JPS6234295Y2 - - Google Patents
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- JPS6234295Y2 JPS6234295Y2 JP9064479U JP9064479U JPS6234295Y2 JP S6234295 Y2 JPS6234295 Y2 JP S6234295Y2 JP 9064479 U JP9064479 U JP 9064479U JP 9064479 U JP9064479 U JP 9064479U JP S6234295 Y2 JPS6234295 Y2 JP S6234295Y2
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- Japan
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- sample
- electron beam
- irradiation position
- degaussing
- coil
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、電子線を用いてスラブ断面等の大面
積鋼試料における介在物の広範囲な2次元分布を
計測するX線分析装置に関する。[Detailed Description of the Invention] The present invention relates to an X-ray analysis device that uses an electron beam to measure a wide two-dimensional distribution of inclusions in a large area steel sample such as a cross section of a slab.
鋼材中のサルフア(S)の偏析、分布状態を検
出するために被検面(例えばスラブ断面)に硫酸
水溶液に浸した印画紙を貼付するサルフアプリン
ト試験法では、被検面に研摩紙0番程度の平滑度
が要求されるので、その研摩に多大な時間を要す
る欠点がある。しかもサルフアプリントで直接検
出されるのは硫黄、燐だけであつて、他の介在物
を直接観測することはできない。サルフア以外の
介在物のうちアルミニウム(Al)、マンガン
(Mn)等はサルフアと同一挙動するアルミナ
(Al2O3)或いはサルフアの化合物(例えばMnS)
としてサルフアプリントの分布パターンから経験
的に推測されていたが、近年の鋼材はサルフアの
含有率が低下しているので、これらの計測も次第
に困難となる傾向にある。 In the sulfur print test method, a photographic paper soaked in sulfuric acid solution is attached to the surface to be tested (for example, a cross section of a slab) in order to detect the segregation and distribution state of sulfur (S) in steel materials. Since the smoothness is required to be on the same level as No. 1, it has the drawback that polishing requires a large amount of time. Moreover, only sulfur and phosphorus can be directly detected with sulfur print, and other inclusions cannot be directly observed. Among inclusions other than sulfur, aluminum (Al), manganese (Mn), etc. are alumina (Al 2 O 3 ) or sulfur compounds (e.g. MnS) that behave in the same way as sulfur.
This was estimated empirically from the distribution pattern of sulfur prints, but as the content of sulfur in steel materials has decreased in recent years, these measurements tend to become increasingly difficult.
一方、被検面の各種介在物を直接計測する装置
としてX線マイクロアナライザ(EPMA)があ
る。これは、非常に細い(1〜100μφ)ビーム
径の電子線をサンプルに照射し、介在物から放射
されるX線を検出して介在物の元素および量を2
次元的に計測するものであるが、X線分光系に湾
曲結晶を使用したX線集光法であるため、ローラ
ンド円(集光円)が試料位置より下にくる。その
ため試料の大きさは制限され、20×20mm2程度のも
のしか分析できない。従つて走査範囲は1〜数mm
程度の狭領域であるためサルフアプリントの様な
広範囲な分布パターンを得るには適さず、また被
検面には電子顕微鏡のサンプルに近い平坦性が要
求されるのでその研摩に時間を要する点はサルフ
アプリントと同様である。 On the other hand, there is an X-ray microanalyzer (EPMA) as a device that directly measures various inclusions on a surface to be inspected. This method involves irradiating a sample with an electron beam with a very narrow beam diameter (1 to 100μφ), detecting the X-rays emitted from the inclusions, and determining the elements and amount of the inclusions.
Although it is a dimensional measurement, since it is an X-ray condensing method that uses a curved crystal in the X-ray spectroscopy system, the Rowland circle (concentrating circle) is located below the sample position. Therefore, the size of the sample is limited, and only about 20 x 20 mm 2 can be analyzed. Therefore, the scanning range is 1 to several mm.
