JPS6235470B2 - - Google Patents

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JPS6235470B2
JPS6235470B2 JP21469282A JP21469282A JPS6235470B2 JP S6235470 B2 JPS6235470 B2 JP S6235470B2 JP 21469282 A JP21469282 A JP 21469282A JP 21469282 A JP21469282 A JP 21469282A JP S6235470 B2 JPS6235470 B2 JP S6235470B2
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JP
Japan
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coil
cooling gas
base plate
bottom chamber
temperature
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JP21469282A
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English (en)
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JPS59107033A (ja
Inventor
Seiji Oomura
Soshichi Dobashi
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Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
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Publication date
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Priority to US06/542,193 priority patent/US4502671A/en
Priority to EP83110817A priority patent/EP0108357B1/en
Priority to DE8383110817T priority patent/DE3369703D1/de
Publication of JPS59107033A publication Critical patent/JPS59107033A/ja
Publication of JPS6235470B2 publication Critical patent/JPS6235470B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C21METALLURGY OF IRON
    • C21DMODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D9/00Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
    • C21D9/52Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for wires; for strips ; for rods of unlimited length
    • C21D9/54Furnaces for treating strips or wire
    • C21D9/663Bell-type furnaces
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C21METALLURGY OF IRON
    • C21DMODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D2281/00Making use of special physico-chemical means
    • C21D2281/02Making use of special physico-chemical means temperature gradient

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing Of Steel Electrode Plates (AREA)
  • Heat Treatment Of Strip Materials And Filament Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は金属コイルのバツチ焼鈍装置、特に
