JPS623418B2 - - Google Patents
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- JPS623418B2 JPS623418B2 JP12008877A JP12008877A JPS623418B2 JP S623418 B2 JPS623418 B2 JP S623418B2 JP 12008877 A JP12008877 A JP 12008877A JP 12008877 A JP12008877 A JP 12008877A JP S623418 B2 JPS623418 B2 JP S623418B2
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- metal
- emulsion
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- Expired
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はスクリーン印刷に使用するスクリーン
の製版方法に関するものである。
の製版方法に関するものである。
最近の厚膜印刷は、高精度、細密化が要求さ
れ、印刷に使用されるスクリーンも高精度用とし
て多種開発されている。第１図ａはサスペンドメ
タルマスクの一部を示す平面図、ｂは第１図ａの
Ｘ−Ｘ線断面図である。このスクリーンは第１図
に示すようにステンレスメツシユ１，１′と印刷
パターン層２をめつき層３で接着する。このため
ステンレスメツシユの線径がめつき層の厚さだけ
太くなる。たとえば、ステンレスメツシユ径0.04
mmφメツシユピツチ0.13mmのステンレスメツシユ
を使用した場合メツシユ径0.06mmφとなり、従来
48％の開口率を有するものが29％と大幅に低下す
る。開口率の低下により、印刷ペーストの充てん
量が少なくなるため印刷膜厚が薄くなる。またメ
ツシユ径が太いため印刷ペーストの廻り込みが小
さくなり、メツシユ線の下になる部分はさらに薄
くなり、印刷ペーストによつては断線、ピンホー
ルが発生する。このため高精度に製版できても実
際の印刷において使用範囲が狭い。特に誘電体層
のように印刷膜厚が厚く要求され、ピンホールが
問題点とされるものには使用できない欠点を有し
ている。
れ、印刷に使用されるスクリーンも高精度用とし
て多種開発されている。第１図ａはサスペンドメ
タルマスクの一部を示す平面図、ｂは第１図ａの
Ｘ−Ｘ線断面図である。このスクリーンは第１図
に示すようにステンレスメツシユ１，１′と印刷
パターン層２をめつき層３で接着する。このため
ステンレスメツシユの線径がめつき層の厚さだけ
太くなる。たとえば、ステンレスメツシユ径0.04
mmφメツシユピツチ0.13mmのステンレスメツシユ
を使用した場合メツシユ径0.06mmφとなり、従来
48％の開口率を有するものが29％と大幅に低下す
る。開口率の低下により、印刷ペーストの充てん
量が少なくなるため印刷膜厚が薄くなる。またメ
ツシユ径が太いため印刷ペーストの廻り込みが小
さくなり、メツシユ線の下になる部分はさらに薄
くなり、印刷ペーストによつては断線、ピンホー
ルが発生する。このため高精度に製版できても実
際の印刷において使用範囲が狭い。特に誘電体層
のように印刷膜厚が厚く要求され、ピンホールが
問題点とされるものには使用できない欠点を有し
ている。
本発明の目的は上記した従来技術の欠点をなく
し寸法精度、寿命のすぐれたスクリーン版の製版
方法を提供することにある。
し寸法精度、寿命のすぐれたスクリーン版の製版
方法を提供することにある。
上記目的を達成するため、本発明は溶解除去で
きる基材となる金属箔の片面に露光法およびめつ
き法により金属の印刷パターン部を形成し、この
金属の印刷パターン部をステンレスメツシユおよ
び枠張りしたスクリーン版に製版用乳剤で接着し
たのち基材となる金属箔と反対の面から製版用乳
剤を介して金属の印刷パターンにホトマスクを位
置合せして写真印刷法で露光し、乳剤を重合硬化
する。その後基材の金属箔を溶解除去して金属の
印刷パターン部を残し、その後印刷パターン部以
外の乳剤層を完全に除去した後乾燥し、再度露光
し、印刷パターン部の乳剤層を完全に硬化させて
金属の印刷部とステンレスメツシユとを１体とす
る印刷用スクリーンを得るものである。
きる基材となる金属箔の片面に露光法およびめつ
き法により金属の印刷パターン部を形成し、この
金属の印刷パターン部をステンレスメツシユおよ
び枠張りしたスクリーン版に製版用乳剤で接着し
たのち基材となる金属箔と反対の面から製版用乳
