JPS6234018B2

JPS6234018B2 -

Info

Publication number: JPS6234018B2
Application number: JP16279582A
Authority: JP
Inventors: Takao Yamada; Hiroaki Taniguchi; Masami Yamamura
Original assignee: Maruzen Oil Co Ltd
Current assignee: Cosmo Oil Co Ltd
Priority date: 1982-09-17
Filing date: 1982-09-17
Publication date: 1987-07-24
Also published as: JPS5951224A

Description

【発明の詳細な説明】本発明はC₄炭化水素留分（以後C₄留分と称す
ることもある。）中の各成分の分離法に関する。

C₄留分は石油精製時例えば石油類の接触分解
によるガソリン等の製造時あるいは石油類の熱分
解によるオレフインの製造時に副生する。この
C₄留分は一般にイソブチレン、１−ブテンと２
−ブテンのｎ−ブテン類およびブタン類等C₄炭
化水素からなる混合物で、少量のC₄炭化水素、
C₃炭化水素、C₅炭化水素、ブタジエン等を含有
することもある。このC₄留分から分離されるｎ
−ブテン、イソブチレン等各成分は第二級ブチル
アルコール、メチルエチルケトン、ブチルゴム、
ポリブテン、ポリイソブチレンなど種々の原料と
して需要が増加しつつある。これら化学原料とし
てのイソブチレン、ｎ−ブテン類は高純度に精製
されたものが必要な場合が多く、C₄留分の総合
利用を計るうえでの基本技術として各成分特にイ
ソブチレンとｎ−ブテン類とをいかに効率よくか
つ工業的有利に分離することができるかが大きく
クローズアツプされている。しかしイソブチレン
と１−ブテンは蒸気圧がほぼ等しいのでC₄留分
中の成分を蒸留のみで分離することは実際上不可
能であり、蒸留以外の種々の方法が提案されてい
る。

従来C₄留分の分離法としては硫酸による抽出
分離が採用されているが、腐食の問題があり高価
な耐食材料を使用しなければならない、反応系は
多段工程であつて複雑であるなどいくつかの問題
点をかかえており、他の分離法がいくつか提案さ
れている。例えば結晶性アルミノシリケートを使
用してC₄留分中の１−ブテンを吸着分離したり
（特公昭52−21481号等）、C₄留分中の１−ブテン
を２−ブテンに異性化したのちイソブチレンと蒸
留分離したり（特公昭50−22005号）、C₄留分中
の１−ブテンを２−ブテンに異性化したのちイソ
ブチレンを重合させて除去したりする方法（特開
昭51−8201号）が提案されているが、目的成分の
収率と純度が十分でない、触媒寿命が短かい、あ
るいは有用成分を異性化や重合で回収できなくし
てしまうなど未解決の問題が残されている。

近年C₄留分の分離法としてC₄留分中のイソブ
チレンをメタノールや水と反応させてメチルター
シヤリブチルエーテル（MTBEと略称する。）や
第三級ブチルアルコール（TBAと略称する）を
中間生成物とする反応分離法について多くの報告
がなされている。しかしC₄留分からイソブチレ
ンをほぼ完全に分離除去するためにはいくつかの
難点をかかえている。

MTBE法においては均一系反応であるためC₄
留分から微量のイソブチレンを除去するためには
反応と分離を数回くり返すことにより平衡をずら
して未反応イソブチレン残存量を微少にする必要
があり、反応系は多段工程で複雑となる。また
MTBEを分解してイソブチレンを回収する際に
メタノールの脱水縮合による損失量を無視できな
いし、分離した各成分中にメタノールやエーテル
が混入しその分離は困難であるといつた問題があ
る。