金属コイルの幅または長さ方向にわたる各部位が
特定の温度勾配で特定温度域を通過するようにし
て金属コイルを加熱するバツチ焼鈍装置に関す
る。
従来、一般に用いられる金属コイルの焼鈍炉は
金属コイルをベースプレート上に載せ、金属コイ
ルを静止させた状態で所定のヒートパターンを与
えて焼鈍していた。たとえば、一方向性電磁鋼板
の製造工程において、最終仕上焼鈍(二次再結晶
焼鈍)は第1図に示すようなバツチ焼鈍炉により
広く行われていた。
すなわち、第1図に示すように電磁鋼板コイル
Cをコイル軸を垂直にしてベースプレート3上に
載置し、インナカバー2をこれに被ぶせる。そし
て、更にインナカバー2をベル形炉体1により覆
い、インナカバー2内に給気管4によりN2
AX、H2ガスなどの雰囲気ガスを供給する。そし
て、炉体1内側に取り付けられた電熱ヒーター5
およびベースプレート3下方に配置された電熱ヒ
ーター6によりコイルC全体を同時に、比較的均
一に加熱、昇温する。コイルCを所定温度(1150
〜1200℃)まで昇温し、均熱保持したのち、炉体
1内にこれの頂部に接続された冷却ガス吹込管7
から冷却ガスを吹き込み、所定温度まで冷却し、
焼鈍を完了する。昇温した冷却ガスは冷却装置8
で冷却されたのち再び炉体1内に吹き込まれる。
ところで、最近、一方向性電磁鋼板を使用した
変圧器等の電気機器の小型化が重要な問題となり
つつある。これらの電気機器の鉄心重量の軽減化
のためには励磁特性(B8特性)および鉄損特性
が更に改良された一方向性電磁鋼板が必要となつ
て来た。
本出願人が先に出願した熱処理方法(特開昭57
−2839号公報、特開昭57−134519号公報、特開昭
58−100627号公報、特開昭58−1019号公報)は、
一次再結晶領域と二次再結晶領域との境界領域に
おいて電磁鋼板コイルに所定の温度勾配を与えな
がら二次再結晶を進行させる。すなわち、一次再
結晶焼鈍の終つた電磁鋼板コイルの一端から他端
に向つて加熱を進めて行き、コイル全幅にわたり
二次再結晶させる。このとき、930〜1050℃の温
度範囲内において一次再結晶領域と二次再結晶領
域との境界領域に0.5℃/cm以上の温度勾配を与
えるように加熱する。この方法によれば、従来得
られなかつた、画期的に優れたB8特性および鉄
損特性をもつた電磁鋼板を製造できるようになつ
た。
しかし、従来のバツチ焼鈍炉では前述のように
コイル全体をほぼ均一に加熱しながら昇温して行
く。したがつて、上記境界領域において金属コイ
ルに所要の温度勾配を与えることはできない。
そこで、この発明は金属コイルの焼鈍におい
て、特定の領域に所定の温度勾配を与えながら金
属コイルを加熱、昇温することができるバツチ焼
鈍装置を提供しようとするものである。
この発明のバツチ焼鈍装置ではベル形炉体、ベ
ースプレートおよびインナカバーを備えた装置に
おいて、上方に向つて開口し、内径が金属コイル
の外径よりやや大きく、金属コイルの収納可能な
ボトムチヤンバーが炉体の下方に設けられてい
る。ボトムチヤンバー内にはこれと同軸に、ボト
ムチヤンバー底部から上方に延びる柱状の固定ベ
ースが設けられている。固定ベースは外径が金属
コイルの内径よりやや小さく、ボトムチヤンバー
の開口部に位置する仕切部をもつている。また、
前記ベースプレートは環状をしており、冷却手段
を備えている。そして、ベースプレートはボトム
チヤンバーの底部を貫通し昇降自在な支持部材に
支持されている。支持部材の下端部は昇降駆動装
置に連結されている。
上記冷却手段はベースプレート内に設けられた
環状の冷却ガス流路およびこれに連結する冷却ガ
ス循環装置よりなつている。冷却ガス循環装置は
冷却ガス流量調節弁および冷却装置を備えてい
る。
上記のように構成されたバツチ焼鈍装置におい
て、特定の領域で所定の温度勾配を与えながら金
属コイルを加熱するには、まず金属コイルを載置
したベースプレートを下降させて、金属コイルを
ボトムチヤンバー内に収納する。ついで、ベース
プレートを徐々に上昇させる。このとき、金属コ
イルのボトムチヤンバーから上方に突出した部
分、すなわちインナカバー内に入つた部分は上記
加熱手段により加熱された二次再結晶が進む。金
属コイルのボトムチヤンバー内の部分は一次再結
晶のままの状態である。この二次再結晶領域と一
次再結晶領域との境界領域、すなわち金属コイル
のボトムチヤンバー開口部付近に位置する部分が
所定の温度勾配となるように上記加熱手段、金属
コイルの上昇速度、さらにこれらに加えてベース
プレートの冷却手段をそれぞれ調整する。冷却手
段の調整は冷却ガスの流量を調整することによつ
て行われる。
この発明の装置ではベースプレート内に冷却ガ
スを流し、ベースプレート上面を冷却するように
しているので上記境界領域に大きな温度勾配を与
えることができる。またベースプレート内を流れ