剤を介して金属の印刷パターンにホトマスクを位
置合せして写真印刷法で露光し、乳剤を重合硬化
する。その後基材の金属箔を溶解除去して金属の
印刷パターン部を残し、その後印刷パターン部以
外の乳剤層を完全に除去した後乾燥し、再度露光
し、印刷パターン部の乳剤層を完全に硬化させて
金属の印刷部とステンレスメツシユとを１体とす
る印刷用スクリーンを得るものである。
本発明の具体的実施例を第２図で説明する。厚
さ30〜40μの銅および銅合金の基材４（ロール
材、めつき箔）を市販の前処理剤商品名ニユート
ラクリーン（シツプレイジヤパン社製）で処理し
たのち、８％（Vol、％）塩酸で酸洗いし水洗し
てイソプロピルアルコールに浸漬する。イソプロ
ピルアルコールから取り出し80〜120℃で乾燥後
冷却したのちａ図に示すごとくホトレジストまた
はドライフイルムを使用して２〜35μの感光膜５
を基版４上に形成したのち、ホトマスク（図示せ
ず）を使用して露光し、現像処理してｂ図に示す
ごとくパターンを形成し、その上にｃ図に示すご
とくめつきレジストにしてニツケルめつき層６を
３〜40μの膜厚にめつきする。次に前記したｃ図
に示した工程後の基板をステンレスメツシユ１に
圧着し、製版用乳剤７で接着したのち40℃〜50℃
で乾燥させる。乾燥後ｂ図に示した工程中で使用
したホトマスクの白、黒逆のホトマスク８を使用
してニツケルめつき層６の金属パターンと位置合
せして露光し、ｄ図に示すごとく硬化させる。次
に、ステンレスメツシユ１およびニツケルめつき
膜６を溶解せず銅の基材４のみ溶解できるエツチ
ング液（たとえば亜・塩素酸ナトリウム系のエツ
チング液）でｅ図に示すごとく銅の基材４を溶解
除去する。この時、硬化していない乳剤７は除去
されるが除去残りがある場合には水洗時に完全に
除去する。ｆ図に示すごとく硬化していない乳剤
７を除去し開口させる。その後、再度40〜50℃で
乾燥したのち、乳剤部７を十分に紫外線で露光し
硬膜化する。この方法で製版したスクリーンはメ
ツシユ開口率40％以上で印刷パターンはニツケル
めつき層で形成された金属パターンである。また
本発明の方法では枠張りしたステンレスメツシユ
にパターン形成ができるので寸法精度がすぐれて
いる。本発明の方法でパターン外形寸法が160×
100（mm）のスクリーンを作り、多層印刷の絶縁
層形成に使用した結果40μの印刷膜厚（焼成後）
が可能であり、耐圧も十分であり、印刷精度も位
置ズレが±20μと少なく十分に満足することがわ
かつた。
さ30〜40μの銅および銅合金の基材４（ロール
材、めつき箔）を市販の前処理剤商品名ニユート
ラクリーン（シツプレイジヤパン社製）で処理し
たのち、８％（Vol、％）塩酸で酸洗いし水洗し
てイソプロピルアルコールに浸漬する。イソプロ
ピルアルコールから取り出し80〜120℃で乾燥後
冷却したのちａ図に示すごとくホトレジストまた
はドライフイルムを使用して２〜35μの感光膜５
を基版４上に形成したのち、ホトマスク（図示せ
ず）を使用して露光し、現像処理してｂ図に示す
ごとくパターンを形成し、その上にｃ図に示すご
とくめつきレジストにしてニツケルめつき層６を
３〜40μの膜厚にめつきする。次に前記したｃ図
に示した工程後の基板をステンレスメツシユ１に
圧着し、製版用乳剤７で接着したのち40℃〜50℃
で乾燥させる。乾燥後ｂ図に示した工程中で使用
したホトマスクの白、黒逆のホトマスク８を使用
してニツケルめつき層６の金属パターンと位置合
せして露光し、ｄ図に示すごとく硬化させる。次
に、ステンレスメツシユ１およびニツケルめつき
膜６を溶解せず銅の基材４のみ溶解できるエツチ
ング液（たとえば亜・塩素酸ナトリウム系のエツ
チング液）でｅ図に示すごとく銅の基材４を溶解
除去する。この時、硬化していない乳剤７は除去
されるが除去残りがある場合には水洗時に完全に
除去する。ｆ図に示すごとく硬化していない乳剤
７を除去し開口させる。その後、再度40〜50℃で
乾燥したのち、乳剤部７を十分に紫外線で露光し
硬膜化する。この方法で製版したスクリーンはメ
ツシユ開口率40％以上で印刷パターンはニツケル
めつき層で形成された金属パターンである。また
本発明の方法では枠張りしたステンレスメツシユ
にパターン形成ができるので寸法精度がすぐれて
いる。本発明の方法でパターン外形寸法が160×
100（mm）のスクリーンを作り、多層印刷の絶縁
層形成に使用した結果40μの印刷膜厚（焼成後）
が可能であり、耐圧も十分であり、印刷精度も位
置ズレが±20μと少なく十分に満足することがわ
かつた。
以上説明したごとく、従来のメタルマスクはメ
ツシユの開口率が小さいので多層印刷の絶縁層印
刷、膜が厚いエツチングレジストには使用できな
