JPS6234830B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6234830B2 JPS6234830B2 JP611783A JP611783A JPS6234830B2 JP S6234830 B2 JPS6234830 B2 JP S6234830B2 JP 611783 A JP611783 A JP 611783A JP 611783 A JP611783 A JP 611783A JP S6234830 B2 JPS6234830 B2 JP S6234830B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- nitrides
- aln
- nitrogen
- carbides
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 20
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N Nitric oxide Chemical compound O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N nitrogen dioxide Inorganic materials O=[N]=O JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 claims description 5
- MGWGWNFMUOTEHG-UHFFFAOYSA-N 4-(3,5-dimethylphenyl)-1,3-thiazol-2-amine Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C=2N=C(N)SC=2)=C1 MGWGWNFMUOTEHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 14
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 12
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/308—Oxynitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
超硬合金の表面に、より耐摩耗性の優れた
TiC，TiN，Al2O3などの硬質物質を、一種又は
二種以上の単層又は二層以上被覆した被覆超硬合
金は既に実用化されている。その中でもAl2O3を
外層とした二重被覆超硬合金工具は、Al2O3のも
つ耐熱性、耐酸化性等の優れた耐摩耗性を示すこ
とが知られている。しかし、Al2O3自体は脆性材
料であり靭性が劣るという欠点があり、コーテイ
ングする母材としては靭性の高い超硬合金を用い
る必要があつた。 一方、切削工具に要求される切削条件は、年々
荷酷になつてきており、切削速度も300m／min
を超える場合も多くなつてきており、より高靭
性、耐摩耗性の高い切削工具用合金が要求されて
きている。 本発明の目的の一つは上述の要求に答えて、よ
り耐摩耗性、靭性の優れたAl2O3とAlNの混合
物、固溶体の一方又は両方を被覆層として有する
被覆硬質部材の製造法を提供することにあり、ま
た他の目的は超硬合金以外でも被覆母材として使
用しうる広範囲の用途に適応し得る安価な被覆硬
質部材の製造法を提供することにある。そしてこ
の被覆硬質部材は切削工具は勿論、耐摩耗性を要
求される各種部材に応用しうるものである。 Al2O3とAlNの混合物あるいは固溶体は、Alの
ハロゲン化物、水素とN2、アンモニアガス等を
用いることによつて形成しうるが、膜の密着性が
不十分であり、多孔質の膜や被覆層中に塩化アン
モニウム等の副生成物が生じ反応を妨害する等の
現象が生じるため、好ましい方法ではない。 本発明は、従来のAl2O3被覆層の脆性を改良す
るものであり、Al2O3とAlN混合層と／又は固溶
体からなる被覆層をAlのハロゲン化物、水素及
び一酸化窒素もしくは二酸化窒素あるいは両者を
400〜1200℃で反応せしめることによつて得るも
のである。 このように被覆層中の窒素もしくは酸素の供給
源として、一酸化窒素、二酸化窒素を用いた結
果、緻密で密着性の良い被覆が得られ、副生成物
も生ぜず、しかも、被覆層中の窒素、酸素の比率
を任意に調整できることを見出したものである。 被覆層を形成する温度としては、400〜1200℃
であれば良いが、好ましくは900〜1000℃であ
る。1200℃を超えると反応性が高くなり制御が難
しく、400℃未満では成長速度が遅すぎる。この
ような被覆層は、化学蒸着法は勿論のこと、プラ
ズマ化学蒸着法、物理蒸着法でも生成可能であ
る。 又、被覆層の厚みは、0.5μｍ未満では効果が
なく、20μｍを超えると靭性低下が大きくなるの
