JPS6233320Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6233320Y2 JPS6233320Y2 JP10692482U JP10692482U JPS6233320Y2 JP S6233320 Y2 JPS6233320 Y2 JP S6233320Y2 JP 10692482 U JP10692482 U JP 10692482U JP 10692482 U JP10692482 U JP 10692482U JP S6233320 Y2 JPS6233320 Y2 JP S6233320Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- valve plate
- sealing valve
- wafer
- arm
- airtight container
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 claims description 24
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 14
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 11
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 4
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 34
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は気密容器を使用する半導体気相成長装
置、エツチング装置、拡散装置等の半導体製造装
置に係り、特に気密容器のウエーハ導入用開口を
開閉する密閉用弁板と、気密容器内、外部にそれ
ぞれ設けられ、密閉用弁板の開時に、ウエーハを
ウエーハ導入用開口を通して搬送するための内、
外部ウエーハ搬送機構とを備えた半導体製造装置
に関する。
置、エツチング装置、拡散装置等の半導体製造装
置に係り、特に気密容器のウエーハ導入用開口を
開閉する密閉用弁板と、気密容器内、外部にそれ
ぞれ設けられ、密閉用弁板の開時に、ウエーハを
ウエーハ導入用開口を通して搬送するための内、
外部ウエーハ搬送機構とを備えた半導体製造装置
に関する。
従来のこのような半導体製造装置においては、
密閉用弁板の開閉時に、弁板とウエーハ搬送機構
との機械的干渉による部品の破損を避けるため、
一方のウエーハ搬送機構を逃がしておき、逃げた
ことを確認してから弁板を動作させるように構成
していたが、このような構成では弁板用とウエー
ハ搬送機構用の二系統の駆動源を必要とし、又、
自動化の場合、センサーも又二系統必要であり、
両者間のインターロツク機構も必要であるなど複
雑であり、一方の駆動源やセンサーが不良である
場合には部品を破損させる恐れがあり、信頼性に
欠ける欠点があつた。
密閉用弁板の開閉時に、弁板とウエーハ搬送機構
との機械的干渉による部品の破損を避けるため、
一方のウエーハ搬送機構を逃がしておき、逃げた
ことを確認してから弁板を動作させるように構成
していたが、このような構成では弁板用とウエー
ハ搬送機構用の二系統の駆動源を必要とし、又、
自動化の場合、センサーも又二系統必要であり、
両者間のインターロツク機構も必要であるなど複
雑であり、一方の駆動源やセンサーが不良である
場合には部品を破損させる恐れがあり、信頼性に
欠ける欠点があつた。
本考案は前記の欠点を解消するためになされた
ものであつて、弁板とウエーハ搬送機構を1つの
駆動源のみで作動させ、機械的干渉による部品の
破損を防止するとともに、センサーを一系統と
し、自動化も容易に達成できるようにした半導体
製造装置を提供することを目的とする。
ものであつて、弁板とウエーハ搬送機構を1つの
駆動源のみで作動させ、機械的干渉による部品の
破損を防止するとともに、センサーを一系統と
し、自動化も容易に達成できるようにした半導体
製造装置を提供することを目的とする。
以下上記の目的を達成する本考案を図面に示す
一実施例について説明する。
一実施例について説明する。
図面は本考案の一実施例の要部を示す側断面図
で、まずその構成を説明すると、1は気密容器、
11はそのウエーハ導入用開口、7はこのウエー
ハ導入用開口11を開閉する密閉用弁板、10は
気密容器1内を気密に保持するためのOリング、
2,3はそれぞれ気密容器1の内、外部に設けら
れた内、外側ウエーハ搬送機構である。内、外側
ウエーハ搬送機構2,3としては例えばエアトラ
ツクを用いることができる。
で、まずその構成を説明すると、1は気密容器、
11はそのウエーハ導入用開口、7はこのウエー
ハ導入用開口11を開閉する密閉用弁板、10は
気密容器1内を気密に保持するためのOリング、