Because the area is so narrow, it is not suitable for obtaining a wide distribution pattern like a sulfur print, and the surface to be examined requires a flatness similar to that of an electron microscope sample, so it takes time to polish it. is similar to sulfa print.
かゝる問題点を解決するために0.1〜10mmの範
囲でビーム径を選定した電子線でスラブ断面を広
範囲に計測するX線分析装置が本考案者等により
提案されている。その概要を第1図を参照しなが
ら説明する。この図で1は金属材料多元素同時分
布測定装置で、該装置の電子銃、電子光学系以外
は真空容器内に保たれる。2はパルスモータ3,
4によつてX,Y方向へ移動する試料台であり、
その上面にサンプル5が載置される。サンプル5
は例えば幅(Y方向)30cm、長さ(X方向)2m
程度のCC(連鋳)スラブ断面を切り出したもの
で、その表面に電子銃6から0.1〜10mmの範囲内
でビーム径が選定された電子線EBが断続的に
(または連続して)照射される。7a〜7dは分
光結晶として平面(平板)結晶を用いたX線分光
器であり、それぞれAl,P,S,Mnの特性X線
を検出してこれを電気信号(1パルスが1X線量
子に相当するパルス列)に変換する。8は電子銃
6に加速用の高電圧を印加する高圧回路であり、
その出力は高圧制御系10を通して確認される。電
子線EBのビーム径はビーム制御回路11から電
子レンズ6aに印加する電圧を変化させることで
制御され、また装置1内の真空度は真空状態検出
部12を通して確認される。13a〜13dはそ
れぞれX線分光器7a〜7dの出力パルスを計数
するカウンタで、その計数期間はゲート制御回路
14で規定される(ゲート制御される)。パルス
モータ3,4はX軸パルス発生回路15およびY
軸パルス発生回路16の出力でそれぞれ駆動さ
れ、サンプル5上の電子線EB照射位置をテレビ
走査と同様に変化させる。17はアラーム回路で
あり、何らかの異常が発生すればランプ9を点灯
する。20は制御解析用データ処理システムであ
り、マイクロコンピユータ21、ミニコンピユー
タシステム22およびグラフイツクデイスプレイ
23からなる。ミニコンピユータシステムは、ミ
ニコンピユータ本体24、解析計算メモリ25、
デイスクフアイル26からなり、本体24とマイ
クロコンピユータ21との間およびメモリ25と
デイスプレイ23との間はそれぞれデータバス2
7,28で接続される。29は制御信号用のライ
ンである。 In order to solve this problem, the present inventors have proposed an X-ray analyzer that measures the cross section of a slab over a wide range using an electron beam with a beam diameter selected in the range of 0.1 to 10 mm. The outline will be explained with reference to FIG. In this figure, reference numeral 1 denotes a metal material multi-element simultaneous distribution measuring device, and everything other than the electron gun and electron optical system of the device is kept in a vacuum container. 2 is a pulse motor 3,
4 is a sample stage that moves in the X and Y directions,
A sample 5 is placed on the top surface. Sample 5
For example, the width (Y direction) is 30 cm and the length (X direction) is 2 m.