かつたが、本発明のスクリーンによれば可能とな
り、長寿命、高寸法精度の利点を持つメタルマス
クの応用範囲が広くなつた。
ツシユの開口率が小さいので多層印刷の絶縁層印
刷、膜が厚いエツチングレジストには使用できな
かつたが、本発明のスクリーンによれば可能とな
り、長寿命、高寸法精度の利点を持つメタルマス
クの応用範囲が広くなつた。
第１図ａは従来のメタルマスクを説明するメタ
ルマスクの平面図、ｂ図は第１図ａのＸ−Ｘ線断
面図、第２図ａ〜ｆは、本発明による印刷用スク
リーンの製版方法の実施例を示すスクリーンの断
面図である。 １，１′：ステンレスメツシユ、２：印刷パタ
ン層（ニツケルめつき）、３：接着層（ニツケル
めつき）、４：基材層（銅および銅合金）、５：感
光膜層、６：印刷パターン（ニツケルめつき）、
７：感光性乳剤層、８：ホトマスク。
ルマスクの平面図、ｂ図は第１図ａのＸ−Ｘ線断
面図、第２図ａ〜ｆは、本発明による印刷用スク
リーンの製版方法の実施例を示すスクリーンの断
面図である。 １，１′：ステンレスメツシユ、２：印刷パタ
ン層（ニツケルめつき）、３：接着層（ニツケル
めつき）、４：基材層（銅および銅合金）、５：感
光膜層、６：印刷パターン（ニツケルめつき）、
７：感光性乳剤層、８：ホトマスク。
Claims (1)
- １ 溶解除去できる金属箔の片面に露光法および
めつき法により金属の印刷パターンを形成し、こ
の金属の印刷パターン部をステンレスメツシユお
よび枠張りしたスクリーン版に製版用乳剤で接着
したのち前記金属箔と反対の面から製版用乳剤を
介して金属の印刷パターンにホトマスクを位置合
せして写真印刷法で露光し、前記乳剤を重合硬化
したのち、前記金属箔を溶解除去し、前記金属の
印刷パターン部を残しその後印刷パターン部以外
の乳剤層を完全に除去したのち乾燥し、再度露光
し前記印刷パターン部の乳剤層を完全に硬化させ
て前記金属の印刷部と前記ステンレスメツシユと
を１体とすることを特徴とする印刷用スクリーン
の製版方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12008877A JPS5454704A (en) | 1977-10-07 | 1977-10-07 | Method of reproducing printing screen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12008877A JPS5454704A (en) | 1977-10-07 | 1977-10-07 | Method of reproducing printing screen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5454704A JPS5454704A (en) | 1979-05-01 |
| JPS623418B2 true JPS623418B2 (ja) | 1987-01-24 |
Family
ID=14777603
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12008877A Granted JPS5454704A (en) | 1977-10-07 | 1977-10-07 | Method of reproducing printing screen |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5454704A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3441593A1 (de) * | 1984-11-14 | 1986-05-22 | Ferd. Rüesch AG, St. Gallen | Verfahren und vorrichtung zum herstellen von siebdruckgeweben fuer siebdruckzylinder |
| JPS61189543A (ja) * | 1985-02-19 | 1986-08-23 | Process Rabo Micron:Kk | スクリ−ン印刷用原版の製造方法 |
-
1977
- 1977-10-07 JP JP12008877A patent/JPS5454704A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5454704A (en) | 1979-05-01 |
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