JPS6233438A - 半導体基板 - Google Patents
半導体基板Info
- Publication number
- JPS6233438A JPS6233438A JP17647485A JP17647485A JPS6233438A JP S6233438 A JPS6233438 A JP S6233438A JP 17647485 A JP17647485 A JP 17647485A JP 17647485 A JP17647485 A JP 17647485A JP S6233438 A JPS6233438 A JP S6233438A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- semiconductor substrate
- engaging hole
- handle
- peripheral face
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体集積回路の基板をなす半導体基板に関
するものである。
するものである。
従来よシ、この種の半導体基板においては、その取シ扱
いにビンセットやエアーピンセット等を用いている。
いにビンセットやエアーピンセット等を用いている。
第3図はビンセットを用いた例を示し、1は半導体基板
、2はビンセットである。半導体基板1の周縁部をビン
セット2で掴持し、次工程への7・ンドリンクを行なっ
ている。
、2はビンセットである。半導体基板1の周縁部をビン
セット2で掴持し、次工程への7・ンドリンクを行なっ
ている。
第4図は、エアービンセットを用いた例を示し、半導体
基板1の裏面にエアーピンセット3の吸着部3&を真空
吸着させて、ハンドリングを行なっている。
基板1の裏面にエアーピンセット3の吸着部3&を真空
吸着させて、ハンドリングを行なっている。
〔発明が解決しようとする問題点)
しかしながら、このようなハンドリング方法によると、
半導体基板1をハンドリングする際、ビンセット2の掴
持部が半導体基板1の周縁部に接触するため、この周縁
部に悪影響を与えてしまうという問題があった。また、
エアービンセット3を用いてハンドリングする場合は、
吸着部31との接触部分が汚染されてしまう等という問
題があった。
半導体基板1をハンドリングする際、ビンセット2の掴
持部が半導体基板1の周縁部に接触するため、この周縁
部に悪影響を与えてしまうという問題があった。また、
エアービンセット3を用いてハンドリングする場合は、
吸着部31との接触部分が汚染されてしまう等という問
題があった。
また、半導体基板は、今後増々拡大化する傾向にあシ、
拡大化する大口径半導体基板に対して、この様なハンド
リング方法では充分対応することができず、その取シ扱
いが困難となることが予想されるものであった。
拡大化する大口径半導体基板に対して、この様なハンド
リング方法では充分対応することができず、その取シ扱
いが困難となることが予想されるものであった。
本発明は、このような点に鑑みてなされたもので、その
目的とするところは、基板に悪影響を及ぼさず、しかも
大口径基板に移行しても容易にハンドリングを行なうこ
とのできる半導体基板を提供することにある。
目的とするところは、基板に悪影響を及ぼさず、しかも
大口径基板に移行しても容易にハンドリングを行なうこ
とのできる半導体基板を提供することにある。
このような目的を達成するために、本発明は半導体基板
の基板平面部に係合孔を開設したものである。
の基板平面部に係合孔を開設したものである。
したがって、この発明の半導体基板によると、基板平面
部に開設された係合孔周端面と基板外周端面とを掴持し
つつ、基板平面部に非接触でハンドリングを行なうこと
が可能となる。
部に開設された係合孔周端面と基板外周端面とを掴持し
つつ、基板平面部に非接触でハンドリングを行なうこと
が可能となる。
以下、本発明に係る半導体基板を図面を用いて説明する
。第1図は、この半導体基板の一実施例を示す外観斜視
図である。この半導体基板40基板千面略中夫には係合
孔4aが開設されている。
。第1図は、この半導体基板の一実施例を示す外観斜視
図である。この半導体基板40基板千面略中夫には係合
孔4aが開設されている。
尚、4bは半導体基板4の結晶と直角な位置に形成され
たオリフラである。
たオリフラである。
次に、このように形成された半導体基板4のハンドリン
グ方法について説明する。すなわち、半導体基板4の係
合孔4mに、第2図に示す如く、ハンドリング治具5の
ピン5aを挿入配置し、ストッパ5bを半導体基板4の
外周端面に当接させる。ストッパ5bは断回路「U」字
状に形成されており、rUJ字状の底面が半導体基板4
の外周端面に当接するのみで、その上面および下面は半
導体基板4の表〆および裏の基板面には接触しない構成
となっている。ハンドリング治具5Fi取手5cを有し
、ストッパ5bを図示矢印方向に押圧しつつ取手5cを
引っばることによシ、アーム5dの先端部上面に植設さ
些たピン5aが該アーム5dと共に矢印方向とは反対に
移動し、係合孔4鳳の周端面に当接するようになってい
る。つまシ、半導体基板4の外周端面と係合孔4aの周
端面とがストッパ5bの「U」字状の底面とピン5&の
外周壁面とで掴持される。掴持した後は、この状態を固
定することができる様になっておシ、したがって、取手
5cをつかみっつ次工程へハンドリングを行なうことが
できる。
グ方法について説明する。すなわち、半導体基板4の係
合孔4mに、第2図に示す如く、ハンドリング治具5の
ピン5aを挿入配置し、ストッパ5bを半導体基板4の
外周端面に当接させる。ストッパ5bは断回路「U」字
状に形成されており、rUJ字状の底面が半導体基板4
の外周端面に当接するのみで、その上面および下面は半
導体基板4の表〆および裏の基板面には接触しない構成
となっている。ハンドリング治具5Fi取手5cを有し
、ストッパ5bを図示矢印方向に押圧しつつ取手5cを
引っばることによシ、アーム5dの先端部上面に植設さ
些たピン5aが該アーム5dと共に矢印方向とは反対に