The cross-section of a CC (continuously cast) slab of approximately Ru. 7a to 7d are X-ray spectrometers that use planar crystals as spectroscopic crystals, which detect characteristic X-rays of Al, P, S, and Mn and convert them into electric signals (one pulse equals one X-ray quantum). (equivalent pulse train). 8 is a high voltage circuit that applies a high voltage for acceleration to the electron gun 6;
Its output is confirmed through the high pressure control system 10. The beam diameter of the electron beam EB is controlled by changing the voltage applied from the beam control circuit 11 to the electron lens 6a, and the degree of vacuum inside the apparatus 1 is confirmed through the vacuum state detection section 12. 13a to 13d are counters that count the output pulses of the X-ray spectrometers 7a to 7d, respectively, and the counting period thereof is defined (gate controlled) by the gate control circuit 14. The pulse motors 3 and 4 are connected to the X-axis pulse generation circuit 15 and the Y
Each is driven by the output of the axial pulse generation circuit 16, and changes the electron beam EB irradiation position on the sample 5 in the same manner as television scanning. Reference numeral 17 denotes an alarm circuit, which turns on the lamp 9 if any abnormality occurs. Reference numeral 20 denotes a data processing system for control analysis, which includes a microcomputer 21, a minicomputer system 22, and a graphic display 23. The minicomputer system includes a minicomputer main body 24, an analysis calculation memory 25,
A data bus 2 is connected between the main body 24 and the microcomputer 21 and between the memory 25 and the display 23.
Connected at 7,28. 29 is a line for control signals.
上記X線分析装置によれば、被検面としてのス
ラブ断面に対する研摩を著しく簡素なものとして
もなおサルフアプリントと同様の介在物分布パタ
ーンを得ることができ、しかもサルフアの含有率
によらず他の介在物の広範囲な分布パターンを直
接計測できる利点がある。ところでこの装置では
オペレータが1人でサンプル5を試料台2上に搬
入し、分析操作を行なつて省力化を図る必要性か
ら試料搬入にはマグネツトクレーンを用いる。し
かしながらこの方法ではサンプル5が磁化され、
この磁化されたサンプル5が生じる磁場によつて
電子線EBの照射位置が正規の点からずれる恐れ
がある。電子線EBをサンプル5の1点に照射し
て得た元素分析値は、パルスモータで規定される
サンプル5のX,Y位置座標をアドレスとしてメ
モリに書き込まれ、介在物の2次元分布状況を示
すマツプが作られ、このマツプ読出し信号により
デイスプレイ23が動作するので、電子線EBが
直進せずに従つて予定位置からずれてサンプル5
表面に入射すれば、デイスプレイ23で表示され
る画像パターン(元素分布パターン)は実際のも
のと異なつたものとなる。これを回避するには消
磁を行なえばよいが、通常行なわれているように
被消磁材を消磁コイルに通す方式では本発明が対
象とするサンプル5は連鋳スラブ断面の如き幅30
cm、長さ2mという大型のものであるから消磁コ
イルが大型となり、それを測定装置1の入口など
に設けねばならず、設備が大型高価なものになつ
てしまう。 According to the above-mentioned X-ray analyzer, it is possible to obtain an inclusion distribution pattern similar to that of sulfur print even if the polishing of the cross section of the slab as the surface to be inspected is extremely simple, and moreover, it is possible to obtain an inclusion distribution pattern similar to that of sulfur aprint, regardless of the content of sulfur. It has the advantage of directly measuring a wide range of distribution patterns of other inclusions. By the way, in this apparatus, a magnetic crane is used to carry the sample because it is necessary for one operator to carry the sample 5 onto the sample stage 2 and perform the analysis operation in order to save labor. However, in this method, sample 5 is magnetized;
The magnetic field generated by the magnetized sample 5 may cause the irradiation position of the electron beam EB to deviate from the normal point. The elemental analysis value obtained by irradiating one point of the sample 5 with the electron beam EB is written into the memory using the X, Y position coordinates of the sample 5 specified by the pulse motor as an address, and the two-dimensional distribution state of the inclusions is analyzed. A map shown is created, and the display 23 is operated by this map readout signal, so that the electron beam EB does not move straight, but deviates from the planned position, resulting in sample 5 being
If the light is incident on the surface, the image pattern (element distribution pattern) displayed on the display 23 will be different from the actual one. To avoid this, demagnetization can be performed, but in the conventional method of passing the material to be demagnetized through a demagnetizing coil, sample 5, which is the object of the present invention, has a width of 30 mm, like the cross section of a continuous cast slab.