後者のTBA法は水とC₄留分が相溶せず、反応
速度をあげるためには系中に極性溶剤を加えたり
界面活性剤を加えたりする方法をとらざるを得な
い。この場合も反応と分離を数回くり返して平衡
をずらし転化率をかせぐ必要があり、反応は多段
となり複雑となる。また加えた極性溶剤や界面活
性剤の分離が難しく、系は複雑になる。TBA法
の場合水とC₄留分は相溶性がないことを利用し
て水とC₄留分を触媒の存在下向流接触させるこ
とも提案されている（特許公表昭56−500087号）
が、生成するTBAの水およびC₄留分への分配率
の比がそれほど大きくないため抽出効果を高め
C₄留分からイソブチレンをほぼ完全に除去する
ためには水とイソブチレンとのモル比、体積比を
非常に高くし大量の水を使用しなければならない
ので熱損失が大きくなるという難点がある。また
この方法ではC₄留分中のイソブチレン残存量を
少なくするためには、処理後のC₄留分をその中
に含まれるTBAを除去した後反応領域へリサイ
クルしなければならず効率的ではない。またこの
方法では原料の線速度を非常に速くする必要があ
るとされており、そのためには高さの非常に高い
巨大な反応塔を使用する必要があり実用上問題が
ある。さらに本発明者らがこの方法を追試したと
ころ上昇流層と降下流層との比重差が不十分であ
り、フラツデイングが起り易く、運転操作上問題
（TBAの生成量および各層への分配率に応じて水
とC₄留分の供給量の比を変えなくてはいけな
い。）があることもわかつた。またTBA法では
TBAは水と共沸するとともに相溶するためその
分離が難しいという難点がある。

TBA法に類似の方法として水の代りに水と挙
動のよく似たエチレングリコールを使用しイソブ
チレンをエチレングリコールと反応させて除去す
ることも考えられる。しかしこの方法も回分法や
並流接触法ではTBA法と同じ問題がある。また
エチレングリコールは挙動が水と非常によく似て
いるのでC₄留分をエチレングリコールと向流接
触させてもTBA法と同じ問題があると考えるの
が一般的な常識である。

本発明者らはC₄留分からイソブチレンを分
離、除去する方法を確立するため種々検討研究し
た結果、エチレングリコールは水と類似していて
もC₄留分を特定条件下にエチレングリコールと
向流接触させることにより予想に反し上記
MTBE法、TBA法と異なり格段に効率よく工業
的有利にC₄留分からイソブチレンをほぼ完全に
除去できることを発見して本発明を確立したもの
である。従来エチレングリコールはイソブチレン
に対する挙動が水と類似していると考えられてい
るので、水を使用するTBA法で解決できなかつ
たことがエチレングリコールを使用して解決でき
たことは全く予想外のことであつた。

すなわち本発明の要旨は、イソブチレンとｎ−
ブテンとを含有するC₄炭化水素留分をエチレン
グリコールと平均粒径が少なくとも１mm以上の強
酸型陽イオン交換体触媒の存在下温度60〜120
℃、圧力５〜70Kg／cm²、C₄炭化水素留分の液空
間速度が0.04〜5hr^-1、エチレングリコールとイ
ソブチレンとのモル比が20モル／モル以上の条件
下において向流接触させることによりC₄炭化水
素留分中のイソブチレンをエチレングリコールと
反応させて分離することを特徴とするC₄炭化水
素留分からイソブチレンを分離する方法に存す
る。

本発明においてC₄留分とエチレングリコール
とを向流接触させる場合に使用するエーテル化触
媒は強酸型陽イオン交換体であつてその平均粒径
が少なくとも約１mm以上（粒径１mm以上のものが
約90％以上好ましくは約95％以上のものをい
う。）、好適には平均粒径が約２〜５mm（粒径２〜
５mmのものが約90％以上好ましくは約95％以上の
ものをいう。）のものである。強酸型陽イオン交
換体の例としてはスチレンスルホン酸型陽イオン
交換樹脂（スチレンとジビニルベンゼン等の多不
飽和化合物との架橋共重合体をスルホン化したも
の）、フエノールスルホン酸型陽イオン交換樹脂
（フエノールスルホン酸をホルムアルデヒドと縮
合させたもの）、スルホン化石炭、スルホン化ア
スフアルト、フツ素樹脂にスルホン酸塩を結合し
たスルホン酸型陽イオン交換樹脂（例えばデユポ
ン社製ナフイオン等）などのスルホン酸基を有す
るものがある。本発明で向流接触に使用するため
には粒径が大きいものでなければならない。粒径
の小さすぎるものを使用すると向流接触させるこ
とが難しく、また粒径の極度に大きいものは入手
が難しい。

