。水性相を分析して、この水性相が実施例
５のそれの２倍である1.28重量％H2O2の過酸化
物濃度を含んでいることがわかつた。
実施例 ７ μ３−トリス−〔１・５−ジ（ｐ−イソプロピ
ルエエニル）−１・４−ペンタジエン−３−オ
ン〕パラジウム（０）を触媒として使用した以外
は実施例１の方法を実質的に行なつた。
反応びんを４時間かくはんしながら５℃の低温
に保つた。
水性相を分析してそれが0.45重量％のH2O2を
含んでいることがわかつた。
触媒の安定性 本発明で使用する触媒は反応条件に対して安定
である。このことを上記の実施例の結果（水性相
中のH2O2濃度）との関連において説明するため
にH2O2に対する該触媒の安定性試験を行つた。
これらの試験はトルエン中の該触媒の溶液を等容
量の希釈H2O2水溶液と激しく撹拌し、周期的に
その一部をとり出して標準の硫酸第２セリウム溶
液で滴定してH2O2濃度を測定することによつて
行つた。6.8重量％H2O2水溶液は24時間の間に3.5
重量％H2O2濃度までほぼ直線的にその濃度が低
下した（もとのH2O2量の約49重量％が分解し
た）が、1.25重量％H2O2水溶液は24時間の間に
1.0重量％H2O2濃度迄ほぼ直線的にゆるやかにそ
の濃度が低下した（もとのH2O2量の約20重量％
が分解した）にすぎなかつた。比較のために該触
媒をこれと当量のパラジウム（アルミナ担持）に
置き換えた以外は上記と同様の実験を行つたとこ
ろ、6.8重量％H2O2水溶液は僅か12分間（1/5時
間）以内に完全に分解してH2O2濃度がゼロにな
つた。
上記の試験から、本発明で使用する触媒が分解
してパラジウムを析出したとすると、前記実施例
１〜７（かくはん時間は１時間〜８時間）におい
て水性相はH2O2を含みえない（H2O2はいつたん
は生成したとしても、水性相のかくはんは時間内
に全部分解してしまう）はずである。然るに前記
実施例１〜７の水性相にはいずれもH2O2が存在
する。このことは本発明で使用する触媒が反応条
件下で安定であることを間接的に実証するもので
ある。
触媒の溶解度 前述の米国特許第4128627号では触媒PdCl2
［Ｐ（C6F5）3］２を有機溶媒（１・２−ジクロロ
トルエン）に1.5×10-3M濃度（実施例２）〜7.3
×10-3M濃度（実施例１）にとかした触媒溶液を
使用している。該米国特許その他の実施例（実施
例３〜７）のすべては上記範囲内のモル濃度の触
媒溶液を使用している。
これに対して本発明では前記実施例に示す如
く、触媒７×10-2ミリモルを有機溶媒40mlにとか
して使用している。これは1.75×10-2Mの濃度に
相当する。
このことは本発明で使用する触媒の方が該米国
特許のそれよりも溶解度が大きいことを実証する
ものである。
反応速度 前述の米国特許第4128627号に記載の触媒によ
れば、250psiの圧力で１時間および５時間反応さ
せてそれぞれ0.45重量％および0.71重量％のH2O2
を含有する水性相をえている（実施例１および６
参照）。
これに対して、本発明で使用する触媒によれ
ば、140psiで僅か１時間反応させるだけで0.82重
量％のH2O2を含有する水性相がえられる（実施
例３参照）。
このことから、本発明で使用する触媒の方が従
来技術の触媒よりも遥かに速い反応速度で過酸化
水素を製造しうることが明らかである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 水素と酸素との接触反応による過酸化水素の
    製造法において；(i)ジベンジリデンアセトンのパ
    ラジウム（０）複合体を均一触媒として溶解させ
    た不活性有機溶媒相と(ii)第２相としての水溶液相
    とを含む２相均一触媒系にガス状の水素および酸
    素を過酸化水素を生成させるに十分な時間接触さ
    せ；過酸化水素反応生成物を該有機相から該水性
    相に抽出し；そして過酸化水素を含む該水性相を
    回収する；ことを特徴とする過酸化水素の製造
    法。 ２ ジベンジリデンアセトンのベンゼン環が非置
    換の又はハロゲン、低級アルキルもしくはアルコ
    キシの基で置換されたものである特許請求の範囲
    第１項記載の方法。 ３ ジベンジリデンアセトンのパラジウム（０）
    複合体が１・５−ジフエニル−１・４−ペンタジ
    エン−３−オンのパラジウム（０）複合体、１・
    ５−ジ（ｐ−クロロフエニル）−１・４−ペンタ
    ジエン−３−オンのパラジウム（０）複合体、
    １・５−ジ（ｐ−フロロフエニル）−１・４−ペ
    ンタジエン−３−オンのパラジウム（０）複合
    体、１・５−ジ（ｐ−イソプロピルフエニル）−
    １・４−ペンタジエン−３−オンのパラジウム
    （０）複合体、および１・５−ジ（ｐ−メトキシ
    フエニル）−１・４−ペンタジエン−３−オンの
    パラジウム（０）複合体から成る群からえらばれ
    る特許請求の範囲第２項記載の方法。 ４ 触媒を溶媒１当たり１×10-4ｇモルから有
    機溶媒中の飽和濃度までの量で使用する特許請求
    の範囲第１項記載の方法。 ５ 有機溶媒がトルエン、キシレン、クロロベン
    ゼン、ジクロロベンゼンおよびジクロロメタンか
    ら成る群からえらばれる特許請求の範囲第１項記
    載の方法。 ６ 不活性有機溶媒と水性相との相対量が１：９
    から９：１までの容量比を与える量である特許請
    求の範囲第１項記載の方法。 ７ 反応を０℃〜35℃の温度で行う特許請求の範
    囲第１項記載の方法。 ８ 反応時間が0.25〜24時間である特許請求の範
    囲第１項記載の方法。
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