Since the degaussing coil is large, with a length of 2 m and a length of 2 m, the degaussing coil must be large and must be installed at the entrance of the measuring device 1, resulting in large and expensive equipment.
本考案は、かゝる問題を解決し、極めて簡単、
廉価な手段で確実な消磁を行なおうとするもので
あり、ビーム径を0.1〜10mmの範囲で選定した電
子線を真空中で大面積鋼試料に照射しかつ該試料
を移動させて走査を行ない、該試料内の介在物を
計測するX線分析装置において、電子線の照射位
置へ導かれる前記試料の被照射領域を、前記電子
線の照射位置の前段で消磁すべく、消磁コイルを
前記試料の電子線照射予定領域の面上に小〓間を
おいて、電子線照射位置の手前に配設したことを
特徴とするものである。以下図示の実施例を参照
しながらこれを詳細に説明する。 The present invention solves such problems and is extremely simple.
This method attempts to perform reliable demagnetization using an inexpensive method, and involves irradiating a large area steel sample in a vacuum with an electron beam with a beam diameter selected in the range of 0.1 to 10 mm, and scanning the sample by moving it. In an X-ray analysis apparatus for measuring inclusions in the sample, a demagnetizing coil is connected to the sample in order to demagnetize the irradiated area of the sample guided to the electron beam irradiation position before the electron beam irradiation position. It is characterized in that it is disposed in front of the electron beam irradiation position with a small distance above the surface of the area to be irradiated with the electron beam. This will be explained in detail below with reference to the illustrated embodiments.
第2図は本考案の一実施例であり、第1図と同
一部分には同一符号が付してある。計算機30は
第1図のマイクロコンピユータ21或いはミニコ
ンピユータ24に相当し、その制御プログラムに
従いサンプル移動制御回路31はパルスモータ
3,4を選択的に駆動する。パルス発振回路32
および駆動回路33は第1図のX軸、Y軸パルス
発生回路15,16を総合したもので、制御回路
31からX軸情報(X軸上の移動量および方向を
含む)とY軸情報(Y軸上の移動量および方向を
含む)を受けてパルスモータ3,4を所要とする
ステツプだけ回転させる。電子線EBの照射位置
Pは固定されていてサンプル5のX,Y方向の2
次元的な移動によりサンプル5の表面は2次元的
に走査される。34A〜34Dは消磁コイルであ
り、コイルドライバー35A〜35Dにより駆磁
される。36は制御回路31からX軸情報および
Y軸情報に基いてコイルドライバー35A〜35
Dに選択的に作動させる方向判別回路である。 FIG. 2 shows an embodiment of the present invention, and the same parts as in FIG. 1 are given the same reference numerals. The computer 30 corresponds to the microcomputer 21 or minicomputer 24 in FIG. 1, and the sample movement control circuit 31 selectively drives the pulse motors 3 and 4 according to its control program. Pulse oscillation circuit 32
The drive circuit 33 is a combination of the X-axis and Y-axis pulse generation circuits 15 and 16 shown in FIG. (including the amount and direction of movement on the Y axis), the pulse motors 3 and 4 are rotated by the required steps. The irradiation position P of the electron beam EB is fixed and is located at two points in the X and Y directions of the sample 5.
Due to the dimensional movement, the surface of the sample 5 is scanned two-dimensionally. Demagnetizing coils 34A to 34D are demagnetized by coil drivers 35A to 35D. 36 is a coil driver 35A to 35 based on the X-axis information and Y-axis information from the control circuit 31.
This is a direction discrimination circuit that is selectively activated in D.