2,3はそれぞれ気密容器1の内、外部に設けら
れた内、外側ウエーハ搬送機構である。内、外側
ウエーハ搬送機構2,3としては例えばエアトラ
ツクを用いることができる。
9は回動規制バネで、図例ではバネ蝶番の場合
を示しているが、バネ付き蝶番の如きものでもよ
い。
を示しているが、バネ付き蝶番の如きものでもよ
い。
4は気密容器1の外部において固定部13に中
央部を枢支軸5により回動自在に枢支した、くの
字形のアームで、7はこのアーム4の先端部にピ
ン、軸、ネジ等の結合手段6により結合した密閉
用弁板である。8はアーム4の先端に枢着したコ
ロで、外側ウエーハ搬送機構3との接触を滑らか
にするためのものである。
央部を枢支軸5により回動自在に枢支した、くの
字形のアームで、7はこのアーム4の先端部にピ
ン、軸、ネジ等の結合手段6により結合した密閉
用弁板である。8はアーム4の先端に枢着したコ
ロで、外側ウエーハ搬送機構3との接触を滑らか
にするためのものである。
そして密閉用弁板7の開時に固定部12の側面
に外側搬送機構3の端面が当接して内、外側搬送
機構2,3の一直線状態が確保され、かつ密閉用
弁板7の閉時にはアーム4に枢着したコロ8で外
側搬送機構3がバネ力に抗して持ち上げられるよ
うに外側搬送機構3を固定部12にバネ蝶番9で
連接せしめてある。
に外側搬送機構3の端面が当接して内、外側搬送
機構2,3の一直線状態が確保され、かつ密閉用
弁板7の閉時にはアーム4に枢着したコロ8で外
側搬送機構3がバネ力に抗して持ち上げられるよ
うに外側搬送機構3を固定部12にバネ蝶番9で
連接せしめてある。
次に上記の如き構成の本考案の動作を説明す
る。いま、アーム4及び弁板7が仮想線で示す開
の位置にあり、外側ウエーハ搬送機構3が蝶番9
のバネ力により仮想線で示すように内側ウエーハ
搬送機構2に対し一直線状になる位置にあるとす
る。このような状態においてアーム4を枢支軸5
を中心に矢印Aで示す時計方向に回動すると、弁
板7がC矢印で示す時計方向に回動して実線で示
すように気密容器1の外側面にOリング10を介
して押付けられ、ウエーハ導入用開口11が閉じ
られる。これと同時に外側ウエーハ搬送機構3が
アーム4のコロ8によつて蝶番9のバネ力に抗し
て押されて矢印Fで示す反時計方向に回動し、実
線の状態になる。そこで気密容器1内を減圧する
と、弁板7が増々気密容器1の外側面にOリング
10を介して押付けられ、ウエーハ導入用開口1
1が密閉されて気密状態を保持することになる。
る。いま、アーム4及び弁板7が仮想線で示す開
の位置にあり、外側ウエーハ搬送機構3が蝶番9
のバネ力により仮想線で示すように内側ウエーハ
搬送機構2に対し一直線状になる位置にあるとす
る。このような状態においてアーム4を枢支軸5
を中心に矢印Aで示す時計方向に回動すると、弁
板7がC矢印で示す時計方向に回動して実線で示
すように気密容器1の外側面にOリング10を介
して押付けられ、ウエーハ導入用開口11が閉じ
られる。これと同時に外側ウエーハ搬送機構3が
アーム4のコロ8によつて蝶番9のバネ力に抗し
て押されて矢印Fで示す反時計方向に回動し、実
線の状態になる。そこで気密容器1内を減圧する
と、弁板7が増々気密容器1の外側面にOリング
10を介して押付けられ、ウエーハ導入用開口1
1が密閉されて気密状態を保持することになる。
次に気密容器1内を大気圧に戻してアーム4を
枢支軸5を中心に矢印Bで示す反時計方向に弁板
7による実線の閉状態より仮想線の開状態になる
まで回動すると、弁板7がD矢印で示す反時計方
向に回動して実線の閉状態より仮想線の開状態に
なる。これと同時にアーム4のコロ8に対接して
いた外側ウエーハ搬送機構3は、アーム4のB矢
印で示す反時計方向に蝶番9のバネ力と外側ウエ
ーハ搬送機構3の自重によつてG矢印で示す時計
方向に回動し、仮想線の状態に復帰する。
枢支軸5を中心に矢印Bで示す反時計方向に弁板
7による実線の閉状態より仮想線の開状態になる
まで回動すると、弁板7がD矢印で示す反時計方
向に回動して実線の閉状態より仮想線の開状態に
なる。これと同時にアーム4のコロ8に対接して
いた外側ウエーハ搬送機構3は、アーム4のB矢
印で示す反時計方向に蝶番9のバネ力と外側ウエ
ーハ搬送機構3の自重によつてG矢印で示す時計
方向に回動し、仮想線の状態に復帰する。
この復帰状態では、外側ウエーハ搬送機構3は
内側ウエーハ搬送機構2に対し一直線状となつて
連通した状態に蝶番9によつて確保され、気密容
器1の内部で例えば気相成長されたり、エツチン
グされたり、あるいは拡散処理されたりしたウエ
ーハをこれらのウエーハ搬送機構2,3によつて
外部に搬出したり、逆に外部より未処理のウエー
ハを処理すべく気密容器1の内部に搬入したりす
ることができる。
内側ウエーハ搬送機構2に対し一直線状となつて
連通した状態に蝶番9によつて確保され、気密容