る冷却ガスは冷却ガス循環装置において流量が調
節されるので、所要の温度勾配を得ることができ
る。
以下、この発明の実施例について説明する。
第2図はこの発明のバツチ焼鈍装置の一例を示
す縦断面図である。なお、第2図において第1図
に示す従来装置の部材と同一の部材には同一の参
照符号を付け、以下これら部材の説明は省略す
る。
ボトムチヤンバー11は上端にフランジ13を
有する円筒状胴体12と底部材14よりなつてお
り、耐火レンガにより構築されている。胴体12
と底部材14とは分解、組立が容易なように分割
されており、両者の間にサンドシール15を設け
てボトムチヤンバー11内への大気の侵入を防い
でいる。また、胴体12内周面には柔軟で弾力性
をもつた断熱材16(たとえばセラミツクフアイ
バーブロツク)で内張りされている。断熱材16
で内張りされた胴体12の内径は金属コイルCの
外径より僅かに小さく、コイルC外周面が断熱材
16に摺動するようにしている。このように構成
されたボトムチヤンバー11はフランジ13にお
いて支柱21により床23上に支持されている。
なお、炉体1はフランジ13上に載置され、炉
体1とボトムチヤンバー11との間はサンドシー
ル25および液体シール26により気密が保たれ
る。また、インナカバー2もフランジ13上に載
置され、サンドシール28によりシールされる。
ボトムチヤンバー11内には胴体12と同軸に
して底部材14より上方に突出するようにして円
柱状の固定ベース31が設けられている。固定ベ
ース31は耐火レンガ製であつて、中心に雰囲気
ガス供給孔32が貫通している。固定ベース31
の、ボトムチヤンバー11の開口部17に位置す
る部分は仕切部33となつている。仕切部33の
外周面には胴体12内周面に内張りされた断熱材
16と同じ断熱材34が張り付けられている。仕
切部33の外径はコイルCの内径より僅かに大き
く、コイルC内周面が仕切部33外周面を摺動す
るようになつている。また、仕切部33の上端は
ボトムチヤンバー11の上面と同じ高さに位置し
ている。仕切部33の上、下はそれぞれ若干直径
が小さく、それぞれ第1加熱部35および加熱部
37となつている。各加熱部35,37には電熱
ヒーター36,38が取り付けられている。第2
加熱部37の下端から底部材14の間は基部39
であり、上記仕切部33と同径であり、仕切部3
3と同じ断熱材40が張り付けられている。
ベースプレート41は環状をしており、内径は
コイルC内径と等しいか、これよりやや小さく、
外径はコイルC外径と等しいか、これよりやや大
きい。ベースプレート41内部には第3図および
第4図に示すように円周に沿つて3つの冷却ガス
流路42が半径方向に間隔をおいて設けられてい
る。冷却ガス流路42には冷却ガス供給管45お
よびこれより円周方向に180゜離れた位置にある
冷却ガス排出管46が連通している。両管45,
46はボトムチヤンバー11の底部材14を貫通
し、たわみ管47を介して次に述べる冷却ガス循
環装置51に接続されている。なお、両管45,
46がボトムチヤンバー11の底部材14を貫通
する部分にはダイナミツクベローズ48が取り付
けられており、ボトムチヤンバー11内の気密を
図つている。また、両管45,46の途中にベロ
ーズ49を設け、装置運転中に生ずる熱膨脹を吸
収するようにしている。
第5図は上記冷却ガス循環装置51の系統図で
ある。
冷却ガス循環装置51は冷却ガス溜52に供給
元弁53および遮断弁54を介してブロアー55
が接続されている。ブロアー55は流量調節弁す
なわち温度調節弁56を介して上記冷却ガス供給
管45に接続されている。一方、冷却ガス排出管
46は冷却器57を介してブロアー55入側に接
続されている。
前記ベースプレート41は環状の断熱材61お
よび中間部材63を介して支柱67により支持さ
れている。熱膨脹を吸収するために、中間部材6
3に設けられたピン孔64および支柱67頂部に
設けられたピン孔(図示しない)に挿入されたピ
ン65を介して中間部材63と支柱67とが連結
されている。支柱67の下部はボトムチヤンバー
11の底部材14を貫通している。この貫通部分
にはダイナミツクベローズ69が取り付けられて
おり、ボトムチヤンバー11内の気密を保つてい
る。
上記支柱67の基部は昇降駆動装置71に連結
されている。昇降駆動装置71は減速機付きモー
ター72およびこれに駆動されるスクリユージヤ
ツキ73を備えている。スクリユージヤツキ73
は垂直に延びる連結棒74を介してガイドプレー
ト76に連結されている。ガイドプレート76の
両端は床23に固定されたガイドポスト77に案
内されている。そして、ガイドプレート76は前
記支柱67の基部を支持している。
なお、前記ボトムチヤンバー11の底部材14
にはパージガス給気管81およびパージガス排気
管82が取り付けられている。
つぎに、以上のように構成されたバツチ焼鈍装