本発明で処理するC₄留分はイソブチレンとｎ
−ブテン類とを含有するものである。C₄留分中
のイソブチレン含有量が多いと向流接触のみでイ
ソブチレンをほぼ完全に除去するためには、エチ
レングリコールの供給量を多くする必要がある。
従つてイソブチレン含有量の多いC₄留分はその
まま向流接触させてもよいが、イソブチレンを実
質上完全に除去する向流接触の前に、C₄留分を
エチレングリコールと温度０〜150℃、エチレン
グリコールとイソブチレンとのモル比約１〜５で
強酸型陽イオン交換体触媒の存在下並流または向
流で接触させてイソブチレンをエチレングリコー
ルと反応させるなどの方法により、予めイソブチ
レン含有量を約５〜25重量％にまで低くしておく
ことが望ましい。並流接触によるC₄留分中のイ
ソブチレンとエチレングリコールとの反応による
グリコールエーテルの生成反応は例えばアメリカ
特許第2480940号、同第3170000号、同第3288842
号、特公昭57−35687号等により公知となつてお
り、例えばエチレングリコールとC₄留分とを上
記したような強酸型陽イオン交換体触媒の存在下
温度０〜150℃、エチレングリコールとイソブチ
レンとのモル比0.1〜100モル／モル、液空間速度
0.1〜100hr^-1、圧力１〜70Kg／cm²の条件下並流接
触させることからなる。

本発明によるC₄留分とエチレングリコールと
の向流接触は上記した大粒径触媒を使用しかつ温
度約60〜120℃特に好ましくは約70〜110℃、圧力
約５〜70Kg／cm²特に好ましくは約15〜25Kg／cm²、
C₄留分の液空間速度が約0.04〜5.0hr^-1特に好ま
しくは約0.07〜2.0hr^-1、供給エチレングリコー
ルと供給イソブチレンとのモル比が約20モル／モ
ル以上特に好ましくは約25〜35モル／モルの条件
下にC₄留分を反応塔下部から、エチレングリコ
ールを反応塔上部から供給して行なう。反応塔中
においてイソブチレンはエチレングリコールと反
応してエチレングリコールモノターシヤリブチル
エーテル（MBEと略称する。）および少量のエチ
レングリコールジターシヤリブチルエーテル
（DBEと略称する。）を生成し、反応塔の下部か
ら取り出されるエチレングリコール層にはMBE
と少量のC₄炭化水素が溶解し、また反応塔の上
部から取り出される処理済みC₄留分層にはイソ
ブチレンがほとんど含まれず、生成DBEが溶解
している。処理したC₄留分の残存イソブチレン
含有量は約１重量％以下であり、約0.5重量％以
下あるいは約0.1重量％以下にすることも可能で
ある。反応温度が上記範囲よりも低すぎると反応
速度が遅く不利であり、高温すぎるとオレフイン
の重合、DBEの生成など副反応が起り、また触
媒は損傷をうける。反応圧力はC₄留分が液相と
なる圧力が必要であるが、高圧すぎても反応系を
高圧に耐えるようにしなければならないため不利
である。処理したC₄留分のイソブチレン残存量
を低くするためには供給エチレングリコールと供
給イソブチレンとのモル比を特定の値以上としか
つC₄留分の液空間速度を特定の値以下にする必
要がある。エチレングリコールとイソブチレンと
のモル比が大きすぎると増加した効果はほとんど
なく無駄であり、また各原料の供給速度が遅すぎ
ると偏流を起したり運転が不安定となるので不利
であり、C₄留分の供給速度が速すぎると触媒及
びエチレングリコールとの接触効率が低下する。

向流接触反応塔の頂部から出るC₄留分はｎ−
ブテン類を含みかつイソブチレンの残存量が少な
くまたｎ−ブテン類の回収率も非常に高いので、
そのまま化学原料例えば第二級ブチルアルコール
の製造原料等としたり、あるいは１−ブテンと２
−ブテン等の各成分を蒸留によつて分離精製する
ことができる。