移動し、係合孔4鳳の周端面に当接するようになってい
る。つまシ、半導体基板4の外周端面と係合孔4aの周
端面とがストッパ5bの「U」字状の底面とピン5&の
外周壁面とで掴持される。掴持した後は、この状態を固
定することができる様になっておシ、したがって、取手
5cをつかみっつ次工程へハンドリングを行なうことが
できる。
この様に、係合孔4aを利用すれば、基板面に非接触で
半導体基板4のハンドリングを行なうことができ、基板
面に接触して生ずる従来のような問題が解消される。ま
た、このようなハンドリング治具5を用いることにょシ
、半導体基板の大口径化にも充分対応することができ、
容易にハンドリングを行なうことができる。
半導体基板4のハンドリングを行なうことができ、基板
面に接触して生ずる従来のような問題が解消される。ま
た、このようなハンドリング治具5を用いることにょシ
、半導体基板の大口径化にも充分対応することができ、
容易にハンドリングを行なうことができる。
尚、本実施例において用いたハンドリング治具5は、必
ずしもむのような構成とせずともよく、要は半導体基板
4の外周端面と係合孔4aの周端面とを掴持し、ハンド
リングを行なうことができれば、他の構成のハンドリン
グ治具であってもよい。また、係合孔4aは複数個開設
してもよく、必ずしも基板千面略中央に開設しなくとも
よい。
ずしもむのような構成とせずともよく、要は半導体基板
4の外周端面と係合孔4aの周端面とを掴持し、ハンド
リングを行なうことができれば、他の構成のハンドリン
グ治具であってもよい。また、係合孔4aは複数個開設
してもよく、必ずしも基板千面略中央に開設しなくとも
よい。
さらに、本実施例においては、ハンドリングについての
み説明したが、半導体基板に開設し丸裸合孔を用いるこ
とによシ、自動機における位置決めや、処理工程での基
板内の加工を均一にする等の効果が期待できる。すなわ
ち、処理工程においては、パターンの保護膜等を形成す
るために真空中で基板を回転させるような加工が行なわ
れることがら夛、係合孔を用いて基板を位置決め固定す
ることKよシ、基板自体がずれたシすることがなく、加
工の均一性を向上させることができる。
み説明したが、半導体基板に開設し丸裸合孔を用いるこ
とによシ、自動機における位置決めや、処理工程での基
板内の加工を均一にする等の効果が期待できる。すなわ
ち、処理工程においては、パターンの保護膜等を形成す
るために真空中で基板を回転させるような加工が行なわ
れることがら夛、係合孔を用いて基板を位置決め固定す
ることKよシ、基板自体がずれたシすることがなく、加
工の均一性を向上させることができる。
以上説明した様に本発明による半導体基板によると、基
板平面部に係合孔を開設したので、係合孔周端面と基板
外周端面とを掴持しつつ基板平面部に非接触でハンドリ
ングを行なうことができ、接触に伴う悪影響が基板に生
ずることがなく、シかも大口径基板に移行しても容易に
ハンドリングを行なうことが可能となる。
板平面部に係合孔を開設したので、係合孔周端面と基板
外周端面とを掴持しつつ基板平面部に非接触でハンドリ
ングを行なうことができ、接触に伴う悪影響が基板に生
ずることがなく、シかも大口径基板に移行しても容易に
ハンドリングを行なうことが可能となる。
また、自動機における位置決めやプロセスでの基板内の
加工の均一性の向上が出来る等の効果も期待できる。
加工の均一性の向上が出来る等の効果も期待できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る半導体基板の一実施例を示す外観
斜視図、第2図はこの半導体基板のハンドリング方法を
説明する外観斜視図、第3図はピンセットを用いた半導
体基板のハンドリング方法を説明する外観斜視図、第4
図はエアーピンセットを用いた半導体基板のハンドリン
グ方法を説明する外観斜視図である。 4・・・・半導体基板、4a・・・・係合孔、5・・・
・ハンドリンク治J14.5a拳・−・ビン、5b・・
・拳ストッパ、5cφ・・−取手。
斜視図、第2図はこの半導体基板のハンドリング方法を
説明する外観斜視図、第3図はピンセットを用いた半導
体基板のハンドリング方法を説明する外観斜視図、第4
図はエアーピンセットを用いた半導体基板のハンドリン
グ方法を説明する外観斜視図である。 4・・・・半導体基板、4a・・・・係合孔、5・・・
・ハンドリンク治J14.5a拳・−・ビン、5b・・
・拳ストッパ、5cφ・・−取手。
Claims (1)
- 半導体集積回路の基板をなす半導体基板において、基板
平面部に係合孔を開設したことを特徴とする半導体基板
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17647485A JPS6233438A (ja) | 1985-08-07 | 1985-08-07 | 半導体基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17647485A JPS6233438A (ja) | 1985-08-07 | 1985-08-07 | 半導体基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6233438A true JPS6233438A (ja) | 1987-02-13 |
Family
ID=16014302
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17647485A Pending JPS6233438A (ja) | 1985-08-07 | 1985-08-07 | 半導体基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6233438A (ja) |
-
1985
- 1985-08-07 JP JP17647485A patent/JPS6233438A/ja active Pending
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