置により電磁鋼板コイルを二次再結晶焼鈍する方
法について説明する。
まず、炉体1およびインナカバー2を取り除い
た状態でベースプレート41を第2図に示す上限
位置にセツトする。そして、ベースプレート41
上に一次再結晶焼鈍を終えた電磁鋼板コイルCを
載置する。続いて、コイルCをインナカバー2で
覆い、更にインナカバー2を炉体1で覆う。炉体
1内は冷却ガス吹込み管7から、またインナカバ
ー2内は雰囲気ガス供給孔32からそれぞれN2
ガスを供給し、これらの内部をパージする。ボト
ムチヤンバー11内はパージガス給気管81およ
び排気管82によりN2ガスを給、排気してパー
ジされる。
上記パージが終つたならば、炉体1内側に取り
付けた電熱ヒーター5により、たとえば10〜70
℃/Hの加熱速度でインナカバー2内の雰囲気ガ
スN2を加熱する。このとき固定ベース31の第
1電熱ヒーター36を併用してもよい。インナカ
バー2内の雰囲気ガスの温度が第6図に示すよう
に室温T0から所定温度T1(600〜650℃)まで上
昇したならば、期間A(10〜20時間)の間、炉内
を均熱保持する。炉内均熱開始時に雰囲気ガス
N2をAXガスに切換える。この炉内均熱により雰
囲気ガスは所定の露点(−5〜−10℃以下)に保
持され、コイルCに塗布された焼鈍分離剤から放
出される水分がコイルCの冷却時に結露すること
はない。
炉内均熱が終つたならば、昇降駆動装置71に
よりコイルCを下限まで下げ、ボトムチヤンバー
11内に収納する。このとき、コイルCの上端は
ボトムチヤンバー11の上端および固定ベース3
1の仕切部33の上端と同じ高さに並んでいる。
そして、コイルCはこれの上端部の温度が930℃
以上になるまで期間B、ボトムチヤンバー11内
で待機される。この間、炉内温度およびコイルC
上端部の温度は上昇するが、コイルCと仕切部3
3とによりインナカバー2と仕切られたボトムチ
ヤンバー11内は温度が低いためコイルCの下部
は若干温度が下る。
待機期間Bが経過してコイルC上端の温度が
930℃以上になると、再び昇降駆動装置71を駆
動して20〜600mm/Hの速度でコイルCを上昇す
る。コイルCは徐々にボトムチヤンバー11から
インナカバー2内に送り出され、コイルCのイン
ナカバー2内に露出する部分とボトムチヤンバー
11内にある部分との境界領域に温度勾配が生じ
る。炉内加熱速度およびコイル上昇速度は上記温
度勾配が2℃/cm以上となるように調整される。
コイルCがある程度インナカバー2内に入り込む
と、コイルCのボトムチヤンバー11内にある部
分もかなり昇温し、所定の温度勾配がとれなくな
る。この時点より若干前の時点aよりベースプレ
ート41の冷却を開始する。
ベースプレート41の冷却は冷却ガス供給管4
5を介して冷却ガス循環装置51よりインナカバ
ー2内の雰囲気ガスと同じガスをベースプレート
41内の冷却ガス流路42に供給する。(N2ガス
でもよい。)冷却ガス流路42に送られたガスは
ベースプレート41を冷却して昇温し、冷却ガス
排出管46を経て、冷却器57に至る。冷却器5
7で冷却された冷却ガスはブロアー55により再
びベースプレート41に圧送される。冷却ガス流
量は前記温度勾配に応じて温度調節弁56により
調節される。
このようにして、コイルCを上端から徐々に下
端に向つて加熱して行き、コイルCの下端がボト
ムチヤンバー11を出た時点bでベースプレート
41の上昇を一時停止する。このとき、コイルC
の上端部はほぼ所定温度T2(1150〜1200℃)に
達している。また、ベースプレート41の冷却は
コイルC下端部の温度が930℃以上になるまで
(期間C)続けられる。なお、炉内温度が所定温
度T2に達したとき、インナカバー2内の雰囲気
ガスはAXガスからH2ガスに切り換えられる。
コイルCは下端部が1150℃以上になるまで均熱
保持される。この均熱が終了(時点C)すると炉
体1内に冷却ガス吹込管7から冷却ガスを吹き込
み、インナカバー2と共にコイルCを冷却する。
コイルCが所定温度まで下ると、炉体1を取り去
り、更にインナカバー2とコイルCとを大気中で
冷却する。そして、冷却完了後、インナカバー2
を取り去つて一連の焼鈍作業が完了する。
なお、コイルCの寸法が大きい場合、炉体1の
内側に設けた電熱ヒーター5のみでは、コイルC
のインナカバー2内に入り込んだ部分を十分に加
熱できず、所要の温度勾配が得られないことがあ
る。この場合、固定ベース31の第1電熱ヒータ
ー36で補助加熱する。また、コイルC全体を
1150℃以上の温度で均熱保持する際、コイルC下
端部からベースプレート41を経て熱が放出され
る。このとき、ベースプレート41は冷却されて
おらず、また断熱材61によつて熱の放出が防止
されている。しかし、コイルCのサイズによつて
は熱の放散によりコイルC下端部の温度保持が困
難なことがある。この場合、固定ベース31の第