消磁コイル34A,34Cは照射位置Pを中心
としてX軸上に対称的に図示しない保持手段によ
り固定状態で設けられ、また消磁コイル34B,
34Dは照射位置Pを中心としてY軸上に対称的
に設けられる。消磁コイル34A〜34Dは例え
ば50〜100ターンのコイルであり、1A程度の交
流電流が通電される。消磁コイル34A(34B
〜34Dについても同様)は第3図aに示すよう
にサンプル5の表面へ0.5〜1mm程度に近接して
配設され、且つ該コイルの磁束によつて電子線
EBを偏向しないように照射位置Pとの間に30〜
50mm程度の距離をおく。なお影響を完全に除くた
め図示しないが磁性体リングなどの磁気遮蔽体を
設けるとよい。第3図bはコイル配置を示したも
ので、矢印XA,XC,YB,YDはそれぞれサンプ
ル5の移動方向である。消磁コイル34A,34
CはサンプルXA(XC)方向へ移動する場合に選
択され、また消磁コイル34B,34Dはサンプ
ル5がYB(YD)方向へ移動する場合に選択され
る。このため、第3図aのようにサンプル5がX
A方向へ移動する場合には照射位置Pに至る被照
射領域5aを消磁コイル34Aによつて該位置P
の手前で局部的に消磁することができる。 The degaussing coils 34A, 34C are fixedly provided symmetrically on the X-axis with the irradiation position P as the center by holding means (not shown), and the degaussing coils 34B,
34D is provided symmetrically on the Y axis with the irradiation position P as the center. The degaussing coils 34A to 34D are coils having, for example, 50 to 100 turns, and are supplied with an alternating current of about 1 A. Demagnetizing coil 34A (34B
34D) is placed close to the surface of the sample 5 at a distance of about 0.5 to 1 mm, as shown in Figure 3a, and the magnetic flux of the coil causes the electron beam to
30~ between the irradiation position P and the EB so as not to deflect the EB.
Leave a distance of about 50mm. In order to completely eliminate the influence, it is preferable to provide a magnetic shield such as a magnetic ring, although not shown. FIG. 3b shows the coil arrangement, and arrows X A , X C , Y B , and Y D indicate the moving directions of the sample 5, respectively. Degaussing coil 34A, 34
C is selected when the sample 5 moves in the X A (X C ) direction, and degaussing coils 34B and 34D are selected when the sample 5 moves in the Y B (Y D ) direction. Therefore, as shown in Figure 3a, sample 5 is
When moving in direction A , the irradiated area 5a that reaches the irradiation position P is moved to the irradiation position P by the degaussing coil 34A.
It is possible to demagnetize locally in front of the
第4図は本考案の他の実施例を示す要部構成図
である。前記実施例では固定的に配設された4個
の消磁コイルをサンプル5の移動方向に応じて選
択的に用いたが、この実施例では単一の消磁コイ
ルを有するリング40を照射位置Pを中心として
回転可能に配設し、モータ41によつてその回転
位置を変える。モータ41は駆動制御回路42に
よつて制御されるが、ここには2つの情報が帰還
される。一つは回転角移動センサ43によるもの
であり、他の一つはリング40に穿設した4個の
透孔44A〜44Dを検出した情報である。後者
は光源45からの光を光検出器46で検出し、そ
の光電変換出力を増幅器47で増幅したものであ
る。今、リング40に設けた消磁コイル34(第
5図参照)が、透孔44Aが検出された状態で第
3図bのコイル34Aと同位置にあり、その進行
方向を変化するとすれば、モータ41を駆動して
透孔44B,44C,44Dを順次光検出器46
で検出される位置に回転させると、消磁コイル3
4は第3図の消磁コイル34B,34C,34D
と同位置に順次移動する。従つて、消磁コイル3
4の回転位置をサンプル5の移動方向に応じて変
化させれば前記実施例と同様にサンプル5の被照
射領域を照射位置Pの手前で局部的に消磁でき
る。また回転角移動センサ43はモータ従つてリ
ング40の回転につれてパルスを発生し、該パル
スの計数値は回転角を示すから、所望角を数値で
与え、センサ43の出力パルスの計数値が該数値
に等しくなるまでモータを回転させれば消磁コイ
ルを任意所望の角位置へ移動させることができ
る。 FIG. 4 is a block diagram of main parts showing another embodiment of the present invention. In the above embodiment, four fixedly arranged degaussing coils were selectively used depending on the moving direction of the sample 5, but in this embodiment, a ring 40 having a single degaussing coil was used at the irradiation position P. It is arranged to be rotatable around the center, and its rotational position is changed by a motor 41. The motor 41 is controlled by a drive control circuit 42, to which two pieces of information are fed back. One is information from the rotational angle movement sensor 43, and the other is information obtained by detecting four through holes 44A to 44D drilled in the ring 40. In the latter case, light from a light source 45 is detected by a photodetector 46, and its photoelectric conversion output is amplified by an amplifier 47. Now, if the degaussing coil 34 (see FIG. 5) provided in the ring 40 is at the same position as the coil 34A in FIG. 41 to sequentially connect the through holes 44B, 44C, and 44D to the photodetector 46.