向流接触反応塔の底部から出るエチレングリコ
ール層（MBEを含む。必要により溶存している
C₄炭化水素を除去する。）はそのまま、もしくは
更にイソブチレンを加えて強酸型陽イオン交換体
触媒の存在下エチレングリコールとイソブチレン
を反応させた生成物を含むエチレングリコール層
（MBEを含みDBEを含むこともある。必要により
溶存C₄炭化水素をフラツシングや蒸留等で除
く。）を、(イ)蒸留などによりMBEを製品として取
得してもよいし、(ロ)強酸型陽イオン交換体触媒の
存在下に加熱してMBEやDBEを分解してイソブ
チレンを回収してもよいし、(ハ)強酸型陽イオン交
換体触媒の存在下、加圧下に加熱してMBEや
DBEを分解してジイソブチレンを製造してもよ
いし、(ニ)強酸型陽イオン交換体触媒の存在下かつ
水を加えて加熱してMBEやDBEを分解して第三
級ブチルアルコールを製造することもできる。イ
ソブチレンを得る場合の好ましい反応条件は温度
約80〜120℃、圧力減圧、常圧ないし約３Kg／cm²
までの加圧下、液空間速度約0.5〜2hr^-1であり、
ジイソブチレンを得る場合の特に好ましい反応条
件は温度約110〜130℃、圧力約４〜10Kg／cm²、液
空間速度約0.2〜1hr^-1であり、第三級ブチルアル
コールを得る場合の好ましい反応条件は温度約90
〜120℃、圧力４〜８Kg／cm²、MBEとDBEの混合
物と水とのモル比約２〜５モル／モル、原料の液
空間速度約0.5〜2hr^-1である。イソブチレンおよ
びジイソブチレンを得る場合も反応の際少量の水
すなわち全原料１重量部に対し水約0.005〜0.05
重量部を添加するとエチレングリコールの脱水縮
合を抑制するのに有用である。ジイソブチレン製
造の場合トリイソブチレンおよびそれ以上の高次
オリゴマーの生成は非常に少ない。こうして得ら
れるイソブチレンの純度は通常99.0％以上であ
り、純度99.5％以上のものを得ることも可能であ
る。エチレングリコールの回収率も非常に高く、
例えば99％以上あるいは99.5％にすることも可能
である。

次に図面のフローシートにより本発明の向流接
触によるC₄留分の処理法を組みこんだC₄留分の
分離法の一実施態様につき説明する。

管１よりのC₄留分は管２からのエチレングリ
コール含有留分（他にMBE、DBE、溶存C₄炭化
水素、エチレングリコールモノセカンダリーブチ
ルエーテルを含有する。）と並流で陽イオン交換
体の充填された並流反応塔３へ導入され、エチレ
ングリコールとイソブチレンとを反応させる。反
応塔３の底部から引出された反応生成物は管４に
より蒸留塔５へ導入され、C₄留分と液状成分を
分離する。蒸留塔５の底部から引出された液状成
分はエチレングリコール、MBE、DBE、等から
なり管６により後述の分解工程へ送られる。蒸留
塔の頂部から引き出されるイソブチレン含有量を
10重量％程度にまで減らしたC₄留分は管７によ
り陽イオン交換体触媒を充填した向流反応塔８の
底部に導入され、後述分解工程から管９により向
流反応塔８の頂部へ導入される回収エチレングリ
コールと向流反応塔８内で向流接触させる。反応
塔８の頂部から引き出されるC₄留分は管１０に
より蒸留塔１１へ導入され、C₄留分と液状成分
を分離する。蒸留塔１１の頂部から管１２により
引き出されるC₄留分は主としてｎ−ブテンとブ
タンからなりイソブチレン残存量は0.5重量％以
下となつている。蒸留塔１１の底部から管１３に
より引き出される成分は主としてMBEとDBEで
あり、向流反応塔８の底部から管１４により引き
出されるエチレングリコール、MBE、溶存C₄留
分からなるエチレングリコール層と一緒にして管
２により前述の並流反応塔３へエチレングリコー
ル含有留分としてリサイクルする。前記蒸留塔５
の底部から引き出される液状成分はエチレングリ
コール、MBE、DBE、ｎ−ブテンとの反応物で
ある少量のエチレングリコールモノセカンダリー
ブチルエーテルからなるもので、管６により、陽
イオン交換体触媒の充填された分解反応塔１５の
頂部から導入され、MBE、DBE、エチレングリ
コールモノセカンダリーブチルエーテルは分解さ
れてエチレングリコールとイソブチレン、２−ブ
テンに転化される。分解反応生成物は分解反応塔
１５の底部から引き出され管１６により気液分離
器１７へ導入され、ガスと液状成分に分離され
る。分離器１７の頂部から引き出されるガス状成
分は管１８によりコンプレツサー１９へ導入して
液化したのち蒸留塔２０へ導入される。蒸留塔２
０では不純物としてのｎ−ブテン類を塔底部から
管２１により引き出し、純度99％以上の高純度イ
ソブチレンは塔頂部から管２２により引き出され
る。気液分離器１７の底部から引き出される液状
成分は管２３により蒸留塔２４へ導入され、そこ
でエチレングリコールが回収される。蒸留塔２４
の頂部から引き出されるのは分解反応塔で分解さ
れなかつたMBEであり管２５により分解反応塔
１５へリサイクルされる。蒸留塔２４の底部から
引き出される回収エチレングリコールは管２６か
らの補給エチレングリコールと共に管９により前
記向流反応塔８の頂部へリサイクルされる。（反
応帯域１５はジイソブチレン又は第三級ブチルア
ルコール製造に使用してもよい。）本発明方法の効果について云えば、C₄留分を
水でなくエチレングリコールで特定条件下に向流
接触させることによりC₄留分からイソブチレン
が選択的にしかも効率よく分離、除去できるの
で、１段反応でｎ−ブテンを含みイソブチレン残
存量の極めて少ないC₄炭化水素留分が得られ、
また極めて高純度のイソブチレン、ジイソブチレ
ン、第三級ブチルアルコール、エチレングリコー
ルモノターシヤリブチルエーテルが収率よく得ら
れる。ｎ−ブテン類、エチレングリコールの回収
率も非常に高い。向流接触反応塔ではエチレング
リコールモノターシヤリブチルエーテルが選択的
に生成し、エチレングリコールジターシヤリブチ
ルエーテルやジイソブチレンの副生量は極めて少
なく、さらにエチレングリコールとMBEは沸点
差も大きいので、反応生成物の分離精製は簡単で
ある。また向流接触反応塔では上昇流層と降下流
層の比重差は約0.5と大きくフラツデイングは起
りにくいので、TBA法の場合と異なり運転操作
は容易である。本発明方法では硫酸を使用しない
ので硫酸法のような腐食の問題はない。