で好ましくない。 上記の被覆層は、従来のAl2O3単体よりも靭性
が高いため、基体としては超硬合金のほかａ，
Va，ａ族元素の炭化物、窒化物、炭窒化物等
の硬質相からなるサーメツト及びAl2O3を主成分
とするセラミツク、あるいはSiC，Si3N4のセラミ
ツク等の靭性の低い基体にも使用できる。 又、上記の硬質相と、Co，Ni，Mo，Ｗの結合
相からなる基体の場合、結合相は10容量％を超え
る場合、基体の靭性が高いため本発明の特徴であ
る高靭性、耐摩耗性のある被覆層の長所がでない
ので、本発明の目的を逸脱する。 被覆層中の窒素あるいは酸素含有量は、雰囲気
中の一酸化窒素あるいは二酸化窒素、H2の比率
を任意に調整することによつて変化させることが
出来、酸素含有量を高めるため、二酸化窒素を零
とすれば、AlN含有量が増加し、被覆層の靭性を
向上させることができる。 〔実施例 １〕 結合相が０，５，10，15％（容積％以下同じ）
（Co／Ni＝２）で、硬質相が60％TiC、８％
TiN、２％Mo2C、残WCの組成からなる形状が
SNG432の硬質合金チツプを基体として、５％
AlCl3、83％H2、10％NO、２％NO2のガス雰囲気
で、1000℃、40torrの減圧下で0.5から30時間保
持して、それぞれ0.2μｍ、５μｍ、20μｍ、30
μｍの厚さの被覆層を形成した。このコーテイン
グチツプをＸ線回折とオージエ分光分析で分析し
た結果、Al2O3とAlNが検出され、一部はAl2O3あ
るいはAlNに窒素あるいは酸素が固溶していた。 また比較のために、上記基体に40torrの減圧
下、1000℃で、５％AlCl3、５％CO2、残H2中
で、３〜12時間保持し、又同圧力温度で５％
AlCl3、５％NH3、20％N2、残H2中で４〜16時間
保持して、厚さ５μｍ、20μｍのAl2O3と、厚さ
20μｍのAlNをコーテイングしたチツプと共に下
記の条件にて切削テストを行なつた。その結果を
第１表に示す。 切削条件 被削材 FC25 切削速度 600m／min 送 り 0.5mm／rev 切込み 1.5mm
TiC，TiN，Al2O3などの硬質物質を、一種又は
二種以上の単層又は二層以上被覆した被覆超硬合
金は既に実用化されている。その中でもAl2O3を
外層とした二重被覆超硬合金工具は、Al2O3のも
つ耐熱性、耐酸化性等の優れた耐摩耗性を示すこ
とが知られている。しかし、Al2O3自体は脆性材
料であり靭性が劣るという欠点があり、コーテイ
ングする母材としては靭性の高い超硬合金を用い
る必要があつた。 一方、切削工具に要求される切削条件は、年々
荷酷になつてきており、切削速度も300m／min
を超える場合も多くなつてきており、より高靭
性、耐摩耗性の高い切削工具用合金が要求されて
きている。 本発明の目的の一つは上述の要求に答えて、よ
り耐摩耗性、靭性の優れたAl2O3とAlNの混合
物、固溶体の一方又は両方を被覆層として有する
被覆硬質部材の製造法を提供することにあり、ま
た他の目的は超硬合金以外でも被覆母材として使
用しうる広範囲の用途に適応し得る安価な被覆硬
質部材の製造法を提供することにある。そしてこ
の被覆硬質部材は切削工具は勿論、耐摩耗性を要
求される各種部材に応用しうるものである。 Al2O3とAlNの混合物あるいは固溶体は、Alの
ハロゲン化物、水素とN2、アンモニアガス等を
用いることによつて形成しうるが、膜の密着性が
不十分であり、多孔質の膜や被覆層中に塩化アン
モニウム等の副生成物が生じ反応を妨害する等の
現象が生じるため、好ましい方法ではない。 本発明は、従来のAl2O3被覆層の脆性を改良す
るものであり、Al2O3とAlN混合層と／又は固溶
体からなる被覆層をAlのハロゲン化物、水素及
び一酸化窒素もしくは二酸化窒素あるいは両者を
400〜1200℃で反応せしめることによつて得るも
のである。 このように被覆層中の窒素もしくは酸素の供給
源として、一酸化窒素、二酸化窒素を用いた結
果、緻密で密着性の良い被覆が得られ、副生成物
も生ぜず、しかも、被覆層中の窒素、酸素の比率
を任意に調整できることを見出したものである。 被覆層を形成する温度としては、400〜1200℃
であれば良いが、好ましくは900〜1000℃であ
る。1200℃を超えると反応性が高くなり制御が難
しく、400℃未満では成長速度が遅すぎる。この
ような被覆層は、化学蒸着法は勿論のこと、プラ
ズマ化学蒸着法、物理蒸着法でも生成可能であ
る。 又、被覆層の厚みは、0.5μｍ未満では効果が
なく、20μｍを超えると靭性低下が大きくなるの
で好ましくない。 上記の被覆層は、従来のAl2O3単体よりも靭性
が高いため、基体としては超硬合金のほかａ，
Va，ａ族元素の炭化物、窒化物、炭窒化物等
の硬質相からなるサーメツト及びAl2O3を主成分
とするセラミツク、あるいはSiC，Si3N4のセラミ
ツク等の靭性の低い基体にも使用できる。 又、上記の硬質相と、Co，Ni，Mo，Ｗの結合