When the degaussing coil 3 is rotated to the position detected by
4 are degaussing coils 34B, 34C, and 34D in Fig. 3.
Move to the same position sequentially. Therefore, the degaussing coil 3
By changing the rotational position of the sample 4 in accordance with the moving direction of the sample 5, the irradiated region of the sample 5 can be locally demagnetized in front of the irradiation position P, as in the previous embodiment. Further, the rotation angle movement sensor 43 generates pulses as the motor and therefore the ring 40 rotate, and the count value of the pulses indicates the rotation angle, so the desired angle is given as a numerical value, and the count value of the output pulses of the sensor 43 is The degaussing coil can be moved to any desired angular position by rotating the motor until it becomes equal to .
以上述べたように、本考案ではサンプルの電子
線被照射領域を局部的に予め消磁するので、サン
プルが搬入前に磁化されていても電子線を正規の
照射位置へ確実に導びくことができる。しかも、
消磁装置(消磁コイル)による消磁は、X線分析
装置の真空系内にサンプルを搬入した後の電子線
走査と並行して局部的に順次行なわれるので、予
め消磁ラインを外部に設けて別工程でサンプルを
消磁する方法に比し1工程短縮できると共に、装
置構成を簡略化できる利点がある。尚、第4図の
実施例のようにすれば消磁コイルは1個で済む利
点はあるが、第2図の実施例のように複数個の消
磁コイルを用いれば真空系内に回転機構を組込ま
ずに済む利点がある。 As mentioned above, in the present invention, since the electron beam irradiation area of the sample is locally demagnetized in advance, the electron beam can be reliably guided to the proper irradiation position even if the sample is magnetized before being delivered. . Moreover,
Degaussing by a degaussing device (degaussing coil) is performed locally and sequentially in parallel with electron beam scanning after the sample is introduced into the vacuum system of the X-ray analyzer, so a degaussing line is provided externally in advance and a separate process Compared to the method of demagnetizing the sample, this method has the advantage of being able to shorten the process by one step and simplifying the device configuration. The embodiment shown in Fig. 4 has the advantage of requiring only one degaussing coil, but if multiple demagnetizing coils are used as in the embodiment shown in Fig. 2, a rotation mechanism cannot be incorporated into the vacuum system. This has the advantage of being unnecessary.
第1図は大径の電子線を用いたX線分析装置の
概略構成図、第2図は本考案の一実施例を示す概
略構成図、第3図a,bは第2図の消磁コイルの
位置関係を示す側面図および平面図、第4図は本
考案の他の実施例を示す要部構成図、第5図は第
4図の動作説明に用いた単一の消磁コイルの位置
関係を示す平面図である。
1……金属材料多元素同時分析装置、3,4…
…パルスモータ、5……サンプル、5a……被照
射領域、6……電子銃、34,34A〜34D…
…消磁コイル、P……照射位置、EB……電子
線。
Fig. 1 is a schematic diagram of an X-ray analyzer using a large diameter electron beam, Fig. 2 is a schematic diagram showing an embodiment of the present invention, and Figs. 3a and b are degaussing coils shown in Fig. 2. 4 is a main part configuration diagram showing another embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a positional relationship of a single degaussing coil used to explain the operation of FIG. 4. FIG. 1... Metal material multi-element simultaneous analysis device, 3, 4...