器1の内部で例えば気相成長されたり、エツチン
グされたり、あるいは拡散処理されたりしたウエ
ーハをこれらのウエーハ搬送機構2,3によつて
外部に搬出したり、逆に外部より未処理のウエー
ハを処理すべく気密容器1の内部に搬入したりす
ることができる。
この実施例では回動規制バネ9としてバネ蝶番
を用いた例を説明したが、バネ付き蝶番を用いて
も同様に説明できることは明らかである。
を用いた例を説明したが、バネ付き蝶番を用いて
も同様に説明できることは明らかである。
以上の説明より明らかなように本考案によれ
ば、弁板7の開閉動作と外側ウエーハ搬送機構3
の逃げ動作をアーム4の回動操作だけで行えるよ
うに構成したので、弁板7と外側ウエーハ搬送
機構3の動作を1つの駆動源で行うことができ、
装置を簡単にできる。弁板7と外側ウエーハ搬
送機構3の動作が機械的に同期しているため、機
械的干渉による部品の破損を防止でき安全であ
る。センサーを弁板7用と外側ウエーハ搬送機
構3用の二系統とする必要はなく一系統でよいた
め、両者間のインターロツク機構も必要なくな
り、構成が簡単で信頼性が向上し、自動化も容易
に達成できる等の効果がある。
ば、弁板7の開閉動作と外側ウエーハ搬送機構3
の逃げ動作をアーム4の回動操作だけで行えるよ
うに構成したので、弁板7と外側ウエーハ搬送
機構3の動作を1つの駆動源で行うことができ、
装置を簡単にできる。弁板7と外側ウエーハ搬
送機構3の動作が機械的に同期しているため、機
械的干渉による部品の破損を防止でき安全であ
る。センサーを弁板7用と外側ウエーハ搬送機
構3用の二系統とする必要はなく一系統でよいた
め、両者間のインターロツク機構も必要なくな
り、構成が簡単で信頼性が向上し、自動化も容易
に達成できる等の効果がある。
図面は本考案の一実施例の要部を示す側断面図
である。 1……気密容器、2,3……内、外側ウエーハ
搬送機構、4……アーム、5……枢支軸、6……
結合手段、7……密閉用弁板、8……コロ(部
材)、9……バネ蝶番(回動規制バネ)、11……
ウエーハ導入用開口、12,13……固定部。
である。 1……気密容器、2,3……内、外側ウエーハ
搬送機構、4……アーム、5……枢支軸、6……
結合手段、7……密閉用弁板、8……コロ(部
材)、9……バネ蝶番(回動規制バネ)、11……
ウエーハ導入用開口、12,13……固定部。
Claims (1)
- 気密容器1のウエーハ導入用開口11を開閉す
る密閉用弁板7と、気密容器内、外部にそれぞれ
設けられ、密閉用弁板の開時に、ウエーハをウエ
ーハ導入用開口を通して搬送するための内、外側
ウエーハ搬送機構2,3とを備えた半導体製造装
置において、前記密閉用弁板7を、気密容器外で
回動自在に枢支したアーム4に結合し、このアー
ム4の一部に部材8を取付けると共に、密閉用弁
板7の開時に固定部12の側面に外側搬送機構3
の一部が当接して内、外側搬送機構2,3の一直
線状態が確保され、かつ密閉用弁板7の閉時には
アーム4に取付けた部材8で外側搬送機構3がバ
ネ力に抗して持ち上げられるように外側搬送機構
3を固定部12に回動規制バネ9で連接せしめて
なる半導体製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10692482U JPS5911445U (ja) | 1982-07-14 | 1982-07-14 | 半導体製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10692482U JPS5911445U (ja) | 1982-07-14 | 1982-07-14 | 半導体製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5911445U JPS5911445U (ja) | 1984-01-24 |
| JPS6233320Y2 true JPS6233320Y2 (ja) | 1987-08-26 |
Family
ID=30250025
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10692482U Granted JPS5911445U (ja) | 1982-07-14 | 1982-07-14 | 半導体製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5911445U (ja) |
-
1982
- 1982-07-14 JP JP10692482U patent/JPS5911445U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5911445U (ja) | 1984-01-24 |
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