以下実施例により本発明を説明する。

実施例１断面積約５cm²、高さ1.5ｍの反応塔に約650c.c.の
強酸型陽イオン交換樹脂（OMZと略称する。オ
ルガノ社提供。スチレンとジビニルベンゼンを共
重合させ、次いでスルホン化したもので、粒径２
〜５mm。）を充填し、75℃、20Kg／cm²においてイ
ソブチレン含有量20wt％のC₄留分（組成はイソ
ブチレン20wt％、１−ブテン14％、２−ブテン
27％、飽和C₄炭化水素38％、ブタジエン１％、
残りはその他のC_2〜5炭化水素からなる。）を反応
器下部ノズルから液空間速度0.1hr^-1で供給し、
反応器上部フランジからエチレングリコールを液
空間速度0.36hr^-1（エチレングリコール対イソブ
チレンモル比は30：１）で供給した。

反応器上部から留出したC₄留分中のイソブチ
レン濃度は0.3wt％であり、ごく微量のMBE、
DBEを含んでいた。反応器下部から留出したエ
チレングリコール中には約5wt％のMBEを含有し
ていたが、DBEは認められなかつた。上部留出
物から常温でガス状の成分を除いた留出液量は下
部留出液量の約1wt％であつた。

実施例２エチレングリコールの流量を変えて供給エチレ
ングリコール対供給イソブチレンのモル比を変え
た以外は実施例１と同様にしてC₄留分をエチレ
ングリコールと接触させた。エチレングリコール
対イソブチレンのモル比が35、25、15モル／モル
の場合反応器上部から留出するC₄留分のイソブ
チレン含有量はそれぞれ0.2、0.6、1.3wt％であ
つた。

比較例１エチレングリコール0.36hr^-1を供給する代りに
水0.36hr^-1を供給した以外実施例１と同様にして
反応を行なつた。反応器上部から留出するC₄留
分のイソブチレン含有量は2.8wt％であつた。

比較例２エチレングリコール0.36hr^-1を反応管底部から
供給する代りにメタノール0.36hr^-1を反応器上部
から供給してC₄留分と並流で接触させた以外実
施例１と同様にしてC₄留分をメタノールと接触
させた。反応器底部から留出するC₄留分のイソ
ブチレン含有量は6.3wt％であつた。

比較例３エチレングリコール0.36hr^-1を反応器下部から
供給する代りに反応器上部から供給してC₄留分
と並流で接触させた以外実施例１と同様にして
C₄留分をエチレングリコールと接触させた。反
応器底部から留出するC₄留分のイソブチレン含
有量は5.9wt％で、MBEとDBEとの生成比は20／
1wt／wtであつた。

実施例３反応温度65℃とした以外は実施例１と同様にし
てC₄留分をエチレングリコールと接触させた。
反応器上部から留出するC₄留分のイソブチレン
含有量は0.5wt％であつた。