...Pulse motor, 5...Sample, 5a...Irradiation area, 6...Electron gun, 34, 34A to 34D...
...Degaussing coil, P...irradiation position, EB...electron beam.
Claims (1)
線を真空中で大面積鋼試料に照射しかつ該試料
を移動させて走査を行ない、該試料内の介在物
を計測するX線分析装置において、電子線の照
射位置へ導かれる前記試料の被照射領域を、前
記電子線の照射位置の前段で消磁すべく、消磁
コイルを前記試料の電子線照射予定領域の面上
に小間〓をおいて、電子線照射位置の手前に配
設したことを特徴とする、鋼試料のX線分析装
置。 (2) 鋼試料がモータによりX,Y方向に移動され
る試料台にのせられ、消磁コイルが電子ビーム
照射位置を中心にしてX,Y方向に4個固定的
に配設され、試料台の移動方向に応じて該方向
のかつ前記照射位置の手前にあるコイルが励磁
されるようにしてなることを特徴とする実用新
案登録請求の範囲第1項記載の鋼試料のX線分
析装置。 (3) 鋼試料がモータにより移動される試料台にの
せられ、消磁コイルが電子ビーム照射位置を中
心として回転するリングに取付けられ、試料台
の移動方向に応じて回転して前記照射位置の手
前にくるようにしてなることを特徴とする実用
新案登録請求の範囲第1項記載の鋼試料のX線
分析装置。[Scope of Claim for Utility Model Registration] (1) A large-area steel sample is irradiated with an electron beam with a beam diameter selected in the range of 0.1 to 10 mm in a vacuum, and the sample is moved and scanned to detect the inside of the sample. In an X-ray analysis device that measures inclusions, a degaussing coil is scheduled to be irradiated with the electron beam of the sample in order to demagnetize the irradiated area of the sample guided to the electron beam irradiation position before the electron beam irradiation position. 1. An X-ray analysis device for steel samples, characterized in that a booth is placed on the surface of the area and placed in front of an electron beam irradiation position. (2) A steel sample is placed on a sample stage that is moved in the X and Y directions by a motor, and four degaussing coils are fixedly arranged in the X and Y directions with the electron beam irradiation position as the center. 2. The X-ray analysis apparatus for a steel sample according to claim 1, wherein a coil in the direction of movement and in front of the irradiation position is excited depending on the direction of movement. (3) A steel sample is placed on a sample stage that is moved by a motor, and a degaussing coil is attached to a ring that rotates around the electron beam irradiation position, and rotates in accordance with the moving direction of the sample stage so that the degaussing coil is placed in front of the irradiation position. An X-ray analysis apparatus for a steel sample according to claim 1, which is characterized in that it is configured so as to be arranged as follows.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9064479U JPS6234295Y2 (en) | 1979-06-29 | 1979-06-29 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9064479U JPS6234295Y2 (en) | 1979-06-29 | 1979-06-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS569050U JPS569050U (en) | 1981-01-26 |
| JPS6234295Y2 true JPS6234295Y2 (en) | 1987-09-01 |
Family
ID=29323748
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9064479U Expired JPS6234295Y2 (en) | 1979-06-29 | 1979-06-29 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6234295Y2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6054763U (en) * | 1983-09-20 | 1985-04-17 | 本田技研工業株式会社 | Intake secondary air supply device for automotive internal combustion engine |
-
1979
- 1979-06-29 JP JP9064479U patent/JPS6234295Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS569050U (en) | 1981-01-26 |
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