相からなる基体の場合、結合相は10容量％を超え
る場合、基体の靭性が高いため本発明の特徴であ
る高靭性、耐摩耗性のある被覆層の長所がでない
ので、本発明の目的を逸脱する。 被覆層中の窒素あるいは酸素含有量は、雰囲気
中の一酸化窒素あるいは二酸化窒素、H2の比率
を任意に調整することによつて変化させることが
出来、酸素含有量を高めるため、二酸化窒素を零
とすれば、AlN含有量が増加し、被覆層の靭性を
向上させることができる。 〔実施例 １〕 結合相が０，５，10，15％（容積％以下同じ）
（Co／Ni＝２）で、硬質相が60％TiC、８％
TiN、２％Mo2C、残WCの組成からなる形状が
SNG432の硬質合金チツプを基体として、５％
AlCl3、83％H2、10％NO、２％NO2のガス雰囲気
で、1000℃、40torrの減圧下で0.5から30時間保
持して、それぞれ0.2μｍ、５μｍ、20μｍ、30
μｍの厚さの被覆層を形成した。このコーテイン
グチツプをＸ線回折とオージエ分光分析で分析し
た結果、Al2O3とAlNが検出され、一部はAl2O3あ
るいはAlNに窒素あるいは酸素が固溶していた。 また比較のために、上記基体に40torrの減圧
下、1000℃で、５％AlCl3、５％CO2、残H2中
で、３〜12時間保持し、又同圧力温度で５％
AlCl3、５％NH3、20％N2、残H2中で４〜16時間
保持して、厚さ５μｍ、20μｍのAl2O3と、厚さ
20μｍのAlNをコーテイングしたチツプと共に下
記の条件にて切削テストを行なつた。その結果を
第１表に示す。 切削条件 被削材 FC25 切削速度 600m／min 送 り 0.5mm／rev 切込み 1.5mm
95％Al2O3―５％TiCのセラミツクからなり、
形状がSNG342のチツプを基体として、実施例１
と同様のガス組成同圧力で、0.5μｍ、10μｍ、
30μｍの厚さのコーテイングを同様にして形成し
た。又、反応温度は300℃、800℃、1000℃、1200
℃で行なつた。なお、300℃、800℃はプラズマ化
学蒸着法（Ｐ―CVD，13.56KHzの高周波電力
200W、反応圧力2torr、反応時間0.5〜３時間）、
1000〜1200℃は圧力40torrで通常の化学蒸着法
（Ｃ―CVD）で行なつた。又比較のために10μ
mAl2O3を同様の圧力、反応温度と蒸着法で作成
し、下記の切削条件で切削テストを行なつた。テ
スト結果を第２表に示す。 切削条件 被削材 SCM435 切削速度 800m／min 送 り 0.2mm／rev 切込み 1.5mm
形状がSNG342のチツプを基体として、実施例１
と同様のガス組成同圧力で、0.5μｍ、10μｍ、
30μｍの厚さのコーテイングを同様にして形成し
た。又、反応温度は300℃、800℃、1000℃、1200
℃で行なつた。なお、300℃、800℃はプラズマ化
学蒸着法（Ｐ―CVD，13.56KHzの高周波電力
200W、反応圧力2torr、反応時間0.5〜３時間）、
1000〜1200℃は圧力40torrで通常の化学蒸着法
（Ｃ―CVD）で行なつた。又比較のために10μ
mAl2O3を同様の圧力、反応温度と蒸着法で作成
し、下記の切削条件で切削テストを行なつた。テ
スト結果を第２表に示す。 切削条件 被削材 SCM435 切削速度 800m／min 送 り 0.2mm／rev 切込み 1.5mm
95％Si3N4、３％Al2O3、２％Y2O3の組成をも
つセラミツクからなり、形状がSNG432のチツプ
を基体として、実施例１と同様にして５μｍ、20
μｍコーテイングした。又、比較のために５μ
ｍ、20μｍのAl2O3をコーテイングして実施例２
の条件で切削テストを行なつた。 テスト結果を第３表に示す。
つセラミツクからなり、形状がSNG432のチツプ
を基体として、実施例１と同様にして５μｍ、20
μｍコーテイングした。又、比較のために５μ
ｍ、20μｍのAl2O3をコーテイングして実施例２
の条件で切削テストを行なつた。 テスト結果を第３表に示す。
【表】
第３表に示すように、本発明によれば従来の
Al2O3のみからなる被膜のものより格段に性能の
良いものを提供できる。
Al2O3のみからなる被膜のものより格段に性能の
良いものを提供できる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ａ族、ａ族、ａ族元素の炭化物、窒化
物、炭窒化物、酸化物、Al2O3、Siの炭化物、窒
化物のうちの二種以上（酸化物同士のみからなる
場合を除く）からなる硬質部材の表面に、Alの
ハロゲン化物、水素、及び一酸化窒素、二酸化窒
素の一方又は両方を400〜1200℃で反応せしめ、
0.5〜20μｍの厚さのAl2O3とAlNの混合層と／又
は固溶体層を形成することを特徴とする被覆硬質
部材の製造法。 ２ ａ族、ａ族、ａ族元素の炭化物、窒化
物、炭窒化物、Siの炭化物、窒化物のうちの一種