2電熱ヒーター38により補助加熱を行う。
この発明は上記実施例に限られるものではな
い。
たとえば、加熱手段として電熱ヒーター5に代
えて直火式バーナーを用いてもよく、炉体1の周
壁のみならず天井にも加熱手段を配設してもよ
い。
ベースプレート41の冷却ガス流路42の数も
3つに限られるものではない。流路数は流路の断
面、冷却ガス流量、コイル下端からの抜熱条件、
ベースプレートに生じる熱応力などを考慮して決
められる。半径方向に間隔をおいて複数の冷却ガ
ス流路42を設けることにより、ベースプレート
41上面を一様に冷却することができる。また、
冷却ガス流路42は複数であつても1つの冷却ガ
ス供給管45および冷却ガス排出管46に連通さ
せることが構造を簡単にする点から望ましい。冷
却ガス供給管45および冷却ガス排出管46は円
周方向に180度の間隔をおかずに隣接するように
して配置してもよい。
また、ボトムチヤンバー11および固定ベース
31にそれぞれ張り付けられた断熱材16,3
4,40あるいは固定ベース31に取り付けられ
た電熱ヒーター36,38は必須のものではな
い。断熱材16,34を設けない場合には、ボト
ムチヤンバー11内周面とコイルC外周面との間
の間隙および仕切部33外周面とコイルC内周面
との間の間隙は、インナカバー2内の高温雰囲気
ガスがボトムチヤンバー11内に流入してボトム
チヤンバー11内を許容温度以上としない程度
(たとえば1〜5mm)にとられる。さらに、昇降
駆動装置71の減速機付モーター72およびスク
リユージヤツキ73に代えて油圧ジヤツキを用い
てもよい。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のバツチ焼鈍装置の一例を示す縦
断面図、第2図はこの発明のバツチ焼鈍装置の一
例を示す縦断面図、第3図は第2図の装置のベー
スプレートの一部断面平面図、第4図は第3図の
―線に沿う断面図、第5図は第2図に示す装
置に用いられる冷却ガス循環装置の系統図および
第6図は炉内温度、コイル温度、コイル位置の時
間による変化を示す線図である。 1…炉体、2…インナカバー、3…ベースプレ
ート、11…ボトムチヤンバー、12…チヤンバ
ー胴体、14…チヤンバー底部材、31…固定ベ
ース、33…仕切部、41…ベースプレート、4
2…冷却ガス流路、51…冷却ガス循環装置、5
6…温度調節弁、57…冷却器、71…昇降駆動
装置。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 内側に加熱手段を備えた着脱自在なベル形炉
    体、炉体内に設けられたベースプレート、および
    ベースプレート上にコイル軸を垂直にして載置さ
    れた金属コイルを覆う着脱自在なインナカバーを
    備えた装置において、上方に向つて開口し、内径
    が金属コイルの外径よりやや大きく、金属コイル
    の収納可能なボトムチヤンバーが前記炉体の下方
    に設けられており、ボトムチヤンバー内にはこれ
    と同軸に、ボトムチヤンバー底部から上方に延び
    る柱状の固定ベースが設けられており、固定ベー
    スは外径が金属コイルの内径よりやや小さく、ボ
    トムチヤンバーの開口部に位置する仕切部を有
    し、前記ベースプレートは環状をなし、内部に環
    状の冷却ガス流路が設けられており、冷却ガス流
    路は冷却ガス流量調節弁およびガス冷却器を含む
    冷却ガス循環装置に連絡しており、さらに前記ベ
    ースプレートは前記ボトムチヤンバーの底部を貫
    通し昇降自在な支持部材に支持されており、支持
    部材の下端部は昇降駆動装置に連結されているこ
    とを特徴とするバツチ焼鈍装置。
JP21469282A 1982-10-30 1982-12-09 バツチ焼鈍装置 Granted JPS59107033A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21469282A JPS59107033A (ja) 1982-12-09 1982-12-09 バツチ焼鈍装置
US06/542,193 US4502671A (en) 1982-10-30 1983-10-14 Batch annealing apparatus
EP83110817A EP0108357B1 (en) 1982-10-30 1983-10-28 Batch annealing apparatus
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KR101365522B1 (ko) * 2011-12-12 2014-02-20 (주)포스코 방향성 전기강판의 열처리장치

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