実施例４エチレングリコール0.36hr^-1の代りに不純物と
してMBE4.5wt％を含有する回収エチレングリコ
ール0.36hr^-1を供給した以外は実施例１と同様に
してC₄留分をエチレングリコールと接触させ
た。結果は実施例１よりやや劣るものであり、反
応器上部から留出するC₄留分のイソブチレン含
有量は1.0wt％であつた。

実施例５実施例１で得られた向流接触反応塔下部から留
出する下部留出液（MBE5.8wt％およびエチレン
グリコールモノセカンダリーブチルエーテル
0.1wt％を含有するエチレングリコール溶液）
を、強酸型陽イオン交換樹脂アンバーリスト15
（ロームアンドハース社製。スチレンとジビニル
ベンゼンとの共重合体をスルホン化したもので交
換容量4.9meq／ｇ、粒径0.3〜1.0mm。）20c.c.を充
填した反応管に常圧、110℃、液空間速度
（LHSV）0.5hr^-1で供給した。留出したエチレン
グリコール溶液中のMBE含有量は0.75モル％、
MBE転化率76％、エチレングリコール回収率は
98.8％であり、留出物から分離したガス状成分を
液化したのち蒸留して得られたイソブチレンは純
度99％、イソブチレン回収率は99.2％であつた。

この反応において原料１重量部に対し水0.01重
量部を添加して反応管に通したところエチレング
リコール回収率はほぼ100％となつた。

実施例６反応圧力を6.3Kg／cm²、全原料の液空間速度を
0.3hr^-1とした以外実施例５と同様にして反応を
行なつた。留出物としてエチレングリコール溶液
とジイソブチレン溶液とを分離取得した。MBE
転化率65.9％、エチレングリコール回収率は98％
であり、蒸留精製後得られたジイソブチレンは純
度99％、収率は86％であつた。

実施例７実施例１で得られた向流接触反応塔下部から留
出する下部留出液を減圧蒸留してMBEを回収し
た。回収MBEの純度は99.2％、回収率は98％で
あつた。

実施例８実施例７で得られたMBEを原料とし水と一緒
に水対MBEのモル比3.4：１、100℃、5.8Kg／
cm²、全原料のLHSV1.2hr^-1、の条件下20c.c.の触媒
アンバーリスト15を充填した反応管に供給した。
MBE転化率は67％、エチレングリコール回収率
は100％であり、生成物を三成分共沸蒸留操作に
付しTBAを分離回収した。

実施例９図面に示したフローシートに従つてC₄留分
（組分はイソブチレン50wt％、１−ブテン25％、
２−ブテン15％、飽和C₄炭化水素9.5％、残りそ
の他C_2〜5炭化水素よりなる。）を分離した。

反応塔３および１５に充填した触媒はアンバー
リスト１５、反応塔８に充填した触媒はOMZで
あつた。反応塔３における反応条件は温度70℃、
圧力20Kg／cm²、供給エチレングリコール対供給イ
ソブチレンのモル比2.8：１、全原料のLHSVは
2.0hr^-1であり、反応塔８における反応条件は温
度75℃、圧力20Kg／cm²、供給エチレングリコール
対供給イソブチレンのモル比30：１、供給C₄留
分（イソブチレン含有量9.1wt％）の空筒液空間
速度0.2hr^-1であり、反応塔１５における反応条
件は温度110℃、常圧、全原料の液空間速度
1.0hr^-1であつた。蒸留塔１１の頂部から留出す
るC₄留分のイソブチレン含有量は0.3wt％、ｎ−
ブテン回収率は94％であり、蒸留塔２０の頂部か
ら留出するイソブチレンは純度99.6％、回収率は
99.3％であつた。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明方法の一実施態様を示すフローシ
ートである。３……並流接触反応塔、８……向流接触反応
塔、１５……分解反応塔。

Claims

【特許請求の範囲】

１イソブチレンとｎ−ブテンとを含有するC₄
炭化水素留分をエチレングリコールと平均粒径が
少なくとも１mm以上の強酸型陽イオン交換体触媒
の存在下温度60〜120℃、圧力５〜70Kg／cm²、C₄
炭化水素留分の液空間速度が0.04〜5hr^-1、エチ
レングリコールとイソブチレンとのモル比が20モ
ル／モル以上の条件下において向流接触させるこ
とによりC₄炭化水素留分中のイソブチレンをエ
チレングリコールと反応させて分離することを特
徴とするC₄炭化水素留分からイソブチレンを分
離する方法。