以上、又はこれらとａ族、ａ族、ａ族元素
の酸化物、Al2O3の一種以上に、Fe，Co，Ni，
Cr，Ｗ，Moのうちの一種以上を10容量％以下含
有する硬質部材の表面に、Alのハロゲン化物、
水素、及び一酸化窒素、二酸化窒素の一方又は両
方を400〜1200℃で反応せしめ、0.5〜20μｍの厚
さのAl2O3とAlNの混合層と／又は固溶体層を形
成することを特徴とする被覆硬質部材の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP611783A JPS59129776A (ja) | 1983-01-17 | 1983-01-17 | 被覆硬質部材の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP611783A JPS59129776A (ja) | 1983-01-17 | 1983-01-17 | 被覆硬質部材の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59129776A JPS59129776A (ja) | 1984-07-26 |
| JPS6234830B2 true JPS6234830B2 (ja) | 1987-07-29 |
Family
ID=11629559
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP611783A Granted JPS59129776A (ja) | 1983-01-17 | 1983-01-17 | 被覆硬質部材の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59129776A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6418312A (en) * | 1986-07-24 | 1989-01-23 | Nat Semiconductor Corp | Four-state input/output control circuit |
-
1983
- 1983-01-17 JP JP611783A patent/JPS59129776A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6418312A (en) * | 1986-07-24 | 1989-01-23 | Nat Semiconductor Corp | Four-state input/output control circuit |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59129776A (ja) | 1984-07-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| GB2112415A (en) | Coated cermet blade | |
| JP2775955B2 (ja) | 耐摩耗性に優れたコーティングサーメットの製造法 | |
| JPH068008A (ja) | 耐チッピング性にすぐれた表面被覆炭化タングステン基超硬合金製切削工具 | |
| JPS60162782A (ja) | 被覆硬質合金工具 | |
| JPH0568548B2 (ja) | ||
| JPS61163273A (ja) | 被覆硬質部材 | |
| JPS6234830B2 (ja) | ||
| JPS6360831B2 (ja) | ||
| JPH11335870A (ja) | 炭窒化チタン・酸化アルミニウム被覆工具 | |
| JPH0860366A (ja) | 硬質支持体への複合ダイアモンド被覆の付着方法 | |
| JP2794111B2 (ja) | ダイヤモンド被覆切削工具 | |
| JPS6229507B2 (ja) | ||
| JPH01180980A (ja) | 被覆工具材料 | |
| JP2529190B2 (ja) | 被覆超硬合金 | |
| JPS6345372A (ja) | ダイヤモンド被覆炭化タングステン基超硬合金製切削工具チツプ | |
| JPH05171442A (ja) | 被覆超硬合金およびその製造方法 | |
| JPS6119777A (ja) | 耐摩、耐熱性被覆超硬合金部材 | |
| JPS6123871B2 (ja) | ||
| JPS62290870A (ja) | 被覆硬質部材の製造法 | |
| JPS59170264A (ja) | 切削工具用表面被覆超硬質合金部材 | |
| JPS6214220B2 (ja) | ||
| JPH0394062A (ja) | ダイヤモンド被覆超硬合金 | |
| JPS6111724B2 (ja) | ||
| JPS6120627B2 (ja) | ||
| JPH0124225B2 (ja) |